PTD 80は、開梱後すぐに使用を開始できるクリーンで堅牢、かつ省スペースな設計により、温度制御下での粘度測定の適用範囲を拡大します。 半導体式のペルチェ技術により、冷却液不要で15 °C～80 °Cの範囲で温度設定をすばやく変更できます。 PTD 80のすべての操作はViscoQCから行え、DIN、少量試料用SC4、ULなどのあらゆる円筒形測定システムに対応し、試料量2 mL～20 mLで測定できます。 T-Ready™機能により、試料が温度平衡に達したタイミングを把握できるため、安心して再現性の高い測定を行えます。
PTD 80は、従来の循環恒温槽とは異なり、冷却液を用いないペルチェ素子技術を採用しています。 これにより、冷却液やホースに起因する液漏れの心配がなく、定期的なメンテナンスも不要です。さらに、測定部の汚染リスクも回避できます。 アクティブな加熱・冷却により、通常3 °C/minの昇降温速度で、効率的かつ迅速な温度変更が可能です。 設定温度到達後は、±0.1 °Cの温度安定性を維持し、高精度かつ再現性の高い粘度測定を実現します。
独自のT-Ready™機能により、試料が設定温度に達したことを確認できるため、すべての測定を同一の温度条件で実施できます。 ViscoQCによる一元制御により、温度設定を測定メソッドに直接組み込めるため、操作を簡素化し、手動作業を削減できます。 オフセットを適用することで、ViscoQC上で温度校正を直接行え、常に正確で信頼性の高い結果が得られます。
PTD 80は、固定温度でのルーチンQCに加え、あらかじめ設定した温度点での自動温度スキャンにも対応します。 従来のスピンドル＋ビーカー方式に比べ、円筒形測定システムの採用により、必要な試料量を2 mL～20 mLに抑えられます。 熱平衡到達時間を数時間から数分へ短縮し、測定速度とスループットを向上させます。
PTD 80はViscoQCの直下に直接組み込めるため、追加の設置スペースはほとんど必要なく、外部温度コントローラーや恒温槽も不要です。このコンパクトな設計により、貴重なベンチスペースを節約できるうえ、システムのセットアップも簡素化され、操作性も向上します。省スペース性に加え、PTD 80は高効率動作により、環境負荷も大幅に低減します。
| 温度範囲 [°C] | +15～+80 |
| 温度安定性 [°C] | ±0.1 |
| 対応粘度計 | ViscoQC 100 ViscoQC 300 |
| 対応測定システム | 同心円筒（DIN）、ダブルギャップ、超低粘度アダプター、少量サンプルアダプター |
| 冷却液 | いいえ |
| 温度管理 | アクティブ加熱・冷却 |
| 外部電源 | いいえ |
