• Reactor Chamber: XRK 900
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反応チャンバー:XRK 900

XRK 900はX線回折用に設計された唯一の市販反応チャンバーで、900 ℃、10 barまでの固体及び固体 -気体反応の測定に使用されます。堅牢で高性能なXRK 900は、他社製品の追従を許さない優れたIn-Situ X線回析研究用機器です。

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主な機能

固体ガス反応に最適

  • サンプル内の温度を均一に保つ加熱ヒーター
  • 信頼性の高いサンプル温度の測定及び制御
  • チャンバー内の均一なフラッシングとガスフローを実現、ゼロデッドボリューム

頑丈設計

  • 良質な材質で製造し、長い寿命を実現
  • 反応生成物の結露を防ぐため、ハウジングは150℃まで対応可能
  • 全ての標準的な回析器に対応

選択可能なサンプルホルダー

  • 様々な化合物に対する耐性の高い材質
  • 回折データ品質を向上するサンプル回転機能(オプション)
  • サンプル内ガス抽出用のオープンサンプルホルダー
  • サンプル交換が容易

技術仕様

動作温度 25~900 °C
温度測定NiCr/NiAl熱電対
雰囲気真空(1 mbar)、空気、不活性ガス、反応ガス
ハウジング最大温度150 °C
入射角0~+165° 2Θ
最大圧力1 mbar~10 bar
サンプルホルダーの材質ステンレス鋼またはガラスセラミック
サンプル直径最大14 mm
測定システム反射

Anton Paar Certified Service

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