GISAXSステージ2.0
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- ナノ構造表面及び薄膜サンプルの分析
- メソポーラス薄膜、表層堆積ナノ粒子、酸化物表面の金属堆積物、ソフトマターシステム、表面に付着する生体材料に最適
- サンプルを傾けたり、回転させたりすることが可能
GISAXS測定により、基板上の広範囲のナノ表面構造情報を一度に得ることができます。GISAXSでは、サンプル前処理をほとんど必要とせず、真空下及び制御雰囲気下(空気、不活性ガス)で測定できます。アントンパール社のGISAXSステージ2.0は、高精度の電動ステージです。サンプルを傾けたり回転させたり、-150 °Cから500 °Cまでの温度範囲で分析することができます。
主な機能
電動GISAXSステージ2.0による迅速で正確な斜入射測定
アントンパール社のSAXSシステム、SAXSpoint 5.0及びSAXSpaceには、GISAXS/GIWAXS/GIXD (斜入射小角/広角散乱/回折)測定のための高分解能GISAXSステージ2.0を簡単に取り付けることができます。X、Y、Z方向に正確に配置することができます。サンプルは、内蔵の回転子を使用して、回転繰り返し精度0.001°で軸の周りを傾斜及び回転させることができます。
アントンパール社のGISAXSステージ2.0は、例えばメソポーラス薄膜、表層堆積ナノ粒子、酸化物表面の金属堆積物、及びソフトマター(ポリマー/ブロック共重合体薄膜、表面に付着する生体材料など)システムの特性評価を行うことができます。
GISAXS加熱モジュール2.0による測定機能の拡張
GISAXS加熱モジュール2.0使用時は、GISAXSステージ2.0を最高温度500 °Cまで加熱できます。このモジュールハウジングは、温調機能に加えてサンプル周りの雰囲気 (真空、空気、不活性ガス等)制御機能を備えています。
-150 °Cまでの低温GISAXS測定
GISAXS 2.0の加熱/低温モジュールでは、-150～350 °Cの範囲で測定が可能です。このモジュールはGISAXSステージ2.0に簡単に設置でき、サンプル表面内の優れた温度均一性を実現します。SAXS装置は、接続されたサンプルステージを自動的に認識します。
仕様
| 温度範囲 | -150～500 °C |
| 温度制御精度 | +/-0.1 °C |
| サンプルサイズ | 最大100 mm x 100 mm |
| サンプルの傾斜範囲 | -4～+5.6° |
| サンプルの回転(軸) | 0～345° |
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アントンパール認定サービス
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