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  • High-Temperature Oven Chamber: HTK 1200N with a robust design for in-situ X-ray diffraction studies in different atmospheres up to 1200 °C
  • High-Temperature Oven Chamber: HTK 1200N
  • High-Temperature Oven Chamber: HTK 1200N for combined reflection and transmission XRD studies at high temperatures up to 1200 °C
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高溫熔爐室：HTK 1200N

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HTK 1200N 是一種先進的高溫室，具有堅固的設計，可在高達 1200°C 的不同氣氛中進行原位 X 射線衍射研究。其環保加熱器可確保樣本溫度的均勻性。利用 HTK 1200N 進行不同類型的原位 X- 射線衍射研究，包括相變、結構測定和化學反應的研究。

主要功能

精確的溫度測量和控制

  • 高度可靠地進行樣本溫度測量
  • 樣本均勻加熱
  • 對樣本厚度幾乎無限制

 

樣本旋轉是關鍵

  • 旋轉樣本可優化資料品質
  • 可使用能夠耐受各種化學物質的樣本承載台
  • 快速更換樣本承載台，樣本製備簡單

 

大範圍應用的理想工具

  • 使用高品質材料，堅固設計且小巧
  • 適用於大部分測角儀
  • 可與自動機械 z- 對準台使用，用於重新對準隨溫度變化的樣本

技術規格

工作溫度25 °C 至 1200 °C
溫度測量Pt 10% RhPt 熱電偶
空氣真空 (10-4 mbar)、空氣、惰性氣體
最大工作壓力高出大氣壓力 1 bar
入射角0 到 164° 2Θ
樣本架材料氧化鋁
樣本直徑最大 16 mm
測量尺寸反射 + 傳輸

安東帕認證服務

安東帕在服務和支援方面的品質：
  • 全球超過 350 位製造商認證的技術專家
  • 以當地語言提供的合格支援
  • 在整個儀器生命週期中保護您的投資
  • 三年保固
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HTK 1200N Sample carrier flat

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零件編號: 16412

HTK 1200N Sample carrier 0.8 mm deep

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Fixing ring for sample carrier HTK 1200N

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HTK 1200N Sample carrier 0.4 mm deep

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