MCR 的配件：
偏振光成像
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借助偏振光成像，您可以直接實時觀察和記錄樣品圖片和視頻，以深入了解流動引發液晶中的結晶過程、聚合物的應力分佈或局部剪切誘導效應。特別是在產品開發中，必須詳細了解結晶過程和晶體傾向，因為它們會嚴重影響產品的最終性能。
主要功能
記錄樣品的剪切並可視化剪切應力分佈
使用偏振光，光學器件和照相機直接監視剪切的樣品，並在可移動的偏光鏡之間進行選擇，以獲得偏振和去偏振圖像。此外，還有一個圓偏光鏡選項。 使用平行板或錐板測量系統，觀察較大的樣品區域（直徑為 25 mm），以觀察剪切下樣品內的剪切應力分佈。遠心光學器件可確保均勻照亮樣品，並將圖像直接定向到相機的 CCD 芯片上，同時保持樣品中出現的尺寸。使用 Peltier 在 -20 °C 至 200 °C 之間的溫度或在從室溫到 300 °C 的溫度範圍內進行電氣溫度控制時，您可以藉此研究溫度引起的過程。
觀看、分析數據並將其與視覺資訊直接配對
偏振光成像選項在流變測試過程中自動自動同時記錄圖像和視頻。由於它們由流變儀軟體 RheoCompass 儲存，因此您可以隨時分析記錄的測量圖像或視頻。圖片和視頻可以選擇性地直接顯示在圖表中，因此您可以將它們分配給記錄它們的測量點，並以此方式將其鏈接到流變資料。流變儀軟體可以控制流變儀和 CCD 攝影機。偏振光成像和流變分析之間的完美匹配為研究和開發提供了最有價值的資料。
還將流變儀與 RheoOptics 工具箱中的其他系統結合
偏振光成像選件是安東帕用於結構分析的配件產品組合的一部分，也是 MCR 流變儀系列的模組化 RheoOptics 工具箱的一部分。將 MCR 流變儀與「偏振光成像」選件結合使用或切換到其他光學附件僅需要最短的設置時間。珀爾帖（Peltier）和電溫度設備可以與其他流變光學工具一起使用以控制溫度，例如：拉曼光譜、紅外光譜、（螢光）光學顯微鏡和紫外線固化。藉此，您可以充分利用測量設備。可與 MCR 流變儀結合使用的其他結構分析設置，例如： Rheo-SALS （小角度光散射）和介電譜。
探索偏振光成像與您特定應用的相關性
結晶過程和不同類型的晶體與許多應用有關，例如在光學設備中。導致不同形態的機理尚不完全清楚，且影響因素如分子量尚不清楚。特別是在產品開發中，必須詳細了解結晶過程和晶體取向，以避免嚴重影響產品的最終性能。
使用偏振光成像，您可以：
- 透過改變材料的雙折射特性來檢測大分子和奈米顆粒的集體行為
- 在流變儀加載過程中控製材料的行為：檢查填充、追蹤氣泡或夾雜在間隙中的雜質
- 在熱處理過程中監控樣品：部分熔化或結晶
- 觀察邊緣斷裂和斷裂擴展
- 在間隙設置期間或之後（例如：使用聚合物熔體）監控樣品的殘餘應力。當樣品鬆弛且法向力很低時，您會看到黑色圖像。
文件
適用的儀器
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耗材
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