用於高解析度 SAXS 和 XRD 的真空室：
EVAC 模組

由於完全真空的光束路徑，可達到無敵的訊噪比
用於測量的專用 SAXS 光學元件，具有獨立 SAXS 儀器的品質
適用於反射或透射中的高解析度 XRD 研究
測量不受 2θ 範圍的任何限制

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主要功能
技術規格
適用的儀器
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XRDynamic 500 的 EVAC 模組為 SAXS 和 XRD 測量提供完全真空的光束路徑，以完全消除寄生空氣散射，為樣品提供最大光束強度和無敵的訊噪比。EVAC 模組能夠在盡可能寬的測量範圍內與所有 XRD 或 SAXS 樣品架一起使用，提供無敵的測量效能，具備您需要的測量靈活性。使用隨附的無散射 SAXS 光學元件，EVAC 模組可以產生衍射儀上前所未有品質的 SAXS 資料！

主要功能

在繞射儀上進行一流的奈米結構分析

EVAC 模組和 XRDynamic 500 之組合，首次將專用線準直 SAXS 儀器的品質導入繞射儀。當與最佳化的 SAXS 光學元件 (包括 EVAC 模組的無散射狹縫) 一起使用時，可以達到 q_min = 0.05 nm⁻¹ 的解析度，這為 XRD 平台上的 SAXS 測量樹立了新標準。使用 EVAC 模組和 XRDynamic 500，各向同性、膠體和生物樣品的 SAXS 測量變得容易多了！

無與倫比的資料品質，無附加空氣散射

EVAC 模組和 XRDynamic 500 的真空光學單元實現的從源到偵測器的完全真空光束路徑，提供了可能最佳的訊噪比，因所有附加空氣散射都已消除。這為所有測量提高了強度，並且在使用低能量 X-ray (如 Cr 或 Co Kα) 時尤其有益。

對於 SAXS、WAXS、XRD 和 PDF 分析而言，測量不受限制

無論是 SAXS、XRD 還是 PDF 測量，EVAC 模組都不會對您執行測量的方式設置任何限制。反射或透射，粉末樣品承載台或毛細管，一切皆有可能。最重要的是，由於 EVAC 模組與輔助測角儀臂一起旋轉的獨特功能，因此不限制測量角度，可以一次性無縫測量從 0° 到 162.5° 2θ 的資料。

技術規格

測量範圍：	-10° ̶ 162.5° 2theta
q_min	0.05 nm⁻¹
樣品架：	所有具有標準尺寸的 XRD 樣品架用於液體的 SWAXS 樣品架用於固體的 SWAXS 樣品架用於拋棄式毛細管的 SWAXS 樣品架用於黏性樣品/漿糊的 SWAXS 樣品架