Podajnik próbek: Xsample 330

Podajnik pojedynczych próbek przeznaczony dla szerokiego zakresu próbek

Nowa przemysłowa pompa perystaltyczna oraz automatyczne czyszczenie sprawiają, że urządzenie Xsample 330 jest idealnym wyborem do sekwencyjnych pomiarów próbek o niskiej lepkości i skrajnie różnych właściwościach. Po wykonaniu pomiaru próbka jest usuwana lub odzyskiwana i system jest automatycznie czyszczony za pomocą maksymalnie dwóch środków płuczących. W celu idealnego przygotowania komory pomiarowej do kolejnej próbki, wykonywana jest operacja suszenia.

Wyślij wiadomość Wyszukiwarka dokumentów

Najważniejsze funkcje

Automatyczne czyszczenie

Automatyczne czyszczenie

  • Automatyczne płukanie i suszenie po każdej próbce zapewnia idealne przygotowanie systemu
  • Do pojedynczej procedury czyszczącej można użyć maksymalnie dwóch różnych środków płuczących w dowolnej kolejności.
  • Ustawienia zaawansowane służące do zastosowania procedur czyszczących w celu zwiększenia wydajności pomiarów
Odpowiedni do różnorodnych próbek

Odpowiedni do różnorodnych próbek

  • Napełnianie za pomocą pompy perystaltycznej możliwe jest dla szerokiej gamy próbek o różnej lepkości do 3 000 mPa·s.
  • Wszystkie części wchodzące w kontakt z próbkami urządzenia Xsample 330 (High-resistance) są wykonane z wytrzymałych materiałów odpowiednich do próbek agresywnych, takich jak kwas fosforowy lub trichlorooctowy
  • Regulowane tryby napełniania dla różnych typów próbek umożliwiają osiągnięcie doskonałych wyników pomiarów
Wysoce wydajna obsługa próbek i łatwa obsługa urządzenia

Wysoce wydajna obsługa próbek i łatwa obsługa urządzenia

  • W zależności od wielkości systemu do przeprowadzenia pomiaru wystarczy minimalna ilość próbki
  • Łatwa obsługa dzięki zintegrowany interfejs użytkownika na urządzenie głównym
  • Proste pomiary próbek o różnej lepkości dzięki sterowanemu przez czujniki zatrzymaniu procedury napełniania
  • Automatyczne odzyskiwanie próbek zapewnia powrót kosztownych lub niebezpiecznych próbek do fiolek

Parametry techniczne

Urządzenie Xsample 330 (High-resistance)

Zakres lepkości do 3 000 mPa.s w temperaturze otoczenia i pomiaru¹
Tryb napełniania z pompą perystaltyczną:
  • Zasysanie w jednym kierunku
  • Zasysanie z przeciwbiegiem
Typowy czas napełniania i cyklu pomiarowego od 2 do 5 minut
Minimalna ilość próbki około 10 do 20 ml
Zasilanie powietrzem sprężonym maks. 2 bar (29 psi) wzgl.
Niezbędna jakość powietrza Klasa 3 wg ISO 8573-1:
maks. rozmiar cząstek: 5 μm
maks. ciśnienie punktu rosy: -20 °C (-4 °F)
maks. zawartość oleju: 1 mg/m³
Warunki robocze (EN 61010) Tylko do użytku w pomieszczeniach
Temperatura pracy od +15 °C do +35 °C (od +59 °F do +95 °F)*
Stopień zanieczyszczenia 2
Kategoria przepięcia II
Wysokość n.p.m. maks. 3 000 m (9 840 stóp)
Zasilanie zasilane przez urządzenie główne
Napięcie zasilające prądu przemiennego zgodnie z tabliczką z danymi technicznymi z tyłu urządzenia głównego (wymagane jest uziemienie ochronne)
Wymiary bez urządzenia głównego (dł. x szer. x wys.) Xsample 330 Urządzenie Xsample 330 High-resistance  205 mm × 148 mm × 185 mm
(8,1 in × 5,8 in × 7,3 in)
205 mm × 148 mm × 205 mm
(8,1 in × 5,8 in × 8,1 in)
Masa bez urządzenia głównego
Xsample 330
Xsample 330 High-resistance
 
ok. 3,7 kg (8,2 lbs)
ok. 3,8 kg (8,4 lbs)

¹ Zalecane do próbek o lepkości do 500 mPa·s w temperaturze otoczenia i pomiaru. Przy próbkach o lepkości wyższej niż 500 mPa.s, dla temperatury otoczenia i pomiaru podczas napełniania mogą się pojawić pęcherzyki gazu.

Anton Paar Certified Service

Jakość usług i wsparcia firmy Anton Paar:
  • More than 350 manufacturer-certified technical experts worldwide
  • Qualified support in your local language
  • Protection for your investment throughout its lifecycle
Dalsze informacje