測量 | 技術 | 散布類型 | 測量範圍 | |
|---|---|---|---|---|
| 表面積、孔徑 | 氣體吸附 (物理吸附、化學吸附) | 乾燥 | 孔徑範圍 0.35 nm 至 500 nm 可量測之最小表面積 從 0.0005 m²/g 起（使用氪）；從 0.01 m²/g 起（使用氮氣） | |
| (體) 密度、粉體流動特性 | 振實密度 | 乾燥 | 1 cm³ 至 1000 cm³ | |
| 反應面積 | 氣體吸附 (化學吸附) | 乾燥 | ||
| 樣品製備 | 真空、流動脫氣 | 乾燥 | ||
| 氣體儲存容量 | 高壓、氣體吸附 | 乾燥 | ||
| 粒徑 | 動態光散射 | 液體 | 粒徑範圍 0.3 nm 至 10 µm | |
| 粒徑、Zeta 電位 | 動態光散射、電泳光散射 (ELS)、靜態光散射 (SLS) | 液體 | 粒徑範圍 0.3 nm 至 10 µm | |
| 粉體流動特性 | 多種粉體流動測量方法流變研究 | 乾/液體 | 粒徑範圍 5 nm 至 5 mm | |
| 粉體流動特性，密度 | 剪切測試 | 乾/液體 | ||
微量旋轉分樣器 顯示產品詳情送出請求 | 樣品製備 | 代表性取樣 | 乾燥 | 體積範圍 20 cc |
| 表面積、孔徑 | 氣體吸附 | 乾燥 | 孔徑範圍 0.35 nm 至 500 nm；2 nm 至 500 nm（以N2或 Ar） 0.35 nm 至 2 nm（以碳上的CO₂） 可量測之最小表面積 0.01 m²/g | |
Pentafoam 5200e 顯示產品詳情送出請求 | (開) 孔含量 | 氣體比重瓶 | 乾式 | 4 cm³ 至 135 cm³ |
Pentapyc 5200e 顯示產品詳情送出請求 | (真) 密度 | 氣體比重瓶 | 4 cm³ 至 135 cm³ | |
| 孔徑 | 孔隙度 | 乾 | 體積範圍 0.05 cc 孔徑範圍 1100 µm 至 0.0064 µm | |
| 粒徑 | 雷射繞射 | 乾/液體 | 粒徑範圍 0.1 μm（乾） / 0.04 μm（溼）至 500 μm | |
| 粒徑 | 雷射繞射 | 乾/液體 | 粒徑範圍 0.1 µm（乾）/0.04 µm（溼）至 2500 µm | |
| 粒徑 | 雷射繞射 | 乾/液體 | 粒徑範圍 0.3 μm（乾）/ 0.2 μm（溼）至 500 μm | |
| 表面積、孔徑 | 氣體吸附 | 乾燥 | 孔徑範圍 0.35 nm 至 500 nm 0.35 nm 至 2 nm（以碳上的二氧化碳） 可量測之最小表面積 0.01 m²/g（N2）；0.0005 m²/g（Kr） | |
| 粒徑、顆粒形狀和內部結構 | SAXS、WAXS、GISAXS | 乾/液體 | 粒徑範圍/孔徑範圍 1 nm 至 105 nm（q 範圍（Cu K-alpha）：0.03 nm⁻¹ 至 41 nm⁻¹） | |
| 粒徑、顆粒形狀和內部結構 | SAXS、WAXS、GISAXS | 乾/液體 | 粒徑範圍/孔徑範圍 1 nm 至 160 nm（q 範圍（Cu K-alpha）：0.02 nm⁻¹ 至 41 nm⁻¹） | |
| (真) 密度 | 氣體比重瓶 | 4 cm³ 至 135 cm³ | ||
| (真) 密度 | 氣體比重瓶 | 4 cm³ 至 135 cm³ | ||
| (開) 孔含量 | 氣體比重瓶 | 乾式 | 4 cm³ 至 135 cm³ | |
| (真) 密度 | 氣體比重瓶 | 0.25 cm³ 至 4.5 cm³ | ||
| 蒸汽吸收 | 蒸汽吸附 | 乾燥 | ||
| 樣品製備 | 真空脫氣 | 乾燥 | ||
| 粒徑、相位純度、晶體結構 | XRD、SAXS、WAXS | 微晶尺寸 5 nm 至 500 nm 相分數 >0.1% |
一開始就展現專業
與安東帕的粒子特性化產品組合一樣廣泛，許多儀器都有一個共同點：它們是同類產品中的第一款，並且仍是該領域的旗艦型儀器。例如，1967 年發明的 PSA，是首款使用雷射繞射技術的粒徑分析儀。首款商用的小角度 X 光散射 (SAXS) 攝影機，由 Otto Kratky 在 1957 年開發成功，安東帕生產製造。直至今日，安東帕 SAXS 系統仍是該技術領域的標竿。安東帕旗下品牌 Quantachrome Instruments，自 1968 年起一直是業界第一。從一開始便組成專門的科學技術團隊，創新開發過程，保持與使用者密切互動，因此能提出測量多孔性材料和粉體的最佳解決方案。
藉由安東帕粉粒體特性分析專業技術，協助您完成粉粒體研究與材料開發。
除了一系列的儀表儀器設備，安東帕還可提供各種應用諮詢和實用資訊。在安東帕 Wiki 上的應用報告及網路研討會中，您可獲得深入詳盡的顆粒特性分析知識，例如：
- 動態光散射（DLS）：粒徑測量基礎概論
- 粒徑判定
- 如何選擇用於粉粒體分析的儀器
- 適用於粒徑測定的雷射繞射
- 粉體流變學
- 利用小角度 X 光散射 (SAXS) 分析奈米結構
- 表面積判定
- BET 理論
- 如何以 (ELS) 測量 zeta 電位？
- 孔徑測量技術
- X-Ray 繞射 (XRD)
- 更多...
利用這些資源和我們長久累積的粉粒體分析特性專業知識，您可探索新應用領域，取得生產、品質控制、產品開發的最佳成果。關於儀器與應用的任何問題，您都可直接與我們聯繫。