MCR 流變儀系列的對流溫控裝置,提供無懈可擊的溫度控制功能,適用於測量熔體和固體 (DMA)、薄膜和纖維的拉伸流變學分析。產品採用對稱設計,可確保絕對均勻的溫度分佈,進而在所有測量系統中(包括平行板及實心棒固定裝置)提供精確穩定的溫度控制,無論測量聚合物熔體、玻璃熔體、鹽熔體、金屬熔體和固體,均可獲得最佳結果。此對流溫度裝置具備創新設計和全方位的配件,是成為流變學專家不可或缺的利器。
主要功能

控制最重要的影響因子
對流溫度裝置可以控制最重要的流變學影響因子:溫度。極大的作業溫度範圍,可滿足您特定樣品的需求。同時,該設計幾乎全面支援 MCR 配件組合及豐富多樣的測量系統,從平行板系統(包括一次性系統)至扭轉、伸展的動態機械分析皆可勝任。此外,還可以配合溫度來控制樣品的相對濕度。憑藉高度精準的溫度控制,各種流變測試均可獲得真正準確的結果。

最創新的生產技術,值得您的依賴
採用 3D 金屬列印等尖端生產技術,將溫度控制提升到全新境界。CTD 600 MDR 對流溫度裝置內殼採獨特設計,每件都是一體成型,在爐內產生絕對均勻的溫度分佈。使用 CTD 600 MDR,讓溫度梯度成為過去式。此外,系統對於氣體流速需求極低,可徹底避免空氣渦流或乾燥樣品對測量效果的不良影響。

受益於廣泛的 MCR 配件組合
流變特性分析功能適用於低黏度液體到固體等各種材料。要測量不同類型的樣品,您會需要各種不同的測量系統。如此廣泛多樣的應用,需要溫度控制解決方案提供全面的靈活度,來達成溫度、測量系統和測試方面的效能:
還提供適合各種應用的低溫選項。

輕鬆設定且簡便易用
無論選擇何種系統,所有溫度裝置皆可快速、輕鬆整合和更換,而流變儀還能可靠地適應各種新的設定和溫度要求。以下 MCR 功能可確保這一點:Toolmaster™ 會自動識別和設定所有連接的裝置,TruGap™ 則可以控制並調整流變儀的實際測量間隙。T-Ready™ 可立即檢測溫度平衡,來縮短不必要的等待時間。CTD 600 MDR 溫度裝置具備整合式無反射內部照明,可確保在測量過程中充分檢視樣品。

即使在高溫下也安全無虞
安東帕 MCR 系列對流溫度裝置所有的外部表面均採遮蔽式防護,可支援至最高作業溫度。排氣裝置設有冷卻機構,確保在任何溫度下皆能安全、方便地使用。關閉加熱爐時,整合式機構可防止殼體接觸測量系統,避免損壞裝置。

在測量過程中獲取樣品的即時洞察資訊
整合式內部照明與高畫質數位攝影機結合的高品質光學系統,在完整的溫度範圍內,確保清晰樣品即時圖像和影像有助於詳細研究不同的測量效果,例如:邊緣斷裂、下垂、光學可見的相變、劣化和間隙排空。此外,該資料可以為分析添加有價值的資訊,並驗證測量結果。流變儀採用 RheoCompass™ 軟體的多媒體瀏覽器,可顯示即時的攝影機圖片和影像,並直接添加至圖表或指定至取得記錄的測量點。只需不到 1 分鐘,就可以將數位視覺攝影機安裝至 CTD。
技術規格
樣品室 | 溫度範圍 | 溫度控制 | 最大加熱速率 | 最大冷卻速率 | 典型材料 | 測量系統¹ | 配件 |
CTD 180 | -20 °C 至 180 °C | Peltier 對流溫控 | 18 °C/min | 10 °C/min | 食品、塗料、油漆、化妝品、藥品、清潔劑、溶劑、黏合劑、密封劑、增塑溶膠、熱熔膠、石化產品、瀝青、柏油、環氧樹脂、聚合物溶液 | PP、一次性 PP、CP、CC、SRF、UXF、SCF、SER、摩擦學、CTL、TPB 粉體剪切池 | 選配: |
CTD 450 TDR | -150 ℃ 至 450 ℃ | 電氣對流 | 50 °C/min | 35 °C/min | 聚合物熔體、加固材料、薄膜和纖維、環氧樹脂、鋁、金屬及合金、低溫玻璃 | PP、一次性 PP、CP、CC、SRF、UXF、SCF、SER、CPP、摩擦學 | 選配:
|
CTD 600 MDR | -160 ℃ 至 600 ℃ | 電氣對流 | 35 °C/min | 30 °C/min | 聚合物熔體、加固材料、薄膜和纖維、環氧樹脂、鋁、金屬及合金、低溫玻璃 | PP、一次性 PP、CP、CC、SRF、UXF、SCF、SER、CPP、摩擦學、CTL、TPB 粉體剪切池 | 隨附:
|
CTD 1000 | -100 °C 至 1000 °C | 電氣對流 | 60 °C/min | 30 °C/min | 鋁、金屬及合金、低溫玻璃、鹽 | PP、CP、CC | 選配: |
[1] 需要客製化測量系統
文件
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