Partikelcharakterisierung
New horizons in particle analysis
Je besser Sie über Ihre Partikel Bescheid wissen, desto besser können Sie das Verhalten Ihres Materials vorhersagen. Zu den Parametern, die Sie für diese Untersuchungen messen wollen, gehören Partikelgröße, Porengröße, Form der Partikel, interne Struktur, Zetapotenzial, spezifische Oberfläche, aktive Oberfläche, Dichte, Fließverhalten und viele mehr. Anton Paar bietet Ihnen passende Instrumente für die Bestimmung all dieser Parameter und mehr – das weltweit umfassendste Portfolio für Partikelcharakterisierung aus einer Hand.
Profitieren Sie von diesem breiten Angebot und unserer jahrzehntelangen Erfahrung auf diesem Gebiet – alles von einem einzigen Ansprechpartner.
Technologien, Parameter, Instrumente: Finden Sie das für Sie perfekt passende Instrument!
Klicken Sie auf den jeweiligen Parameter, um zu sehen, was Anton Paar Ihnen in einem bestimmen Gebiet der Partikelcharakterisierung alles anbieten kann. Sie können dann die Tabellenfilter nutzen, um Ihre Suche auf eine spezifische Technologie zu konzentrieren und Informationen zu den verschiedenen Messbereichen zu erhalten.
Wenn Sie auf ein Instrument klicken, können Sie dessen Funktionen und Spezifikationen im Detail sehen.
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Messung |
Technologie |
Dispersionsart |
Messbereich |
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|---|---|---|---|---|
| Dampfadsorption | Gravimetrische Wasserdampfsorption | Trocken | ||
| Oberfläche, Porengröße | Gassorption |
Porengrößenbereich
2 nm - 500 nm (mit N oder Ar) 0,35 nm - 2 nm (mit CO₂‚ bei C) Messbare Oberfläche (minimal) 0,1 m²/g |
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| Oberfläche, Porengröße | Gassorption (Physisorption, Chemisorption) | Trocken |
Porengrößenbereich
0,35 nm - 500 nm Messbare Oberfläche (minimal) von 0,0005 m²/g mit Krypton, von 0,01m²/g mit N₂ |
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| Dichte | Stampfdichte | Trocken |
Volumenbereich
1 cc |
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| Aktive Oberfläche | Gassorption (Chemisorption) | Trocken | ||
| Aktive Oberfläche | Gassorption (Chemisorption) | Trocken | ||
| Probenvorbereitung | Vakuum-Degassing und Durchfluss-Degassing | Trocken | ||
| Gasspeicherkapazität | Hochdruckgasadsorption | Trocken | ||
| Partikelgröße | Dynamische Lichtstreuung | Flüssig |
Partikelgrößenbereich
0,3 nm - 10 µm |
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| Partikelgröße, Zetapotenzial | Dynamische Lichtstreuung, Elektrophoretische Lichtstreuung (ELS), Statische Lichtstreuung (SLS) | Flüssigkeit |
Partikelgrößenbereich
0,3 nm - 10 µm |
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| Probenvorbereitung | Vakuum-Degassing und Durchfluss-Degassing |
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| Fließeigenschaften von Pulvern | Methoden zur Pulverflussmessung Rheologie | Trocken / flüssig |
Partikelgrößenbereich
5 nm - 5 mm |
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| Probenvorbereitung | Repräsentative Probennahme |
Volumenbereich
20 cc |
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| Dichte | Gas-Pyknometrie |
Volumenbereich
0.025 cc |
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| Oberfläche, Porengröße | Gassorption | Trocken |
Porengrößenbereich
0,35 nm - 500 nm / 2 nm - 500 nm (mit N oder Ar) 0,35 nm - 2 nm (mit COâ‚ bei C) Messbare Oberfläche (minimal) 0,01 m² / g |
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| Porosität | Gas-Pyknometrie | Trocken |
Volumenbereich
1 cc |
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| Dichte | Gas-Pyknometrie | Trocken |
Volumenbereich
1 cc |
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| Porengröße | Porosimetrie | Trocken |
Volumenbereich
0,05 cc Porengrößenbereich 1100 - 0,0064 µm |
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| Partikelgröße | Laserbeugung | Trocken / flüssig |
Partikelgrößenbereich
0,1 μm (trocken) 0,04 μm (flüssig) bis 500 μm |
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| Partikelgröße | Laserbeugung | Trocken / flüssig |
Partikelgrößenbereich
0,1 μm (trocken) 0,04 μm (flüssig) bis 2500 μm |
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| Partikelgröße | Laserbeugung | Trocken / flüssig |
Partikelgrößenbereich
0,3 μm (trocken) 0.2 μm (flüssig) bis 500 μm |
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| Oberfläche, Porengröße | Gassorption | Trocken |
Porengrößenbereich
0,35 nm - 500 nm 0,35 nm - 2 nm (mit CO₂ bei C) Messbare Oberfläche (minimal) 0,01 m²/g; 0,0005 m²/g |
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| Partikelgröße, Partikelform und Innenstruktur | SAXS, WAXS, GISAXS | Trocken / flüssig |
Partikelgrößenbereich / Porengrößenbereich
< 1nm - 105 nm (q-Bereich (Cu Kalpha): 0,03 nm⁻¹ bis 41 nm⁻¹) |
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| Partikelgröße, Partikelform und Innenstruktur | SAXS, WAXS, GISAXS | Trocken / flüssig |
Partikelgrößenbereich / Porengrößenbereich
< 1nm - 160 nm (q-Bereich (Cu Kalpha): 0,02 nm⁻¹ bis 41 nm⁻¹) |
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| Porosität | Gas-Pyknometrie | Trocken |
Volumenbereich
1 cc |
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| Dichte | Gas-Pyknometrie | Trocken |
Volumenbereich
1 cc |
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| Dampfadsorption | Dampfsorption | Trocken | ||
| Probenvorbereitung | Vakuum-Degassing | Trocken |
Experten von Anfang an
Auch wenn das Portfolio für die Partikelcharakterisierung von Anton Paar sehr breit gefächert ist, haben einige Geräte doch etwas gemeinsam: Sie waren die ersten ihrer Art und sind nach wie vor führend in ihrem Einsatzbereich. Zum Beispiel war das im Jahre 1967 erfundene PSA das erste Analysegerät zur Messung der Partikelgröße mittels Laserbeugung. Die erste kommerzielle, von Otto Kratky 1957 entwickelte Kamera für Röntgenkleinwinkelstreuung (SAXS) wurde von Anton Paar hergestellt. Die SAXS-Systeme von Anton Paar sind heute nach wie vor der Maßstab im Bereich dieser Technologie. Quantachrome Instruments, eine Marke von Anton Paar, begann Ihren Weg an die Spitze im Jahr 1968. Seitdem entwickeln engagierte Teams von Wissenschaftlern Innovationen in enger Zusammenarbeit mit den Anwendern, aus denen bestmögliche Lösungen für die Analyse von porösen Materialien und Pulvern hervorgehen.
Nutzen Sie Anton Paars Expertise in der Partikelcharakterisierung für Ihre Partikelforschung und Materialentwicklung.
Neben einem breiten Portfolio an spezifischen Instrumenten bietet Anton Paar umfassende Beratung und Informationen zu allen möglichen Anwendungsfällen. Applikationsberichte, das Anton Paar Wiki, der Anton Paar Blog und Webinare vermitteln profunde Kenntnisse zu Themen der Partikelcharakterisierung wie zum Beispiel:
- Dynamische Lichtstreuung (DLS): Das Konzept, das der Messung der Partikelgröße zugrunde liegt
- Bestimmung der Partikelgröße
- Verteilung der Partikelgröße
- Grundlagen der Laserbeugung (LD)
- Pulver-Rheologie
- Analyse der Nanostruktur mit Röntgenkleinwinkelstreuung (SAXS)
- Bestimmung der Oberfläche
- Feststoffdichte von Pulvern
- Messen des Zetapotenzials mit (ELS)
- und viele weitere ...
Profitieren Sie von diesen Ressourcen und unserer langjährigen Erfahrung in der Partikelcharakterisierung, um neue Anwendungsbereiche zu entdecken, und erzielen Sie in der Produktion, Qualitätskontrolle und Produktentwicklung optimale Ergebnisse. Natürlich können Sie sich auch mit jeglichen Fragen zu den Instrumenten und Anwendungen direkt an uns wenden.
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Sind Sie praktisch orientiert und möchten unsere Instrumente am liebsten live im Einsatz sehen? Finden Sie heraus, ob eines unserer Technical Centers Ihr gewünschtes Instrument verfügbar hat oder ob ein Seminar zur Partikelcharakterisierung in Ihrer Region geplant ist.
