PTD 175は、−45 °C～+175 °Cの範囲で高速かつ高精度な温度制御を実現し、温度の切り替えも迅速なため、測定開始までの時間を短縮します。 固体素子のペルチェ技術により、液漏れや装置停止の心配がなく、クリーンで安全かつメンテナンスフリーに運用できます。 ViscoQCで一元制御でき、温度制御を測定メソッドに直接組み込めるため、自動化された再現性の高いワークフローを実現します。 T-Ready™機能により、測定前に試料が完全に温度平衡に達していることを確認でき、正確な結果を確保します。 PTD 175は、頻繁な温度変更によりスループットが低下しがちな、高度な研究や要求の厳しい用途に最適です。
PTD 175は、従来の冷却槽に伴う安全上のリスク、時間的制約、手作業の負担を解消し、ASTM D2983試験を全自動で実施できます。 冷媒を使用しないペルチェ温度制御により、保守の手間がかかる有毒・可燃性液体を不要にします。 手作業を介さないため、必要なときにいつでも試験を実施でき、装置稼働率とスループットを最大化します。 ViscoQCのガイド付き自動温度校正により、コストを抑えながら長期にわたる測定精度と規格準拠を確保します。
PTD 175とViscoQC 300を組み合わせることで、ビチューメン試験を自動化できます。 あらかじめ設定されたASTM D4402メソッドにより、回転数を自動認識し、1回の測定で最大3つの温度条件に対応できるため、オペレーターの負担を軽減します。 最大20温度点での自動多点温度校正・調整により、最高レベルの精度を確保し、監査リスクを排除します。 ペルチェによる高速な加熱・冷却により、温度をすばやく変更でき、電気式チャンバーと比べて大幅に高いスループットを実現します。 +300 °Cまでの温度制御には、ETD 300が必要です。
独自のT-Ready™機能により、試料が設定温度に達したことを確認でき、すべての測定を同一温度条件で実施できます。 ViscoQCで温度制御を一元化できるため、温度設定を測定メソッドに直接組み込め、作業効率が向上し、手動操作を最小限に抑えられます。 従来の循環恒温槽とは異なり、PTD 175は恒温液を使わずペルチェ素子で温度を制御するため、液漏れのリスクがなく、恒温液の定期的なメンテナンスも不要です。
PTD 175は、ルーチンQCから高度な分析まで、幅広いニーズに対応する柔軟な温度制御下での粘度測定を可能にします。 ユーザーは、一定温度でのQC測定、あらかじめ設定した温度点での自動温度スキャン、または2つの温度間で粘度を連続測定しながら行う温度ランプ測定を実施できます。 温度ランプ測定では、温度変化速度を高精度に設定できるため、温度依存の粘度挙動を制御された条件下で高い再現性をもって評価できます。
| 温度範囲 [°C] | -45～+175 |
| 温度安定性 [°C] | ±0.1 |
| 対応粘度計 | ViscoQC 300 |
| 対応測定システム | 同心円筒（DIN）、ダブルギャップ、超低粘度アダプター、少量サンプルアダプター、断熱4B2、L1D22 |
| 冷却液 | なし |
| 温度管理 | アクティブ加熱・冷却 |
| 外部電源 | はい |
