Evakuált kamra nagy felbontású SAXS és XRD méréshez:
EVAC modul

Verhetetlen jel-zaj arány a teljesen evakuált sugárút miatt
Dedikált SAXS optika egy önálló SAXS műszer minőségével végzett mérésekhez
Alkalmas nagy felbontású XRD vizsgálatokhoz reflexiónál vagy átvitelnél
Mérés a 2θ tartomány korlátozása nélkül

EVAC modul

Legfontosabb funkciók
Műszaki adatok
Kompatibilis műszerek
Hasonló termékek

Az XRDynamic 500 EVAC kamra teljesen evakuált sugárutat kínál a SAXS és XRD mérésekhez a parazita levegőszórás teljes eltávolítása érdekében, maximális fényerősséget biztosítva a mintán és verhetetlen jel-zaj arányt. Mivel a lehető legszélesebb mérési tartományban használható minden XRD és SAXS mintaasztalhoz, az EVAC modul páratlan mérési teljesítményt nyújt, miközben mérési rugalmasságot is biztosít. A mellékelt szórásmentes SAXS optikával az EVAC modul olyan minőségű SAXS adatokat képes előállítani, amelyeket még soha nem láttak diffraktométeren!

Legfontosabb funkciók

Csúcsminőségű nanostrukturális elemzés diffraktométeren

Az EVAC modul és az XRDynamic 500 kombinációja elsőként kínál saját kollimációs SAXS műszer minőséget a diffraktométerhez. Optimalizált SAXS optikával, beleértve az EVAC modul szórásmentes réseit is, q_min = 0,05 nm⁻¹ felbontást lehet elérni, amely új szabványt állít fel a SAXS mérésekhez az XRD platformon. Az EVAC modul és az XRDynamic 500 segítségével az izotróp, kolloid és biológiai minták SAXS mérései sokkal könnyebbé váltak!

Páratlan adatminőség parazita levegőszórás nélkül

A teljesen evakuált sugárút, a forrástól a detektorig, amit az EVAC modul és az XRDynamic 500 evakuált optikai egységei tesznek lehetővé, a lehető legjobb jel-zaj arányt kínálja, mivel az összes parazita levegőszórás el lett távolítva. Ez növeli az intenzitást minden mérésnél, és különösen előnyös, ha alacsonyabb energiájú röntgensugarakkal, például Cr-rel vagy Co Kα.-val dolgozik.

Mérés korlátozás nélkül a SAXS, WAXS, XRD és PDF elemzésekhez

Akár SAXS, XRD, vagy PDF mérések esetén, az EVAC modul nem korlátozza a mérés elvégzésének módját Reflexió vagy átvitel, porminták hordozói vagy kapillárisok, minden lehetséges! A legfontosabb dolog, hogy az egyedülálló funkciónak köszönhetően, amellyel az EVAC modul forog a másodlagos goniométerkarral, a mérési szög nem korlátozott, így a 0° -tól egészen a 162,5° 2θ-ig terjedő tartományban egy menetben, zökkenőmentesen lehet mérni az adatokat.

Műszaki adatok

Mérési tartomány:	–10° – 162,5° 2theta
q_min	0,05 nm-¹
Mintaállványok:	Az összes XRD mintaállvány szabványos méretekkel SWAXS mintaállványok folyadékokhoz SWAXS mintaállvány szilárd anyagokhoz SWAXS mintaállvány eldobható kapillárisokhoz SWAXS mintaállvány viszkózus mintákhoz / pasztákhoz