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Hochtemperatur-Ofenkammer:
HTK 1200N

  • Die Hochtemperaturkammer HTK 1200N ist ein modernes Gerät in robustem Design für In-situ-Röntgenbeugung in verschiedenen Atmosphären bis 1.200 °C.
  • Hochtemperatur-Ofenkammer: HTK 1200N
  • Hochtemperatur-Ofenkammer HTK 1200N für kombinierte Untersuchungen in Reflexions- und Transmissionsgeometrie bei hohen Temperaturen bis zu 1.200 °C
  • Die Hochtemperaturkammer HTK 1200N ist ein modernes Gerät in robustem Design für In-situ-Röntgenbeugung in verschiedenen Atmosphären bis 1.200 °C.
  • Hochtemperatur-Ofenkammer: HTK 1200N
  • Hochtemperatur-Ofenkammer HTK 1200N für kombinierte Untersuchungen in Reflexions- und Transmissionsgeometrie bei hohen Temperaturen bis zu 1.200 °C

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Individuelle Einstellungen

  • Unterstützt In-situ-XRD-Untersuchungen bei bis zu 1.200 °C in verschiedenen Atmosphären
  • Präzise und zuverlässige Temperaturmessung mit hervorragender Gleichmäßigkeit
  • Option zur Probenrotation für verbesserte Datenqualität und flexible Probenträger
  • Langlebiges, kompaktes Design, kompatibel mit den meisten Goniometern 
     
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HTK 1200N

Die Hochtemperaturkammer HTK 1200N ist ein modernes Gerät in robustem Design für In-situ-Röntgenbeugung in verschiedenen Atmosphären bis 1.200 °C. Seine Umgebungsheizung garantiert eine hervorragende Gleichmäßigkeit der Probentemperatur. Setzen Sie die verlässliche HTK 1200N für unterschiedliche In-situ-Röntgenstrukturuntersuchungen ein: unter anderem für die Untersuchung von Phasenübergängen, Strukturbestimmungen sowie für Untersuchungen chemischer Reaktionen.

Spezifikationen

Betriebstemperatur25 °C bis 1.200 °C
TemperaturmessungPt 10 % RhPt Thermoelement
AtmosphärenVakuum (10-4 mbar), Luft, Inertgas
Max. Arbeitsdruck1 bar über Atmosphärendruck
Einfallswinkel0 bis 164 ° 2Θ
ProbenhaltermaterialAluminiumoxid
ProbendurchmesserMax. 16 mm
Messgeometrie Reflexion + Transmission

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