GISAXSステージ2.0
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- ナノ構造表面と薄膜サンプルの分析
- メソポーラス薄膜、表層堆積ナノ粒子、酸化物表面の金属堆積物、ソフトマターシステム、表面に付着する生体材料に最適
- サンプルを傾けたり、回転させたりすることが可能
GISAXS測定では、基板上の広範囲のナノ表面構造情報を一度に得ることができます。GISAXSは、サンプル前処理をほとんど必要とせず、真空下および制御雰囲気下（空気、不活性ガス）で測定できます。アントンパールのGISAXSステージ2.0は、高精度の電動ステージです。サンプルを傾けたり回転させたり、-150～500 °Cの温度範囲で分析したりすることができます。
主な機能
電動のGISAXSステージ2.0による迅速で正確な斜入射測定
アントンパールのSAXSシステム（SAXSpoint 500、SAXSpoint 700、SAXSpace）は、GISAXS/GIWAXS/GIXD（斜入射SAXS/WAXS/回折）測定用に、高解像度のGISAXSステージ2.0を簡単に搭載することができます。X、Y、Z方向の正確な配置が可能です。サンプルは、内蔵のΦ回転装置により、Φ軸を中心に0.001 °の繰り返し精度で傾けたり、回転させたりすることができます。
アントンパールのGISAXSステージ2.0は、例えば、メソポーラス薄膜、表層堆積ナノ粒子、酸化物表面上の金属堆積物、ポリマー/ブロックコポリマー薄膜や表面に付着した生体材料などのソフトマターシステムを特性評価するのに最適です。
GISAXS加熱モジュール2.0による測定機能の拡張
GISAXS加熱モジュール2.0使用時は、GISAXSステージ2.0を最高500 °Cまで加熱できます。このモジュールはサンプルを覆うハウジングとなるため、サンプル周囲の雰囲気（大気、不活性ガス、真空など）を制御して測定することができます。
-150 °Cまでの低温GISAXS測定
GISAXS 2.0用の加熱/低温モジュールでは、-150～350 °Cの範囲で測定が可能です。このモジュールは、GISAXS Stage 2.0に簡単に設置でき、サンプル表面内の温度均一性を確保して、最適なGISAXS/GIWAXS測定を実現します。SAXS装置は、接続されたサンプルステージを自動的に認識します。
仕様
| 温度範囲 | -150～500 °C |
| 温度の精度 | ±0.1 °C |
| サンプルサイズ | 最大100×100 mm |
| サンプルの傾斜範囲 | -4～+5.6 ° |
| サンプルの回転範囲（軸） | 0～345 ° |
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