即時化學濃度監測，降低風險並提升製程效率
即時化學濃度監測，降低風險並提升製程效率
適用於 HF、HCl、H2O2、NaOH、Slurry 等多種化學品，即時掌握濃度變化，減少人工取樣與成本。
在半導體、精密化學或表面處理等產業中，製程的穩定與安全往往取決於化學濃度的掌握。任何細微的偏差，都可能造成良率下降、成本增加，甚至帶來操作風險。
Anton Paar 的製程感測器系列（L-Dens、L-Sonic、L-Rix、L-Cor）能即時監測 HF、HCl、H2O2、NaOH 等多種化學品濃度。透過即時數據，您不僅能提升品質一致性與生產效率，也能降低人工採樣與維護成本，邁向更智慧、更安全的製程管理。
L-Sonic 系列應用：氫氟酸、NMP
L-Sonic 5100 ROC 讓您即時監測 0–50% 氫氟酸（HF）與 NMP 溶劑濃度：
- 品質一致：即時掌握濃度，確保製程穩定
- 安全提升：無需人工採樣，降低操作風險
- 低維護：無耗材設計，免維護、長期可靠
- 高效率：快速提供數據，支援腐蝕性物質監測
適合高要求的半導體與化工製程，提升安全性與效率。
L-Dens 系列應用：鹽酸、磷酸、TMAH
L-Dens 3300 GLS 可即時監控 0–37% 的鹽酸（HCl）、磷酸（H3PO4）、TMAH濃度。採用一體化設計，安裝快速且靈活。
- 降低成本：無耗材、免維護，減少長期支出
- 提升效率：即時數據，支援遠端程控與自動化工廠
- 靈活整合：容易安裝，快速導入製程
幫助您在降低監測成本的同時，確保化學品濃度監控穩定可靠。
L-Rix系列應用：伺服器冷卻液、切削夜
L-Rix 2100/3100 可用於各類設備冷卻液與切削液濃度的即時監測，常見於 AI 伺服器機房與 CNC 加工製程。穩定的濃度控制，能有效確保設備運行可靠，並延長使用壽命。
- 保護設備：避免因冷卻液失效造成晶片或加工金屬損壞
- 節省空間：小型化設計，可直接整合至 PLC
- 不中斷監測：持續提供精確數據，保障製程穩定
- 高經濟性：價格實惠，長期降低運行成本
適用於需要長時間運行的高價值設備，確保冷卻效能與製程穩定。
