粉粒體特性分析

粉粒體特性分析

粉粒體分析的新境界

您越瞭解粉粒體,就越能預測材料的行為。在這些研究中需要測量的參數包含粒徑、孔徑、粒子形狀、內部結構、zeta 電位、表面積、反應面積、密度、粉體流動、相純度、晶體結構等等。安東帕為您提供測量所有參數的儀器,是最全方位粉粒體特性分析產品系列的全球單一供應商。只需聯絡單一窗口,就能選擇多種儀器,由累積數十年專業知識的各領域專家幫助您。 

應用、參數、技術:找出最適合您的組合!

在不同用途的應用說明之間切換,概觀所有可測量參數,並顯示用於粉粒體特性分析的技術。

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造粒和乾燥:壓片的挑戰

藥錠的製造除了使用活性藥物成分 (API),也會使用賦形劑來改善粉末的加工和最終劑型的品質。壓製藥錠是一個包含多個步驟的製程,成功與否取決於所用儀器的參數和粉末的處理。造粒與乾燥尤其需要適當的賦形劑組合。本應用報告調查研磨和篩選過後的賦形劑具備的水分吸收能力及甲基纖維素,評估其在濕式造粒過程中的行為。此外也在不同的溫度下對相同的賦形劑進行測試,以重現流體化床乾燥機的乾燥效果。結果發現濕式造粒過程中吸收的水分量及乾燥過程中的連續溫度效應對於流量和壓縮特性都會造成影響。

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觸媒特性分析

在催化劑反應之前以及在其消耗形式時進行特性分析,可以提供關於催化過程的有效性和效率等重要資訊,並作為未來催化劑的設計指導。在這方面,最重要的參數是孔徑大小、孔隙體積、活性表面積、粒徑、表面酸性、流化行為和內聚性質。

下載此應用報告,瞭解如何使用安東帕儀器進行實驗以得到這些參數的深入見解,及其如何協助催化劑的開發和品質控制。

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食品特性分析

食品粉末配方、製造和包裝過程重視每批間的一致性,以確保消費者的安全和忠誠度。使用安東帕儀器量測食品粉末的密度、粒徑、內聚強度、可壓縮性和滲透性,從實驗中得到的見解可以幫助提高食品粉末的品質和一致性。本應用報告著重於奶粉和通用麵粉,因為它們是普遍可得的產品,也是許多其他食品和營養補充劑的關鍵成分。

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金屬粉末特性分析

金屬粉末應用於許多粉末冶金操作,例如積層製造。為了確保產品的高品質,粉末的性質極為重要。典型的粉末分析方法包括粉末流變測定、動態光散射、BET 和密度測量。

下載應用報告,以瞭解這些互補方法如何用於測定流動性質、孔隙率、可壓縮性、填充密度、粉粒體分布等等。您可使用一套能夠執行這些方法的儀器來分析金屬粉末特性,確保生產過程中的流暢性以及燒結產品的穩定性,並確定過去生產的過量金屬粉末是否仍然可用。

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研究食物的性質

食品中的顆粒大小不僅影響生產過程的許多方面 (例如運輸、儲存、保存期限),還會大幅影響感官性質,例如味道和口感。

PSA 粒徑分析儀能夠測量液體和乾式分散體,其測量範圍廣泛,涵蓋奈米到毫米尺寸,非常適合食品產業的生產和品質控制要求。

下載應用報告,瞭解應用雷射繞射技術分析食物特性的好處。

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由細胞培養液分離出來的胞外泌體之特性分析

胞外泌體作為藥物遞輸系統的潛力已得到長久以來的認可。本應用報告介紹 Litesizer™ 500 如何有效進行胞外泌體粒徑的特性分析,該標準可用於監測體外胞外泌體的穩定性。並進行 Zeta 電位測量,提供關於胞外泌體生物學功能的潛在有用訊息。

下載應用報告,瞭解胞外泌體的特性分析。

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快速靈敏的 zeta 電位測量

到目前為止,zeta 電位測量的最新技術是所謂的相分析光散射 (PALS),是以電泳光散射 (ELS) 為基礎的技術。本應用報告介紹「cmPALS」的新專利技術,該技術可明顯縮短測量時間並降低外加電場,能可靠分析敏感樣品。

下載應用報告,瞭解更靈敏且更穩定的 ELS 測量。

<link corp-en services-support document-finder application-reports faster-more-sensitive-zeta-potential-measurements-with-cmpals-and-the-litesizer-500>瞭解更多

點選參數,檢視安東帕的粉粒體特性分析應用領域。您可以利用表中的篩選條件尋找特定技術,並取得不同量測範圍的資料。

點選儀器可以展開該儀器詳細功能和規格。

孔徑
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粒徑
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表面積
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樣品製備
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密度
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反應面積
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相位純度
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蒸汽吸收
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單體孔隙度
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顆粒形狀
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Zeta 電位
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粉體流動特性
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氣體儲存容量
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晶體結構
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技術
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測量

技術

散布類型

測量範圍
表面積、孔徑氣體吸附 (物理吸附、化學吸附)乾燥孔徑範圍
0.35 nm 至 500 nm
可量測之最小表面積
從 0.0005 m²/g 起(使用氪);從 0.01 m²/g 起(使用氮氣)
(體) 密度、粉體流動特性振實密度乾燥1 cm³ 至 1000 cm³
反應面積氣體吸附 (化學吸附)乾燥
樣品製備真空、流動脫氣乾燥
氣體儲存容量高壓、氣體吸附乾燥
粒徑動態光散射液體粒徑範圍
0.3 nm 至 10 µm
粒徑、Zeta 電位動態光散射、電泳光散射 (ELS)、靜態光散射 (SLS)液體粒徑範圍
0.3 nm 至 10 µm
粉體流動特性多種粉體流動測量方法流變研究乾/液體粒徑範圍
5 nm 至 5 mm
粉體流動特性,密度剪切測試乾/液體
樣品製備代表性取樣乾燥體積範圍
20 cc
表面積、孔徑氣體吸附乾燥孔徑範圍
0.35 nm 至 500 nm;2 nm 至 500 nm(以N2或 Ar)
0.35 nm 至 2 nm(以碳上的CO₂)
可量測之最小表面積
0.01 m²/g
(開) 孔含量氣體比重瓶乾式4 cm³ 至 135 cm³
(真) 密度氣體比重瓶4 cm³ 至 135 cm³
孔徑孔隙度體積範圍
0.05 cc
孔徑範圍
1100 µm 至 0.0064 µm
粒徑雷射繞射乾/液體粒徑範圍
0.1 μm(乾) / 0.04 μm(溼)至 500 μm
粒徑雷射繞射乾/液體粒徑範圍
0.1 µm(乾)/0.04 µm(溼)至 2500 µm
粒徑雷射繞射乾/液體粒徑範圍
0.3 μm(乾)/ 0.2 μm(溼)至 500 μm
表面積、孔徑氣體吸附乾燥孔徑範圍
0.35 nm 至 500 nm
0.35 nm 至 2 nm(以碳上的二氧化碳)
可量測之最小表面積
0.01 m²/g(N2);0.0005 m²/g(Kr)
粒徑、顆粒形狀和內部結構SAXS、WAXS、GISAXS乾/液體粒徑範圍/孔徑範圍
1 nm 至 105 nm(q 範圍(Cu K-alpha):0.03 nm⁻¹ 至 41 nm⁻¹)
粒徑、顆粒形狀和內部結構SAXS、WAXS、GISAXS乾/液體粒徑範圍/孔徑範圍
1 nm 至 160 nm(q 範圍(Cu K-alpha):0.02 nm⁻¹ 至 41 nm⁻¹)
(真) 密度氣體比重瓶4 cm³ 至 135 cm³
(真) 密度氣體比重瓶4 cm³ 至 135 cm³
(開) 孔含量氣體比重瓶乾式4 cm³ 至 135 cm³
(真) 密度氣體比重瓶0.25 cm³ 至 4.5 cm³
蒸汽吸收蒸汽吸附乾燥
樣品製備真空脫氣乾燥
粒徑、相位純度、晶體結構XRD、SAXS、WAXS微晶尺寸 5 nm 至 500 nm 
相分數 >0.1%

 

安東帕的粉粒體特性分析解決方案

粒徑分析儀

粉粒體的組成可能非常複雜,但分析可以更簡單!Litesizer 和 PSA 系列只需要按一下按鈕,即可進行粒徑測量和其他測量功能:

  • Litesizer 系列:利用動態光散射進行粒徑分析,涵蓋從較小的奈米至較大的微米範圍,包括 zeta 電位、分子量、透射率和折射率測量
  • PSA 系列:利用雷射繞射進行液體和乾式分散體尺寸分析,可量測達毫米範圍
  • 可搭配專用配件,用於測量少量樣品、有機溶劑或自動進樣等。
  • 專注於您的粒子:Kalliope™ 軟體支援此兩種儀器,並最小化操作員的介入

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真正的粉體流變測量

兩個真正的粉體流變測量池,粉體流通池粉體剪切池結合 MCR Evolution 流變儀,協助您進行特性分析,以瞭解粉體:

  • 著名的 MCRe 流變儀粉體分析具有驚人的精確度
  • 樣品製備模式和全自動測量,實現高再現性
  • 多種測量模式,可用於品質管控和科學用途
  • 唯一配備溫度和濕度選項的剪切池

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吸附分析儀

在吸附分析中,結合使用智慧儀器設計和先進的計算資料簡化模型是非常重要的:

  • 適用於氣體吸附、物理吸附、化學吸附和高壓吸附的多種儀器
  • 全自動系統,具有多站分析和內建樣品製備選項
  • 相當適合分析催化劑、藥物、電池材料、吸附劑和其他所有多孔材料的孔徑、表面積和氣、固相互作用
  • 享譽國際的資料縮減模型和快速測量報告,適用於傳統和複雜的新材料

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壓汞測孔儀

最廣泛使用的大孔材料孔隙測定方法:

  • 提供最安全的操作流程,即使在使用汞時也能保障安全
  • PoreMaster 的液態汞導入和自動油淨化等功能,讓壓汞測孔儀操作起來更方便使用
  • 透過螺桿驅動提供的控制和智能壓力,完成最終的數據解析
  • 液態汞填充和低壓測量以及高壓測量通常在 30 分鐘內完成

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固體密度分析儀

從一個來源獲得所需的所有固體密度值,並達到最高的準確度:

  • 儀器產品系列包含真實或概略密度、振實體密度和幾何密度測量

  • 在單一儀器上實現最寬的測量範圍,並取得最高準確度的結果
  • 無需使用液態汞即可測量幾何密度
  • 氣體比重瓶以完全無損的方式提供真密度結果

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SAXS 小角度 X 光散射儀

SAXSpace 和 SAXSpoint 5.0 小角度 X 光散射系統,針對奈米顆粒研究提供出色的解析度和最佳的資料品質:

  • 優質的 X 射線源和光學元件,具有最高的光純度和光通量
  • 無散射光束準直及最先進的偵測器,可達到高訊號雜訊比及優異的數據品質
  • 有多種樣品槽可針對不同粉粒體特性分析,進行各種溫度與環境變化的控制
  • 儀器可進行長時間作業、處理大量樣品數和低成本的維護

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XRD 系統

XRDynamic 500 是一款自動化多用途粉末 X 射線繞射儀,可為所有樣品類型提供出色的數據品質:

 

  • 一流的解析度和訊噪比且開箱即用
  • TruBeam™ 概念特色是更大的測角儀半徑和真空光束路徑
  • 完全自動化適用於所有 X 射線光學元件、光束幾何形狀更改以及儀器和樣品校準
  • 用於反射、透射和 SAXS 測量的靈活樣品台

 

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三年保固

  • 2020 年 1 月 1 日生效,所有新的安東帕儀器*均享有 3 年的維修服務。
  • 客戶可以避免預期外的花費,並且隨時信賴其儀器。
  • 除了保固外,還提供多種額外服務和保養選項。

*由於所使用的技術,部分儀器需要根據保養時間表進行保養。遵照保養時間表是享有 3 年保固的先決條件。

深入瞭解

一開始就展現專業

與安東帕的粒子特性化產品組合一樣廣泛,許多儀器都有一個共同點:它們是同類產品中的第一款,並且仍是該領域的旗艦型儀器。例如,1967 年發明的 PSA,是首款使用雷射繞射技術的粒徑分析儀。首款商用的小角度 X 光散射 (SAXS) 攝影機,由 Otto Kratky 在 1957 年開發成功,安東帕生產製造。直至今日,安東帕 SAXS 系統仍是該技術領域的標竿。安東帕旗下品牌 Quantachrome Instruments,自 1968 年起一直是業界第一。從一開始便組成專門的科學技術團隊,創新開發過程,保持與使用者密切互動,因此能提出測量多孔性材料和粉體的最佳解決方案。

藉由安東帕粉粒體特性分析專業技術,協助您完成粉粒體研究與材料開發。

除了一系列的儀表儀器設備,安東帕還可提供各種應用諮詢和實用資訊。在安東帕 Wiki 上的應用報告及網路研討會中,您可獲得深入詳盡的顆粒特性分析知識,例如: 

利用這些資源和我們長久累積的粉粒體分析特性專業知識,您可探索新應用領域,取得生產、品質控制、產品開發的最佳成果。關於儀器與應用的任何問題,您都可直接與我們聯繫。

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