
造粒和乾燥:壓片的挑戰
藥錠的製造除了使用活性藥物成分 (API),也會使用賦形劑來改善粉末的加工和最終劑型的品質。壓製藥錠是一個包含多個步驟的製程,成功與否取決於所用儀器的參數和粉末的處理。造粒與乾燥尤其需要適當的賦形劑組合。本應用報告調查研磨和篩選過後的賦形劑具備的水分吸收能力及甲基纖維素,決定其在濕式造粒過程中的行為。此外也在不同的溫度下對相同的賦形劑進行測試,以重現流體化床乾燥機的乾燥效果。結果發現濕式造粒過程中吸收的水分量及乾燥過程中的連續溫度效應對於流量和壓縮特性都會造成影響。瞭解更多資訊

觸媒特性分析
在催化劑反應之前以及在其消耗形式時進行特性分析,可以提供關於催化過程的有效性和效率等重要資訊,並作為未來催化劑的設計指導。在這方面,最重要的參數是孔徑大小、孔隙體積、活性表面積、粒徑、表面酸性、流化行為和內聚性質。下載此應用報告,瞭解如何使用安東帕儀器進行實驗以得到這些參數的深入見解,及其如何協助催化劑的開發和品質控制。瞭解更多資訊

食品特性分析
食品粉末配方、製造和包裝過程重視每批間的一致性,以確保消費者的安全和忠誠度。使用安東帕儀器測量食品粉末的密度、粒徑、內聚強度、可壓縮性和滲透性,從實驗中得到的見解可以幫助提高食品粉末的品質和一致性。本應用報告著重於奶粉和通用麵粉,因為它們是普遍可得的產品,也是許多其他食品和營養補充劑的關鍵成分。瞭解更多資訊

金屬粉末特性分析
金屬粉末應用於許多粉末冶金操作,例如積層製造。為了確保產品的高品質,粉末的性質極為重要。典型的粉末分析方法包括粉末流變測定、動態光散射、BET 和密度測量。下載應用報告,以瞭解這些互補方法如何用於測定流動性質、孔隙率、可壓縮性、填充密度、尺寸分布等等。您可使用一套能夠執行這些方法的儀器來分析金屬粉末特性,確保生產過程中的流暢性以及燒結產品的穩定性,並確定過去生產的過量金屬粉末是否仍然可用。瞭解更多資訊

研究食物的性質
食品中的顆粒大小不僅影響生產過程的許多方面(例如運輸、儲存、保存期限),還會大幅影響感官性質,例如味道和口感。PSA 粒徑分析儀能夠測量液體和乾式分散體,其測量範圍廣泛,涵蓋奈米到毫米尺寸,非常適合食品產業的生產和品質控制要求。下載應用報告,瞭解應用雷射繞射技術分析食物特性的好處。瞭解更多資訊

由細胞培養液分離出來的胞外泌體之特性分析
胞外泌體作為藥物遞輸系統的潛力已得到長久以來的認可。本應用報告介紹 Litesizer™ 500 如何有效進行胞外泌體粒徑的特性分析,該標準可用於監測體外胞外泌體的穩定性。並進行 Zeta 電位測量,提供關於胞外泌體生物學功能的潛在有用資訊。下載應用報告,瞭解胞外泌體的特性分析。瞭解更多資訊
測量 | 技術 | 散布類型 | 測量範圍 | |
---|---|---|---|---|
表面積、孔徑 | 氣體吸附(物理吸附、化學吸附) | 乾燥 | 孔徑範圍 0.35 nm 至 500 nm BET 表面積 絕對檢測限值:0.1 m² (N2 77K) 特定檢測限值:0.01 m²/g (N2 77K) 活性面積 絕對檢測限值:0.03 m²(鉑 313 K 上的 H2) 特定檢測限值:0.003 m²/g(鉑 313K 上的 H2) | |
Autotap 及 Dual Autotap 顯示產品詳情送出請求 | 總(體)密度、粉體流動特性 | 振實密度 | 乾燥 | 1 cm³ 至 1,000 cm³ |
反應面積 | 氣體吸附(化學吸附) | 乾燥 | ||
樣品製備 | 真空、流動脫氣 | 乾燥 | ||
氣體儲存容量 | 高壓、氣體吸附 | 乾燥 | ||
粒徑、顆粒形狀 | 動態圖像分析 | 液體 | 粒徑範圍 0.8 nm 至 16,000 µm | |
粒徑 | 動態光散射 | 液體 | 粒徑範圍 0.3 nm 至 10 µm | |
粒徑、Zeta 電位 | 動態光散射、電泳光散射 (ELS)、靜態光散射 (SLS) | 液體 | 粒徑範圍 0.3 nm 至 10 µm | |
粒徑、Zeta 電位 | 動態光散射、電泳光散射 (ELS)、靜態光散射 (SLS) | 液體 | 粒徑範圍 0.3 nm 至 10 µm | |
粉體流動特性 | 多種粉體流動測量方法流變研究 | 乾/液體 | 粒徑範圍 5 nm 至 5 mm | |
粉體流動特性,密度 | 剪切測試 | 乾/液體 | ||
表面積、孔徑 | 氣體吸附 | 乾燥 | 孔徑範圍 0.35 nm 至 500 nm;2 nm 至 500 nm(以 N2或 Ar) 0.35 nm 至 2 nm(以碳上的 CO₂) 可量測之最小表面積 0.01 m²/g | |
孔徑 | 孔隙度 | 乾燥 | 體積範圍 0.05 cc 孔徑範圍 1,100 µm 至 0.0064 µm | |
PSA 1090 顯示產品詳情送出請求 | 粒徑 | 雷射繞射 | 乾/液體 | 粒徑範圍 0.1 μm (乾) / 0.04 μm(溼)至 500 μm |
PSA 1190 顯示產品詳情送出請求 | 粒徑 | 雷射繞射 | 乾/液體 | 粒徑範圍 0.1 µm(乾) /0.04 µm(溼)至 2,500 µm |
PSA 990 顯示產品詳情送出請求 | 粒徑 | 雷射繞射 | 乾/液體 | 粒徑範圍 0.3 μm(乾) / 0.2 μm(溼)至 500 μm |
粒徑、顆粒形狀和內部結構 | SAXS、WAXS、GISAXS | 乾/液體 | 粒徑範圍/孔徑範圍 1 nm 至 105 nm(q 範圍(Cu K-alpha): 0.03 nm⁻¹ 至 41 nm⁻¹) | |
SAXSpoint 5.0 顯示產品詳情送出請求 | 粒徑、顆粒形狀和內部結構 | SAXS、WAXS、GISAXS | 乾/液體 | 粒徑範圍/孔徑範圍 1 nm 至 160 nm(q 範圍(Cu K-alpha): 0.02 nm⁻¹ 至 41 nm⁻¹) |
(真)密度 | 氣體比重瓶 | 4 cm³ 至 135 cm³ | ||
(真)密度 | 氣體比重瓶 | 4 cm³ 至 135 cm³ | ||
(開)孔含量 | 氣體比重瓶 | 乾燥 | 4 cm³ 至 135 cm³ | |
(真)密度 | 氣體比重瓶 | 0.25 cm³ 至 4.5 cm³ | ||
VSTAR 顯示產品詳情送出請求 | 蒸氣吸收 | 蒸氣吸附 | 乾燥 | |
粒徑、相位純度、晶體結構 | XRD、SAXS、WAXS | 微晶尺寸 5 nm 至 500 nm 相分數 >0.1% |

粒徑分析儀
粒子的組成可能非常複雜,但測量可以更簡單!Litesizer DLS、PSA 系列和 Litesizer DIA 500 只需要按一下按鈕,即可進行粒徑測量和其他測量功能:
- Litesizer DLS 系列:利用動態光散射進行粒徑分析,涵蓋從較小的奈米至較大的微米範圍,包括 zeta 電位、分子量、透射率和折射率測量
- PSA 系列:利用雷射繞射進行液體和乾式分散體尺寸分析,可測量達毫米範圍
- Litesizer DIA 500:使用液體、乾燥和自由落體分散體對 0.8 µm 至 16000 µm 的粒徑和顆粒形狀進行動態影像分析
- 專注於您的粒子:Kalliope™ 軟體支援此兩種儀器,並最小化操作員的介入
一開始就展現專業
與安東帕的粒子特性化產品組合一樣廣泛,許多儀器都有一個共同點:它們是同類產品中的第一款,並且仍是該領域的旗艦型儀器。例如,1967 年發明的 PSA,是首款使用雷射繞射技術的粒徑分析儀。首款商用的小角度 X 光散射 (SAXS) 攝影機,由 Otto Kratky 在 1957 年開發成功,安東帕負責生產製造。直至今日,安東帕 SAXS 系統仍是該技術領域的標竿。安東帕旗下品牌 Quantachrome Instruments,自 1968 年起一直是業界第一。從一開始便組成專門的科學技術團隊,創新開發過程,保持與使用者密切互動,因此能提出測量多孔性材料和粉體的最佳可能的解決方案。
藉由安東帕粒子特性分析專業技術,協助您完成粒子研究與材料開發。
除了一系列的儀表儀器設備,安東帕還可提供各種應用諮詢和實用資訊。在安東帕 Wiki 上的應用報告及網路研討會中,您可獲得深入詳盡的顆粒特性分析知識,例如:
- 動態光散射(DLS): 粒徑測量基礎概論
- 粒徑測定
- 如何選擇用於粒子分析的儀器
- 適用於粒徑測定的雷射繞射
- 粉體流變學
- 利用小角度 X 光散射 (SAXS) 分析奈米結構
- 表面積測定
- BET 理論
- 如何以 (ELS) 測量 zeta 電位?
- 孔徑測量技術
- X-Ray 繞射 (XRD)
- 更多...
利用這些資源和我們長久累積的粒子分析特性專業知識,您可探索新應用領域,取得生產、品質控制、產品開發的最佳成果。關於儀器與應用的任何問題,您都可直接與我們聯繫。聯絡我們