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GISAXS 樣本台 2.0

奈米結構表面和薄膜樣本的研究

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利用 GISAXS 測量,可以從大樣本面積中獲得具代表性的奈米結構表面資訊。GISAXS 幾乎不需要預先製備樣本,測量可以在真空中進行,也可以在受控環境 (空氣、惰性氣體) 下進行。安東帕 GISAXS 樣本台 2.0 是高精確度的自動化平台。樣本可以傾斜和旋轉,也可以在 -150 °C 到 500 °C 的溫度範圍內進行研究。

主要功能

自動化 GISAXS 樣本台 2.0 能進行快速且精確的低掠角研究。

自動化 GISAXS 樣本台 2.0 能進行快速且精確的低掠角研究。

安東帕的 SAXS 系統、SAXSpoint 5.0 和 SAXSpace 可以輕鬆地配備高解析度的 GISAXS 樣本台 2.0,樣本台適用於 GISAXS/GIWAXS/GIXD (低掠角 SAXS/WAXS/繞射) 研究。可在 X、Y、Z 方向上精確定位。可以使用整合的 旋轉器使樣本傾斜並繞 軸旋轉,具備 0.001° 的旋轉可重複性。

安東帕的 GISAXS 樣本台 2.0 是特性分析下列材料的理想環境,包括中孔薄膜材料、表面沉積的奈米粒子、氧化物表面的金屬沉積,以及軟物質系統 (例如聚合物/嵌段共聚物薄膜和附著在表面的生物材料等)。

借助 GISAXS 加熱模組 2.0 擴充測量功能

借助 GISAXS 加熱模組 2.0 擴充測量功能

如果 GISAXS 樣本台 2.0 配備 GISAXS 加熱模組 2.0,則能夠用於溫度高達 500 °C 的環境。此模組在樣本上方設置一個外殼,因此能夠在環境、非環境條件下 (例如空氣或惰性氣體) 以及真空下測量相應的樣品。

低溫 GISAXS 實驗溫度可低至 -150 ℃

低溫 GISAXS 實驗溫度可低至 -150 ℃

GISAXS 2.0 的加熱/冷卻模組可以在 -150 °C 到 350 °C 範圍內進行測量。此模組能輕鬆安裝在 GISAXS 樣本台 2.0,並確保樣本表面的溫度均勻性,進而執行最佳的 GISAXS/GIWAXS 研究。插入樣本台後,SAXS 裝置會自動識別樣本台。

技術規格

溫度範圍 -150 °C 到 500 °C
溫度準確度 +/-0.1 °C
樣本尺寸 最大 100 mm x 100 mm
樣本傾斜 -4° 到 +5.6°
樣本旋轉 ( 軸) 0° 到 345°

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安東帕認證服務

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  • 全球超過 350 位經過認證的技術專家
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