高温ストリップヒーターチャンバー:HTK 16N | HTK 2000N

高温チャンバーHTK 16N及びHTK 2000Nは、それぞれ1600℃及び2300℃までのIn-Situ X線回析に対応する実績ある装置です。サンプルは加熱フィラメント内で直接加熱されます。HTK 16N及びHTK 2000Nは、様々な環境における高温域での作業を可能にするよう設計されています。高品質な材質で製造されているため、高温での使用にも耐え、長い寿命を保つことができます。

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主な機能

加熱中サンプルの位置の変化を最低限に抑える

  • 全温度範囲における加熱フィラメントの安定したポジショニング
  • 加熱フィラメントの伸張補正のための高精度リニアステージ
  • 高温域での事後調整を可能にする一体型調整スリット

正確なサンプル温度

  • サンプル内の不均一な温度分布を抑えるための理想的な設計
  • サンプル温度の測定及び制御のための2つの熱電対

優れたデザイン

  • 優れたデザインと良質の材質による製造
  • 多種の材質の加熱フィラメントを用意:白金、タングステン、タンタル、グラファイト、その他の材質もご要望に応じて対応いたします。
  • 不活性サンプルサポート小板を伴うユニークなグラファイト製加熱フィラメント
  • サンプル交換も簡単、迅速

技術仕様

動作温度
真空(≤2.10-4 mbar)用
タングステン製加熱フィラメント
25~2300 °C (HTK 2000N)
白金製加熱フィラメント
(真空、空気、不活性ガス)
25~1600 °C (HTK 16N / HTK 2000N)
真空(≤2.10-4 mbar)用
グラファイト製加熱フィラメント
25~1500 °C (HTK 16N)
窒素1400 °C (HTK 16N)
ヘリウム 1300 °C (HTK 16N)
温度測定
白金製フィラメント Pt 10% RhPt熱電対
タングステン製フィラメントW 3% Re~W 25% Re熱電対
炭素フィラメントPt 10% RhPt熱電対
雰囲気真空(10-4mbar)、空気、不活性ガス
最大圧力大気圧プラス0.5 bar
入射角4~164° 2Θ
測定システム反射

Anton Paar Certified Service

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