Optyka rentgenowska:
Wielowarstwowa optyka rentgenowska

Szeroki zakres optyki rentgenowskiej

Oferujemy szeroką gamę zaawansowanych optycznych układów rentgenowskich do różnych zastosowań. Układy wiązki równoległej (PBO i lustra Göbla) zapewniają wysoce skolimowane wiązki o typowej wielkości od 0,5 mm do 2,5 mm, co pozwala uzyskać niską rozbieżność wiązki konieczną podczas dyfrakcji rentgenowskiej (XRD). W zastosowaniach wymagających wysokiego stopnia intensywności optyka przekształca wiązki rozbieżne lub równoległe w wąskie linie lub punkty ogniskowe – typowo od 30 µm do 500 µm – idealne dla technik typu XRF, XRD i obrazowanie.

Dwuwymiarowa optyka rentgenowska (optyka Montela)

Dwuwymiarowy kolimacyjny układ optyczny (ASTIX-c) przekształca rozproszone promieniowanie w kwadratowe, równoległe wiązki o niskiej rozbieżności i długości krawędzi od 0,5 mm do 2,5 mm. Dodatek stanowi dwuwymiarowa optyka ogniskująca (ASTIX-f), która formuje wiązki o wysokim natężeniu skupione w punktach ogniskowych o średnicach od kilkuset mikrometrów (zależnie od wielkości próbki) do ok. 30 µm FWHM.

Systemy optyki rentgenowskiej

Nasze wszechstronne systemy optyki rentgenowskiej wykorzystują wielowarstwowe układy optyczne — samodzielnie lub w połączeniu z innymi układami — do generowania jedno- i dwuwymiarowych wiązek w postaci skolimowanej, zogniskowanej, skompresowanej lub rozszerzonej, wszystkie z atrybutami monochromatycznymi. Jeden z przykładów, układ podwójnego lustra, umożliwia precyzyjną reflektometrię rentgenowską w bardzo szerokim zakresie dynamicznym. Dodatkowe zastosowania obejmują dyfrakcję rentgenowską, tomografię i eksperymenty synchrotronowe. 

Dopasowanie do Twoich wymagań

Zaprojektowane do pracy w szerokim zakresie energii fotonów, nasze układy optyczne  dostępne są dla najczęściej używanych materiałów anodowych, w tym chromu (Cr), kobaltu (Co), miedzi (Cu), galu (Ga), molibdenu (Mo), rodu (Rh), srebra (Ag), indu (In) i wolframu (W). Rozwiązanie zapewnia optymalną wydajność różnorodnych zastosowań – od Cu Kα w standardowej dyfrakcji, przez Cr i Co w analizie naprężeń, po Mo, Ag lub In w przypadku próbek o dużej gęstości i danych o wysokiej rozdzielczości. Każdy wielowarstwowy układ optyczny jest dostosowany do odpowiedniej linii, aby zapewnić maksymalny strumień, czystość widmową i jakość wiązki.

Istnieje możliwość tworzenia spersonalizowanych układów luster wielowarstwowych o określonych ogniskowych, małych rozmiarach wiązki lub niskiej rozbieżności. Dostosowanie wielowarstwowej powłoki pozwala na dalszą optymalizację wydajności spektralnej lustra nawet po ustawieniu zewnętrznych parametrów geometrycznych. Optymalizacja systemu zwykle polega na regulacji strumienia wiązki, rozdzielczości spektralnej lub odbicia szerokopasmowego, w zależności czy wymagane jest natężenie fotonów, selektywność czy szeroki zakres energetyczny (jak ma to miejsce w układach synchrotonowych, plazmowych lub laserowych).

Lustra monochromatyczne do synchrotronów, FEL, EUV i innych źródeł

Linie synchrotronowe dobierające małe lub duże szerokości pasma energii wymagają urządzeń optycznych umożliwiających monochromatyzację wiązki. Stosowanie powłok wielowarstwowych w różnych konfiguracjach pozwala zapewnić wiązki o wysokiej rozdzielczości lub wysokim strumieniu, od EUV do twardego promieniowania rentgenowskiego do ~100 keV. Płaskie struktury wielowarstwowe z gradientem umożliwiają pracę z wiązkami rozbieżnymi lub mogą być wykorzystywane w układach analizatorów. Dodatkowe zastosowania obejmują konstrukcje szerokopasmowe lub pasmowoprzepustowe oraz lustra spolaryzowane pracujące w pobliżu kąta Brewstera.