測定 | 手法 | 分散の種類 | 測定範囲 | |
|---|---|---|---|---|
| 比表面積、細孔径 | ガス吸着 (物理吸着、化学吸着) | 乾式 | 細孔径範囲 0.35～500 nm 測定可能な最小比表面積 0.0005 m²/g～ (Kr)、0.01m²/g～ (N₂) | |
| (かさ) 密度、粉体の流動特性 | タップ密度 | 乾式 | 1～1000 cm³ | |
| 反応面積 | ガス吸着 (化学吸着) | 乾式 | ||
| サンプル前処理 | 真空、流体脱気 | 乾式 | ||
| ガス貯蔵量 | 高圧、ガス吸着 | 乾式 | ||
| 粒子径 | 動的光散乱法 | 湿式 | 粒子径範囲 0.3 nm～10 µm | |
| 粒子径、ゼータ電位 | 動的光散乱法、電気泳動光散乱法 (ELS)、静的光散乱法 (SLS) | 湿式 | 粒子径範囲 0.3 nm～10 µm | |
| 粉体の流動特性 | 複数の粉体流の測定方法 レオロジー | 乾式 / 湿式 | 粒子径範囲 5 nm～5 mm | |
| 粉体の流動特性、密度 | せん断テスト | 乾式 / 湿式 | ||
マイクロロータリー縮分器 製品の詳細を表示 お問い合わせ | サンプル前処理 | 代表サンプリング | 乾式 | サンプル量範囲 20 cc |
| 比表面積、細孔径 | ガス吸着 | 乾式 | 細孔径範囲 0.35～500 nm / 2～500 nm (N2 または Ar) 0.35～2 nm (CO₂ on C) 測定可能な最小比表面積 0.01 m²/g | |
Pentafoam 5200e 製品の詳細を表示 お問い合わせ | (開放) 気泡の含有量 | ガスピクノメトリー | 乾式 | 4～135 cm³ |
Pentapyc 5200e 製品の詳細を表示 お問い合わせ | (真) 密度 | ガスピクノメトリー | 4～135 cm³ | |
| 細孔径 | ポロシメトリー | 乾式 | サンプル量範囲 0.05 cc 細孔径範囲 1100～0.0064 µm | |
| 粒子径 | レーザ回折・散乱法 | 乾式 / 湿式 | 粒子径範囲 0.1 μm (乾式) / 0.04 μm (湿式) ～500 μm | |
| 粒子径 | レーザ回折・散乱法 | 乾式 / 湿式 | 粒子径範囲 0.1μm (乾式) / 0.04 μm (湿式) ～2500 μm | |
| 粒子径 | レーザ回折・散乱法 | 乾式 / 湿式 | 粒子径範囲 0.3 μm (乾式) / 0.2 μm (湿式) ～500 μm | |
| 比表面積、細孔径 | ガス吸着 | 乾式 | 細孔径範囲 0.35～500 nm 0.35～2 nm (CO₂ on C) 測定可能な最小比表面積 0.01 m²/g (N2)、0.0005 m²/g (Kr) | |
| 粒子径、粒子形状、内部構造 | SAXS、WAXS、GISAXS | 乾式 / 湿式 | 粒子径範囲 / 細孔径範囲 1～105 nm (q 範囲 (Cu K-α)：0.03～41 nm⁻¹) | |
| 粒子径、粒子形状、内部構造 | SAXS、WAXS、GISAXS | 乾式 / 湿式 | 粒子径範囲/細孔径範囲 1～160 nm (q範囲 (Cu K-α)：0.02～41 nm⁻¹) | |
| (真) 密度 | ガスピクノメトリー | 4～135 cm³ | ||
| (真) 密度 | ガスピクノメトリー | 4～135 cm³ | ||
| (開放) 気泡の含有量 | ガスピクノメトリー | 乾式 | 4～135 cm³ | |
| (真) 密度 | ガスピクノメトリー | 0.25～4.5 cm³ | ||
| 水蒸気吸収量 | 蒸気吸着 | 乾式 | ||
| サンプル前処理 | 真空脱気 | 乾式 | ||
| 粒子径、相純度、結晶構造 | XRD、SAXS、WAXS | 結晶サイズ 5～500 nm 相分離率 > 0.1 % |
粒子径分布測定装置
粒子は複雑な場合もありますが、粒子の評価が必ずしも複雑なわけではありません。Litesizer シリーズと PSA シリーズなら、ボタンをクリックするだけで粒子径分布を測定できます。さらに次のような特長も備えています。
- Litesizer シリーズ：動的光散乱法を用いた、ナノメートルからマイクロメートルまでの範囲のゼータ電位、分子量、透過率、屈折率を含む粒子径解析
- PSA シリーズ：レーザ回折・散乱法を用いた、湿式又は乾式分散によるミリメートル領域までの粒子径分布測定
- 少量サンプル、有機溶媒での測定、オートサンプラーの使用などを可能にする専用アクセサリー
- 粒子解析に集中できる：どちらの装置も Kalliope ソフトウェアが使用できるため、測定担当者の負担を最小限に抑えることができます
はじめから最高性能の装置を
アントンパール社では粒子の特性に応じた各種装置を取り揃えていますが、どの装置にも共通していることがひとつあります。いずれも、その種類では初の装置であり、今なお、その分野で主要な装置であり続けているということです。例えば、1967年に開発された PSA は、レーザ回折・散乱法を使用した最初の粒子径分布測定装置です。また、初の商用小角 X 線散乱 (SAXS) カメラは、Otto Kratky が 1957 年に開発し、アントンパール社が製造したものです。現在でも、アントンパール社の SAXS システムは、この技術に関する基準となっています。当社ブランドの 1 つであるカンタクローム・インスツルメンツがトップブランドへの歩みを開始したのは 1968 年のことです。それ以来、専任の科学者チームが、ユーザーと密接に連絡を取り合いながら技術革新を進め、多孔性物質や粉体を対象とする、最適な測定装置を実現してきました。
粒子特性評価におけるアントンパール社の専門知識を、粒子研究や材料開発にご活用ください。
アントンパール社では、各種の測定装置に加えて、技術の応用に関するコンサルティングや情報提供も行っています。アプリケーションレポート、Anton Paar Wiki、ウェビナーで、以下に挙げるような、粒子特性評価に関する掘り下げた知識を提供しています。
- 動的光散乱法 (DLS)：粒子径測定の基本概念
- 粒子径測定
- 粒子分析装置の選択方法
- 粒子径測定用のレーザ回析・散乱法
- 粉体レオロジー
- 小角 X 線散乱 (SAXS) によるナノ構造分析
- 比表面積の測定
- BET 理論
- ゼータ電位の測定方法 (ELS)
- 細孔径の測定手法
- X 線回折 (XRD)
- その他
新しいアプリケーション分野を探求し、製造、品質管理、製品開発において最大限の成果を達成するために、これらのリソースと長年の経験に基づく当社の専門知識をご活用ください。装置やアプリケーションについて、直接お問い合わせいただくこともできます。