• 粒子特性評価

      粒子解析の新たな探査機

      粒子についてよく知れば、素材の挙動をより的確に予測できるようになります。測定パラメーターには、粒径、孔径、粒子の形状、内部構造、ゼータ電位、表面積、反応面積、密度、粉体流など様々なものがあります。アントンパール社は、これら全てのパラメーターのほか、さらに幅広い粒子特性評価に対応する装置を提供しています。多様な製品シリーズに加え、この分野において長年にわたり蓄積された当社のあらゆる知見をご活用いただけます。

  • アプリケーション、パラメーター、テクノロジー:ニーズに合った装置を見つけよう

    様々な目的に応じたアプリケーション毎の技術資料、測定可能な全てのパラメーターの概要や粒子特性評価に使用されるテクノロジーなどを切り替えて確認いただけます。

    切り替えて粒子分析アプリケーションを表示する


  • パラメーターをクリックすると、粒子特性評価の分野ごとに製品が表示されます。表のしぼり込み機能でテクノロジーを選択すると、測定対象別の情報が表示されます。

    装置名をクリックすると、特長や仕様の詳細が表示されます。

    細孔径
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    粒径
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    比表面積
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    サンプルの前処理
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    密度
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    反応面積
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    蒸気取り込み
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    セルの多孔性
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    粒子の形状
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    ゼータ電位
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    パウダーフロー特性
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    ガスの貯蔵容量
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    測定タイプ
    テクノロジー
    選択項目:全てのフィルター をリセット

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    測定タイプ

    テクノロジー

    分散のタイプ

    測定範囲
    比表面積範囲 ガス吸着(BET)、流動法BET解析 測定可能な最小比表面積
    0.1 m²/g
    Autosorb 6iSA
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    比表面積範囲/細孔径範囲 ガス吸着 比表面積、細孔径
    2~500 nm (NまたはAr)
    0.35~2 nm (CO₂ on C)
    測定可能な最小比表面積
    0.1 m²/g
    比表面積、細孔径 ガス吸着(物理吸着、化学吸着) 乾式 細孔径範囲
    0.35~500 nm
    測定可能な最小比表面積
    0.0005 m²/g~(クリプトン)、0.01 m²/g~(N₂)
    (かさ)密度、パウダーフロー特性 タップ密度 乾式 1~1000 cm³
    反応面積 ガス吸着(化学吸着) 乾式
    サンプルの前処理 真空、流体脱気 乾式
    ガスの貯蔵量 高圧、ガス吸着 乾式
    粒径 動的光散乱 液体 粒径範囲
    0.3~10 nm
    粒径、ゼータ電位 動的光散乱、電気泳動光散乱(ELS)、静的光散乱(SLS) 液体 粒径範囲
    0.3~10 nm
    MasterPrep Degasser
    製品の詳細を表示 お問い合わせ
    サンプルの前処理 真空、流体脱気 乾式
    パウダーフロー特性 複数の粉体流の測定方法、レオロジー 乾式/湿式 粒径範囲
    5 nm~5 mm
    パウダーフロー特性、密度 せん断テスト 乾式/湿式
    (真)密度 ガスピクノメトリー 4~135 cm³
    (真)密度 ガスピクノメトリー 0.25~4.5 cm³
    (真)密度 ガスピクノメトリー 4~135 cm³
    (真)密度 ガスピクノメトリー 4~135 cm³
    サンプルの前処理 代表サンプリング 乾式 サンプル量範囲
    20 cc
    比表面積、細孔径 ガス吸着 乾式 細孔径範囲
    0.35~500 nm / 2~500 nm (NまたはAr)
    0.35~2 nm (CO₂ on C)
    測定可能な最小比表面積
    0.01 m²/g
    細孔径 ポロシメトリー 乾式 サンプル量範囲
    0.05 cc
    孔径範囲
    1100~0.0064 µm
    粒径 レーザー回折・散乱法 乾式/湿式 粒径範囲
    0.1 μm(乾式)/0.04(湿式)~500 μm
    粒径 レーザー回折・散乱法 乾式/湿式 粒径範囲
    0.1 μm(乾式)/0.04(湿式)~2500 μm
    粒径 レーザー回折・散乱法 乾式/湿式 粒径範囲
    0.3 μm(乾式)/0.2(湿式)~500 μm
    比表面積、細孔径 ガス吸着 乾式 細孔径範囲
    0.35~500 nm
    0.35~2 nm (CO₂ on C)
    測定可能な最小比表面積
    0.01 m²/g、0.0005 m²/g
    粒径、粒子の形状、内部構造 SAXS、WAXS、GISAXS 乾式/湿式 粒径範囲/孔径範囲
    1~105 nm(q範囲(Cu K-alpha): 0.03 ~41 nm⁻¹)
    SAXSpoint 2.0
    製品の詳細を表示 お問い合わせ
    粒径、粒子の形状、内部構造 SAXS、WAXS、GISAXS 乾式/湿式 粒径範囲/孔径範囲
    1~160 nm(q範囲(Cu K-alpha): 0.02 ~41 nm⁻¹)
    (開放)気泡の含有量 ガスピクノメトリー 乾式 4~135 cm³
    Pentafoam 5200e
    製品の詳細を表示 お問い合わせ
    (開放)気泡の含有量 ガスピクノメトリー 乾式 4~135 cm³
    蒸気取り込み 蒸気吸着 乾式
    サンプルの前処理 真空脱気 乾式

     

     

    アントンパール社が提供する粒子特性評価ソリューション

    粒径分布測定装置

    粒子は複雑な場合もありますが、粒子の評価が必ずしも複雑なわけではありません。LitesizerとPSAシリーズなら、ボタンを押すだけで粒径分布を測定できます。さらに次のような特長も備えています。

    • Litesizerシリーズ: 動的光散乱を用いた、ナノメートルからマイクロメートルまでの範囲のゼータ電位、分子量、透過率、屈折率を含む粒径解析。
    • PSAシリーズ: 湿式又は乾式分散によるミリメートル領域までの粒径分布測定に対応するレーザー回折装置。
    • 少量サンプル、有機溶媒での測定、オートサンプラーの使用などを可能にする専用アクセサリ。
    • 粒子解析にフォーカス: どちらの装置もKalliopeソフトウェアが使用できるため、測定担当者の負担を最小限に抑えることができます。

    さらに詳しく

    真の粉体レオロジー評価

    粉体流動セル粉体せん断セルの2つのセルとMCRレオメータの組み合わせによって真の粉体レオロジー測定を行うことで、粉体の特性を十分に評価し、理解することができます。

    • 定評あるMCRレオメータによる極めて高精度の粉体分析。
    • サンプル前処理モードと完全自動測定による高い再現性。
    • 品質管理用途にも研究開発用途にも対応可能な多数の測定モード。
    • 温度オプションと湿度オプションを備えた唯一のせん断セル。

    さらに詳しく

    ガス吸着測定装置

    ガス吸着測定装置では、インテリジェントな装置設計と高度なシミュレーション型データ解析モデルを組み合わせることが重要です。

    • 蒸気吸着、物理吸着、化学吸着、高圧吸着など広範囲なアプリケーションに対応。
    • 多検体測定とサンプル前処理オプション機能を備えた全自動システム。
    • 触媒、医薬品、電池材料、吸着剤、その他の全ての多孔性材料の孔径、表面積、気体/固体の相互作用の分析に最適。
    • 高度なデータ解析モデルと簡単なレポート出力によって、従来の材料と複雑な先端材料の双方に対応。

    さらに詳しく

    水銀圧入ポロシメータ

    マクロ多孔性材料の空孔性の測定に最も広く使われている方法です。

    • 水銀を扱う場合でもオペレータが最も安全に作業できる設計。
    • 簡素化された水銀圧入方式や自動オイルパージなどの機能により、PoreMasterが、最も使いやすい水銀圧入ポロシメータを実現。
    • ウォームジャッキ方式の自動昇圧速度制御による圧力発生機構によって、究極の高圧データ分解能を実現。
    • 水銀の充填、低圧測定、高圧測定を、通常30分以内で完了。

    さらに詳しく

    固体密度計

    最高の精度で必要な全ての固体密度値を1台の装置で計測します。

    • 真(骨格)密度、タッピングかさ密度、幾何学的密度の測定に対応可能な装置群。

    • 1台の装置で最も広い測定範囲に対応し最高の精度を実現。
    • 液体水銀を使用せずに幾何学的密度を測定可能。
    • ガスピクノメトリーにより完全に非破壊的な方法で真密度の結果を取得。

      さらに詳しく

      SAXSシステム:

      SAXSpaceとSAXSpoint 2.0は、ナノ粒子研究に最適な優れた小角分解能と最高のデータ品質を提供する小角X線散乱システムです。

      • 優れたX線源と光学系により、最高のスペクトル純度とフラックスを実現。
      • 寄生散乱を極限まで抑えたコリメーションと最先端のハイブリッド光子カウント(HPC)検出器により、高いS/N比と優れたデータ品質を実現。
      • 様々なサンプルステージにより、温度と雰囲気が制御された状態での粒子構造評価を実現。
      • 長い稼働時間、高いサンプルスループット、低い維持費。

      さらに詳しく

    • 3年保証

      • 2020年1月1日から、アントンパール社の全ての新しい装置*には、3年間の修理サービスが含まれます。
      • お客様は、予期せぬコストを回避し、常に安心して装置をご利用いただけます。
      • 保証に加えて、幅広い追加サービスとメンテナンスオプションもご用意しています。

      *使用されているテクノロジーにより、決められた期間ごとにメンテナンスを必要とする装置があります。該当する装置について3年保証をご利用いただくには、定期的にメンテナンスを行う必要があります。

      さらに詳しく

    • はじめから最高性能の装置を

      アントンパール社は粒子の特性に応じた各種装置を取り揃えていますが、どの装置にも共通していることがひとつあります。いずれも、その種類では初の装置であり、今なお、その分野で主要な装置であり続けていることです。例えば、1967年に開発されたPSAは、レーザー回折・散乱法テクノロジーを使用した最初の粒径分布測定装置です。また、初の商用小角X線散乱(SAXS)カメラは、Otto Kratkyが1957年に開発し、アントンパール社が製造したものです。アントンパール社のSAXSシステムは現在もなお、このテクノロジーに関する基準となる装置です。当社ブランドの1つであるカンタクローム・インスツルメンツがトップブランドへの歩みを開始したのは1968年のことです。それ以来、献身的な科学者たちのチームが、利用者と密に連携しながら新機軸の開発を進め、多孔性素材や粉体を対象とする、考えうる最高の測定装置を作り出してきました。

    粒子特性評価におけるアントンパール社の専門知識を、粒子研究や素材開発にご活用ください。

    アントンパール社は、各種の測定装置に加えて、技術の応用に関するコンサルティングや情報提供も行っています。アプリケーションレポート、Anton Paar WikiAnton Paar Blog、Webinarで、以下に挙げるような、粒子特性評価に関する掘り下げた知識を提供しています。 

    新しいアプリケーション分野を探求し、製造、品質管理、製品開発において最大限の成果を達成するために、これらのリソースと長年の経験に基づく当社の専門知識をご活用ください。装置やアプリケーションについて、直接お問い合わせいただくこともできます。

    お問い合わせ

    アントンパール技術センターでの体験講習にご参加ください。

    弊社の測定装置の活用方法を実際に体験してみませんか? 技術センターで体験可能な装置と、お近くの地域での粒子特性評価セミナーの開催予定についてご確認ください。

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