Hochtemperatur-Band-Kammern:
HTK 16N | HTK 2000N
- Unterstützt In-situ-XRD-Untersuchungen bei bis zu 1.600 °C oder 2.300 °C
- Minimale Probenverschiebung mit stabiler Positionierung des Heizbands
- Präzise Temperaturregelung mit zwei Thermoelementen und minimalen Gradienten
- Langlebiges Design mit hochwertigen Materialien und schnellem, einfachem Probenwechsel
Die Hochtemperatur-Kammern HTK 16N und HTK 2000N sind bewährte Geräte für die In-situ-Röntgenbeugung bis 1.600 °C bzw. 2.300 °C. Die Probe wird auf einem Heizband direkt beheizt. Das Design der HTK 16N bzw. der HTK 2000N ermöglicht Ihnen problemloses Arbeiten bei hohen Temperaturen und in verschiedenen Atmosphären. Die Verwendung hochwertiger Materialien sichert einen langjährigen, problemlosen Einsatz der Kammern.
Spezifikationen
| Betriebstemperatur | |
|---|---|
| Temperaturmessung | |
| Wolfram-Heizband für Vakuum (≤ 2,10-4 mbar) | 25 °C bis 2.300 °C (HTK 2000N) |
| Platin-Heizband (Vakuum/Luft/Inertgas) | 25 °C bis 1.600 °C (HTK 16N / HTK 2000N) |
| Graphit-Heizband für Vakuum (≤ 2,10-4 mbar) | 25 °C bis 1.500 °C (HTK 16N) |
| Stickstoff | 1.400 °C (HTK 16N) |
| Helium | 1.300 °C (HTK 16N) |
| für Pt-Heizbänder | Pt 10 % RhPt Thermoelement |
| für W-Heizbänder | W 3 % Re-W 25 % Re Thermoelement |
| für C-Heizbänder | Pt 10 % RhPt Thermoelement |
| Atmosphären | Vakuum (10-4 mbar), Luft, Inertgas |
| Max. Arbeitsdruck | 0.5 bar über Atmosphärendruck |
| Einfallswinkel | 4 bis 164° 2Θ |
| Messgeometrie | Reflexion |
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In-situ High-temperature Crystallization of a Lithium Disilicate Glass Applikationsbericht