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GISAXSステージ2.0

ナノ構造表面及び薄膜サンプルの分析

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GISAXS測定により、基板上の広範囲のナノ表面構造情報を一度に得ることができます。GISAXSでは、サンプル前処理をほとんど必要とせず、真空下及び制御雰囲気下(空気、不活性ガス)で測定できます。アントンパール社のGISAXSステージ2.0は、高精度の電動ステージです。サンプルを傾けたり回転させたり、-150 °Cから500 °Cまでの温度範囲で分析することができます。

主な機能

電動GISAXSステージ2.0による迅速で正確な斜入射測定

電動GISAXSステージ2.0による迅速で正確な斜入射測定

アントンパール社のSAXSシステム、SAXSpoint 5.0及びSAXSpaceには、GISAXS/GIWAXS/GIXD (斜入射小角/広角散乱/回折)測定のための高分解能GISAXSステージ2.0を簡単に取り付けることができます。X、Y、Z方向に正確に配置することができます。サンプルは、内蔵の回転子を使用して、回転繰り返し精度0.001°で軸の周りを傾斜及び回転させることができます。

アントンパール社のGISAXSステージ2.0は、例えばメソポーラス薄膜、表層堆積ナノ粒子、酸化物表面の金属堆積物、及びソフトマター(ポリマー/ブロック共重合体薄膜、表面に付着する生体材料など)システムの特性評価を行うことができます。

GISAXS加熱モジュール2.0による測定機能の拡張

GISAXS加熱モジュール2.0による測定機能の拡張

GISAXS加熱モジュール2.0使用時は、GISAXSステージ2.0を最高温度500 °Cまで加熱できます。このモジュールハウジングは、温調機能に加えてサンプル周りの雰囲気 (真空、空気、不活性ガス等)制御機能を備えています。

-150 °Cまでの低温GISAXS測定

-150 °Cまでの低温GISAXS測定

GISAXS 2.0の加熱/低温モジュールでは、-150~350 °Cの範囲で測定が可能です。このモジュールはGISAXSステージ2.0に簡単に設置でき、サンプル表面内の優れた温度均一性を実現します。SAXS装置は、接続されたサンプルステージを自動的に認識します。

技術仕様

温度範囲 -150~500 °C
温度制御精度 +/-0.1 °C
サンプルサイズ 最大100 mm x 100 mm
サンプルの傾斜範囲 -4~+5.6°
サンプルの回転(軸) 0~345°

製品の最新情報、オプション、カスタムソリューションの詳細については、直接お問い合わせください。

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