Komora reakcyjna:
XRK 900
Komora reakcyjna XRK 900 to jedyna na rynku komora grzewcza zaprojektowana z myślą o przeprowadzaniu doświadczeń dyfrakcji promieniowania rentgenowskiego w związku z badaniami reakcji w fazie stałej oraz w fazach stałej i gazowej zachodzących w warunkach temperatury i ciśnienia do 900°C i 10 bar. To wyjątkowe narzędzie do miejscowych badań dyfrakcji promieniowania rentgenowskiego – niezrównane pod względem wytrzymałości i osiągów.
Podstawowe charakterystyki
Optymalna do reakcji w fazach stałej i gazowej
- piecowy podgrzewacz zapewniający nadzwyczajną jednorodność temperatury w obrębie próbki
- miarodajny pomiar i niezawodna regulacja temperatury próbki
- równomierne płukanie i przepływ gazu wewnątrz komory – bez martwych objętości
Wytrzymała konstrukcja
- długi okres eksploatacji dzięki zastosowaniu wysokiej jakości materiałów
- temperatura obudowy do 150°C zapobiegająca skraplaniu produktów reakcji
- kompatybilność z wszelkimi powszechnie stosowanymi dyfraktometrami
Szeroki wybór uchwytów na próbki
- różne materiały, każdy wysoce odporny chemicznie
- opcjonalne wirowanie próbki zapewniające wysoką jakość danych dyfrakcji
- otwarte uchwyty na próbki dla potrzeb ekstrahowania gazów przez próbkę
- łatwa zmiana próbki
Specyfikacje
| Temperatura pracy | od 25 do 900°C |
|---|---|
| Pomiar temperatury | z wykorzystaniem termopary niklowo-chromowej lub niklowo-aluminiowej |
| Atmosfery | próżnia (1 mbar), powietrze, gaz obojętny, gaz czynny |
| Maksymalna temperatura obudowy | 150°C |
| Kąt padania | 2Θ od 0 do +165° |
| Maksymalne ciśnienie robocze | od 1 mbar do 10 bar |
| Materiał uchwytu na próbkę | stal nierdzewna lub tworzywo szklano-ceramiczne |
| Średnica próbki | maks. 14 mm |
| Geometria pomiaru | odbiciowa |
Certyfikowany serwis Anton Paar
- ponad 350 certyfikowanych przez producentów ekspertów technicznych na całym świecie
- Wykwalifikowany zespół wsparcia posługujący się lokalnym językiem
- Ochrona Twojej inwestycji przez cały okres jej użytkowania
- Trzyletnia gwarancja
Dokumenty
-
XRK 900 Reactor Chamber Broszury
-
Autoclave Chamber - In-situ XRD experiments under hydrothermal conditions Sprawozdania z testów zastosowań
-
Graphitic Nano-fibers – A Candidate for Hydrogen Storage Sprawozdania z testów zastosowań
-
Investigation of Synthesis Parameters on Growth of Semiconducting Nanoparticles Sprawozdania z testów zastosowań
-
Monitoring Cobalt Reduction and Carbide Formation of Fischer- Tropsch catalysts using in-situ X-ray diffraction Sprawozdania z testów zastosowań
Urządzenia kompatybilne
Produkty uzupełniające
Jeśli nie możesz znaleźć żądanej pozycji, skontaktuj się z przedstawicielem handlowym firmy Anton Paar.
SIEVE FOR SAMPLE HOLDER OPEN MACOR
Macor plate with Ø 0.5 mm holes for gas flow through the sample.
SAMPLE HOLDER CLOSED MADE OF GLASS CERAMICS (MACOR)
Closed sample holder made of Macor (glass ceramics) Gas flow through the sample and extraction of gas through the sample holder is not possible.
SIEVE 0.2 mm MACOR FOR XRK SAMPLE HOLDER OPEN
Macor plate with Ø 0.2 mm holes for gas flow through the sample.
SAMPLE HOLDER CLOSED MADE OF STAINLESS STEEL
Closed stainless steel sample holder. Gas flow through the sample and extraction of gas through the sample holder is not possible. Maximum operating temperature 600 °C.
SAMPLE HOLDER OPEN STEEL WITH SIEVE
Stainless steel sample holder where the sample is placed on a sieve plate. Gas can flow through the sample and can be extracted at the bottom of the sample holder. Not feasible for vacuum operation of XRK 900. Maximum operating temperature 600 °C.
SAMPLE HOLDER OPEN MACOR WITH SIEVE
Sample holder made of Macor (glass ceramics) where the sample is placed on a sieve plate (69963). Gas can flow through the sample and can be extracted at the bottom of the sample holder. Not feasible for vacuum operation of XRK 900
SPARE PARTS PACKAGE XRK 900
Consists of:
- 2 Pcs. 17162 Set of Kapton foils (XRK with BE foil)
- 1 Pc. 13463 Pressure hose silicone (6.5 m)
- 1 Pc. 70175 Vacuum grease (20 g)
- 1 Pc. 10213 Set of O-Rings
Si (510) ZERO BACKGROUND INSERT XRK
Si(510) plate of 0.5 mm thickness without X-ray scattering for X-ray transparent samples. Maximum temperature in oxidizing atmospheres: 500 °C Maximum temperature in non-reactive atmospheres: 900 °C.
