自動化多用途粉體 X-Ray 繞射儀：
XRDynamic 500
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- 開箱即用：一流的解析度/訊噪比
- TruBeam™ 概念：更大的測角儀半徑，真空光束路徑
- 全自動化：X-Ray 光學元件和光束幾何形狀變化
- 效率：增加儀器使用次數多達 50%
- 自動對準：儀器和樣品，以獲得最大便利性
XRDynamic 500 以最高效率驅動無敵的 XRD 資料品質。使用適用於粉末 XRD、非環境 XRD、PDF 分析、SAXS 等的最佳解決方案，享用涵蓋各種應用的多功能平台的優勢。 它使用起來非常直觀、具有全自動光學元件和校準程序；透過它，新手或專家都可以快速收集最高品質的 XRD 資料，同時最大限度地減少錯誤。XRDynamic 500：Driving XRD
優勢
XRDynamic 500 的 TruBeam™ 概念結合了大測角儀半徑、真空光束路徑和全自動 X-Ray 光學元件/光束幾何形狀變化。藉由最佳化的工作流程，以直觀軟體協助的不同儀器配置測量一系列樣品。藉由標準 Bragg-Brentano 配置，實現一流的解析度（第一個 LaB₆ 標準峰值，FWHM <0.021°）。藉由減少多達 50% 的測量背景和最小的附加空氣散射，達成出色訊噪比。快速重新配置，以獲得最佳化的非環境 XRD 實驗或 SAXS 測量，以及專用 SAXS 儀器的品質。
- 一鍵即可在多達 3 種光束幾何形狀之間切換
- 在沒有使用者介入的情況下，按順序運行不同的測量
- 節省時間：增加儀器使用次數多達 50 %
挑戰
在許多散射儀中，欲切換各種測量幾何形狀需要使用者更換零件。只有在打開儀器以手動變更配置後，才能按順序執行兩種完全不同類型的測量。
解決方案
藉由電動光學元件堆棧，一鍵即可在多達 3 種光束幾何結構之間切換（適用於所用的任何類型的 X-Ray管）。獨特的源傾斜軸可精確和自動地對齊每個幾何形狀。
優勢
在多達 3 種光束幾何形狀之間自動切換，可以在不同（或相同）樣品上按順序運行完全不同類型的測量，而無需更換零件或任何使用者輸入。藉由在夜間和週末運行複雜的測量批次來增加儀器的正常運行時間高達 50 %，而無需任何使用者介入。
- 所有光學元件皆自動化
- 更高的效率，更少的錯誤
- 為每個使用者提供高品質資料
挑戰
選擇正確的光學元件，通常意味著需要更換組件並在測量軟體中手動更新測量配置。這很耗時，可能會導致許多錯誤，並且需要對經驗不足的使用者進行監督或大量訓練，以便其定期收集高品質的 XRD 資料。
解決方案
光束路徑中所有光學組件的完全自動化，使變更儀器配置只需一鍵。無需物理更換零件或使用者介入。
優勢
透過自動切換到正確的光學元件並始終識別當前配置，節省時間並減少使用者出錯的機會。即使是剛接觸 XRD 的使用者，測量設定也非常直觀和直接。
- 儀器自動對齊，無需專人到府服務
- 每個測量配置皆完美自動對齊
- 每個樣品皆自動對齊
挑戰
繞射儀的對齊 (尤其是 X-Ray 光學元件的對齊) 需要專業知識，甚至專人到府服務。對於沒有經驗的使用者來說，樣品對齊也很困難。
解決方案
全自動儀器對齊程序可隨時執行儀器自對齊。自動樣品對齊程序可用於每個樣品。
優勢
無需到府服務並讓儀器自行對齊。確保儀器 (和樣品) 始終完美對齊以獲得最佳品質的資料，從而最大限度地延長正常運行時間並降低擁有成本。
- 直觀、最佳化的測量工作流程
- 初學者和專家皆易使用
- 減少使用者訓練時間
挑戰
傳統的繞射系統通常看起來是由多個組件組成的複雜陣列，這對新手使用者來說可能會令人望而生畏。有經驗的使用者可能需要花費大量時間來設定測量計劃和儀器配置，進而忽視了更重要的任務。
解決方案
XRDynamic 500 和 XRDdrive 控制軟體可無縫結合直接的儀器操作和直觀的工作流程，藉助智慧自動化控制所需細節量。
優勢
享用簡化的工作流程，最大限度地發揮 XRDynamic 500 自動化的優勢。指導使用者完成測量的軟體，使專家和新手都能按自己想要的方式工作，同時始終相信一流的資料品質。
- 新的光束概念每次都能提供完美的光束
- 一流的資料品質
- 最大測量效率
挑戰
您如何確保始終使用最佳光束和儀器配置，而不會在資料品質或測量時間上做出犧牲？
解決方案
獨特的 TruBeam™ 概念，把 Primux 3000 X-Ray 源、大測角儀半徑和真空光學元件、光束幾何形狀和光學元件配置的自動切換以及自動儀器和樣品對齊統統整合到一個完整的套件中。
優勢
每位使用者都能為每個樣品實現出色的測量效能，並從更高解析度、更多選項和更高效率中受益。
- 測量解析度提高 >20 %
- 開箱即用的卓越解析度 - 無需昂貴的光學元件
- 標配大測角儀半徑
挑戰
許多繞射儀提供 240 - 300 mm 的測量半徑，這會限制可實現的最大解析度，但無需使用昂貴的光學元件。您必須對隨之而來的強度損失做出妥協。
解決方案
XRDynamic 500 提供更大的測角儀半徑 360 mm 或 400 mm 作為標準，具有真空光學元件和偵測器的小像素尺寸。
優勢
與傳統繞射儀相比，XRDynamic 500 由於採用真空光束路徑，為標準 Bragg-Brentano 測量提高測量解析度 20 %，而不影響測量強度。
- 無敵的訊噪比
- 將測量背景減少 50 %
- 消除空氣散射的影響
挑戰
為了實現良好的訊噪比，並因此獲得出色的資料品質，通常必須以較長的計數時間進行測量。
解決方案
受益於真空光學元件以阻止寄生空氣散射，並可選擇從源到偵測器的完全真空光束路徑。
優勢
將測量背景減少 50 % 並受益於無敵的訊噪比，以獲得最佳品質的資料和更短的測量時間。
- 高樣品處理量和出色的資料品質
- 高強度測量模式
- 透過智慧自動化加快工作流程
挑戰
對於許多儀器，資料品質是以犧牲測量速度為代價的。
解決方案
藉由 TruBeam™，無論何種測量配置，XRDynamic 500 都能始終提供出色的資料品質和主光束強度。此外，還包括各種工作流程的自動化，如變更儀器配置和對齊程序。
優勢
在不犧牲資料品質的情況下減少測量時間，以提高樣品處理量。智慧自動化意味著坐在儀器前的時間更少，而有更多時間專注於重要的事情。
- 強大的 Primux 3000 源，非常適合 XRD 和 SAXS
- 在幾分鐘內更換 X-Ray 管
- 所有條件下的最大主光束強度
挑戰
始終使用最佳 X-Ray 陽極管並不容易，因為更換 X-Ray 管通常很複雜。此外，在使用不同的 X-Ray 光學元件時，由於光源與光學元件的對齊欠佳，必須在主光束強度上做出犧牲。
解決方案
Primux 3000 X-Ray 源的智慧設計，允許在需要時快速更換 X-Ray 管。每個源和光學組合的自動對齊是可行的。
優勢
在源的位置處理樣品螢光等問題。在 < 15 分鐘內更換 X-Ray 管，自動對齊，並用新波長重新測量。由於每個測量幾何形狀的精確對齊，始終享用最大的主光束強度。
- 高強度多層光學元件
- 平行和聚焦光束幾何形狀
- 單色器以最大限度提高訊噪比
挑戰
對於某些樣品或應用，需要光束整形光學元件（平行或聚焦光束）。此外，可能需要單色器來抑制 Kβ 峰值並減少測量背景。
解決方案
各種多層單色器、平行光束和聚焦光學元件，可以安裝在電動光學元件堆棧中，只需一鍵即可選擇。每個光學元件的精確、自動對齊，是透過最佳化的出射角度實現的。特別的 Ni/C 多層光學元件為 Cu 和 Co 源提供固有的 Kβ 過濾。
優勢
受益於所有光學元件的最高強度，以減少測量時間。卓越的訊噪比和出色的解析度確保了最高品質的資料。
- 0D 或 1D 模式下的最新像素偵測器技術
- 實現高解析度的小像素尺寸
- 能量過濾
挑戰
高品質的 XRD 資料需要能夠提供出色解析度和訊噪比的偵測器。
解決方案
Pixos 偵測單元搭載 Advacam 的尖端光子計數技術，可在 0D 或 1D 模式下進行測量。XRDynamic 500 可選擇 Si 或 CdTe 感測器以覆蓋所有波長、射線源能量過濾和市場上最小的像素尺寸 (55 µm x 55 µm)。
優勢
結合 XRDynamic 500 更大的測角儀半徑，偵測器的小像素尺寸提高了每個波長的最大測量解析度。Pixos 偵測單元還提供出色的能量解析度（具有智慧能量過濾）、線性度和效率。
- 靈活用於所有應用中
- 達到高處理量的樣品更換器
- 出色的位置穩定性
挑戰
處理不同的應用要求取決於是否有合適的樣品台可用。
解決方案
多功能樣品台可實現反射下測量和使用自動進樣器選項傳輸粉末或固體樣品。
優勢
不同的樣品類型可以使用各種樣品台進行測量。藉由組件識別，每個樣品台都可以在即插即用模式下工作，以快速掌握所有應用。
- 多種樣品架
- 適用於所有樣品類型的解決方案
- 適用於弱散射和敏感材料的最佳化支架
挑戰
真正的通用散繞射儀需要處理所有類型的樣品要求。
解決方案
一系列樣品架 代表每種類型的樣品 都有一個可用的樣品架 - 粉末、固體、薄膜、纖維、凝膠、漿糊或液體。
優勢
受益於始終使用在反射或透射方面針對樣品進行最佳化的樣品架。無論是有機還是無機，甚至是對空氣或濕氣敏感的樣品，XRDynamic 500 都能提供解決方案。
- 使非環境 XRD 變得容易
- 即插即用樣品台功能
- 所有樣品台的內置溫度控制元件 (CCU)
挑戰
設定非環境 XRD 實驗可能既複雜又耗時。通常需要將許多電纜和軟管送入儀器外殼以連接外部控制元件。
解決方案
享用即插即用的非環境樣品台功能，該功能採用單個內建 CCU 控制元件，可與所有安東帕非環境樣品台配合使用。受益於儀器外殼中便利的連接，以滿足所有非環境要求。
優勢
XRDynamic 500 使非環境實驗與執行任何其他測量一樣簡單，因此您可以立即重新配置為非環境配置。內建 CCU 減少了雜亂，並避免了對不同非環境附件的多個控制元件的需要。
技術規格
| X-Ray 源 | |
| 射線源類型 | Primux 3000 |
| X-Ray 產生器 | 高達 3 kW |
| 管電壓 / 電流 | 20 kV 至 60 kV / 2 mA 至 50 mA |
| 測角儀 | |
| 配置 | 垂直的 Theta/Theta 幾何形狀 |
| 測量半徑 | 360 或 400 mm |
| 最大可用角度範圍 | -95° – 162.5° 2theta |
| 最小步長 | 0.0001° |
| 2theta 線性度 | ≤0.01° |
| 最大角速度 | 15°/秒 |
| 最大角解析度 | 0.021°（第一個 LaB₆ 峰值的 FWHM） |
| 樣品台和附件 | |
| 環境樣品台 | 固定樣品台 樣品旋轉台（反射/傳輸） XY 樣品台（帶自動進樣器選項） 毛細管旋轉台 EVAC 模組 |
| 非環境附件 | HTK 1200N HTK 16N/2000N HTK 1500 TTK 600 XRK 900 CHC plus⁺ BTS 150/500 |
| 偵測器 | 固態混合像素偵測器：
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| 軟體 |
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| 一般規格 | |
| 外形尺寸（寬 x 深 x 高） | 1350 mm x 1160 mm x 1850 mm |
| 重量（不包括可選配件） | 750 kg |
| 電源 | 3 相：3/N/PE AC 400/230 V；50…60 Hz；25 A 1 相：208…240 VAC；50…60 Hz；36 A |
| 最大功耗 （不帶可選設備的附加控制器） | 5.5 kW |
| 冷卻水供應 | 流速：>3.6 L/min； 壓力：4.5 – 6 bar；溫度：<25 °C |
文件
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E-Book - 藥物粉體特性分析指南 應用報告
補充產品
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HEATING STRIP PLATINUM 102x10x1 mm
Heating strip made of pure platinum with thickness 1 mm. Strip delivered with welded Pt-10%RhPt thermocouple.
HEATING STRIP PLATINUM 102x10x0.5 mm
Heating strip made of pure platinum with thickness 0.5 mm. Strip delivered with welded Pt-10%RhPt thermocouple.
REFLECTION SAMPLE HOLDERS FOR XY-6 STAGE (1 SD, 3 pcs)
Set of 3 front loading sample holders for XRD studies in reflection geometry with the XY stage for 6 samples (20 mm inner diameter, 1 mm sample depth, made of stainless steel).
REFLECTION SAMPLE HOLDERS FOR XY-12 STAGE (2.5 SD, 6 pcs)
Set of 6 front loading sample holders for XRD studies in reflection geometry with the XY stage for 12 samples (20 mm inner diameter, 2.5 mm sample depth, made of stainless steel).
REFLECTION SAMPLE HOLDERS FOR XY-12 STAGE (1 SD, 6 pcs)
Set of 6 front loading sample holders for XRD studies in reflection geometry with the XY stage for 12 samples (20 mm inner diameter, 1 mm sample depth, made of stainless steel).
SPARE PARTS PASTECELL (300 °C)
2 sets of O-rings, 10 windows for < 300 °C
SAMPLE CARRIER FLAT MADE OF PLATINUM FOR HTK OVEN CHAMBER
Spare sample carrier without cavity made of Platinum.
SAMPLE CARRIER 0.8mm DEEP MADE OF PLATINUM FOR HTK OVEN CHAMBER
Spare sample carrier with a cavity of 0.8 mm depth made of Platinum.
高溫熔爐室：
HTK 1500
- 25 °C 至 1,500°C 的「真正」環境加熱器
- 為您的實驗提供最高的溫度精確度
- 快速從反射測量轉換為透射測量
- 在不同氣體環境中進行測量
- 完美補足 XRDynamic 500 多功能繞射儀
SPARE PARTS XRDynamic 500
Spare parts for XRDynamic 500, including:
- set of O-rings
- set of window foils for primary and secondary optics units
- Vacuum grease
密封管 X-ray 源：
Primux 3000
- 用於先進 X-ray 分析的強大 X-ray 源
- 提供多種陽極材料
- 簡單更換 X-ray 管或改變管聚焦
先進的 XRD 光學元件
- 高強度多層 X-Ray 光學元件
- 每個波長的平行和聚焦光束光學元件
- 使用主要單色器的最大 Kβ 抑制
XRD 偵測元件：
Pixos
- 採用最新的 CERN 像素偵測器技術，具有先進的降噪功能
- 在 0D 或 1D 模式下測量，可選擇感測器材料
- 最小的像素尺寸 (55 µm x 55 µm)，具有出色的解析度
- 能量過濾器可進一步最大限度地減少測量背景值
XRDynamic 500 的樣品台和樣品架
- 適用於所有應用的多功能樣品台
- 用於高處理量測量的自動進樣器選項
- 用於動態現場原位電池測量的樣品台
- 適用於不同樣品類型的多種樣品架
用於高解析度 SAXS 和 XRD 的真空室：
EVAC 模組
- 由於完全真空的光束路徑，可達到無敵的訊噪比
- 用於測量的專用 SAXS 光學元件，具有獨立 SAXS 儀器的品質
- 適用於反射或透射中的高解析度 XRD 研究
- 測量不受 2θ 範圍的任何限制
XRD 軟體：
XRDanalysis
- 用於粉末繞射分析的多功能軟體套件
- 搜尋/配對功能，用於快速準確的相識別
- 使用配對或手動載入的相進行 Rietveld 分析
- 最佳化的分析工作流程，包括批量分析，以加快和簡化您的分析任務
高溫帶狀加熱室：
HTK 16N | HTK 2000N
- 支持高達 1,600 °C 或 2,300 °C 的原位 XRD 研究
- 最小化樣本位移，穩定加熱絲定位
- 透過雙熱電偶實現精確的溫度控制，並保持最小的梯度
- 耐用設計，採用高級材料，樣本更換快速便捷
台式加熱台：
- 專利的緊湊設計，針對桌面型 XRD 應用進行優化
- 溫度控制範圍：-10 °C 至 +150 °C（BTS 150）和高達 500 °C（BTS 500）
- 快速、準確的溫度控制，感應器靠近樣本
- 簡單的樣本處理、對齊和通過 USB 的遠程控制
