• HTK 1200N - chambre haute température de conception robuste pour des examens de diffraction des rayons X in-situ dans différentes atmosphères jusqu'à 1 200 °C
  • High-Temperature Oven Chamber: HTK 1200N
  • High-Temperature Oven Chamber: HTK 1200N for combined reflection and transmission XRD studies at high temperatures up to 1200 °C
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Chambre du four haute température :
HTK 1200N

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Le HTK 1200N est une chambre haute température avancée de conception robuste pour des examens de diffraction des rayons X in-situ dans différentes atmosphères jusqu'à 1200 °C. Son chauffage environnemental garantit une excellente uniformité de la température de l'échantillon. Utilisez la HTK 1200N pour différents types d'études des rayons X in-situ, y compris des études des transformations de phase, de détermination de structure et des études des réactions chimiques.

Caractéristiques principales

Mesure et contrôle précis de la température

  • Mesure hautement fiable de la température juste à l'endroit où se trouve l'échantillon
  • Excellente uniformité de température dans l'échantillon
  • Pratiquement aucune restriction concernant l'épaisseur de l'échantillon

 

La rotation de l'échantillon est cruciale

  • Option de rotation de l'échantillon pour des qualité de données optimales
  • Supports d'échantillons de différents matériaux résistants aux produits chimiques disponibles
  • Remplacement rapide des supports d'échantillons pour une préparation aisée des échantillons

 

L'outil idéal pour une large gamme d'applications

  • Une conception robuste et compacte utilisant des matériaux de grande qualité
  • Compatible avec la plupart des goniomètres disponibles
  • Existe avec une platine à alignement z motorisée automatisée permettant le réalignement des échantillons en fonction de la température

Spécifications techniques

Température de service25 °C à 1200 °C
Mesure de la températureThermocouple Pt 10% Rh-Pt
AtmosphèresVide (10-4 mbar), air, gaz inertes
Pression de service max.1 bar au dessus de la pression atmosphérique
Angle d'incidence0 à 164° 2Θ
Matériau du support d'échantillonsOxyde d'aluminium
Diamètre des échantillons16 mm max.
Géométrie de mesureRéflexion+ transmission

Service certifié Anton Paar

La qualité du service et du support Anton Paar :
  • Plus de 350 experts techniques certifiés par les fabricants dans le monde
  • Assistance qualifiée dans votre langue locale
  • Protection de votre investissement tout au long de son cycle de vie
  • 3 ans de garantie
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Référence: 7580

Fixing ring for sample carrier HTK 1200N

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HTK 1200N Sample carrier 0.4 mm deep

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HTK 1200N Sample carrier 0.8 mm deep

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HTK 1200N Sample carrier flat

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