울트라 나노인덴테이션 테스터:
UNHT³
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실제 하중 및 변위 센서를 갖춘 UNHT³ 초고분해능 나노인덴터는 나노 스케일에서 물질의 기계적 특성을 검사하는 데 사용됩니다. UNHT³는 특허를 받은 액티브 표면 레퍼런싱 시스템을 통해 열 변형 및 컴플라이언스로 인한 영향 없이 측정이 가능합니다. 폴리머, 매우 얇은 박막, 연조직 등 원자 단위부터 나노 스케일까지 모든 유형의 소재를 장시간 동안 측정하는 데 적합합니다. 매우 낮은 온도 또는 매우 높은 온도에서의 측정을 위해 진공 챔버 버전(UNHT³ HTV)을 사용할 수 있습니다(최대 800 °C, 최저 10-7 mbar).
UNHT3 헤드를 Step 플랫폼의 다른 스크래치 또는 인덴테이션 테스터와 결합하면 나노/마이크로/매크로 범위를 완벽하게 커버할 수 있습니다. 단일 장비를 통해 완전한 기계적 표면 특성 분석을 수행하려면 AFM 모듈을 추가하세요.
주요 특징
가장 정확한 나노인덴테이션 테스터
UNHT³는 두 개의 독립적인 깊이 및 하중 센서를 통해 힘과 인덴테이션 깊이를 단지 추정하는 것을 넘어 진정한 제어를 제공합니다. 또한 UNHT³는 특허를 받은 액티브 톱 레퍼런싱 설계를 제공합니다. 하나의 레퍼런스 인덴터는 샘플의 표면 위치를 모니터링하고, 측정용 인덴터는 열 변형 및 컴플라이언스로 인한 영향 없이 측정이 가능합니다. 이를 통해 다양한 범위의 인덴테이션 깊이(수 nm에서 최대 100 μm)와 인덴테이션 하중(수 μN에서 최대 100 mN)을 측정할 수 있습니다.
시중에서 가장 높은 안정성을 지닌 나노인덴터
독자적으로 특허받은 액티브 톱 표면 레퍼런싱과 열팽창이 없는 물질인 Zerodur를 사용하는 UNHT³는 깊이 보정 없이 최소 10 fm/sec의 경미한 열 드리프트에 도달할 수 있는 유일한 나노인덴테이션 테스터입니다. 따라서 UNHT³는 크리프 테스트와 같은 장시간 측정에 사용할 수 있는 유일한 나노인덴테이션 테스터입니다.
시간당 600회 이상의 측정
UNHT³ 울트라 나노인덴테이션 테스터의 독자적인 열 안정성 덕분에 열 안정화를 위해 몇 시간을 기다릴 필요 없이 설치 후 즉시 시료를 측정할 수 있습니다. 따라서 하루 동안 많은 시료를 개별적으로 측정할 수 있습니다. 퀵 모드를 사용하면 실제 인덴테이션 곡선을 사용하여 시간당 600회 이상의 측정이 가능합니다. 사용자 프로필, 측정 프로토콜, 다중 시료 측정, 사용자 지정 가능한 보고 기능을 통해 시판 중인 제품 중 가장 높은 처리량을 제공합니다.
"Sinus Mode"를 사용한 추가 동적 기계 분석(DMA)
통합 Sinus Mode를 사용한 DMA 분석을 통해 박막부터 벌크 소재에 이르는 시료의 기계적 특성(HIT, EIT 대 깊이)에 대한 깊이 프로파일링 및 점탄성 특성(E', E'': 저장 및 손실 탄성률, tan δ)을 측정할 수 있습니다. 또한 Sinus Mode는 빠른 인덴터 교정 및 응력-변형 분석과 같은 추가 기능을 제공합니다.
Step 플랫폼: 최고의 기기 활용도
Step 플랫폼은 완전한 기계적 표면 특성 분석 테스트를 가능하게 합니다. 나노인덴테이션 테스트만 수행하든, 스크래치 또는 AFM 측정으로 결과를 보완하든, Step 플랫폼은 안정성, 노이즈 차단, 모듈성 측면에서 항상 최상의 솔루션을 제공합니다.
고진공 및 최대 800 °C의 고온에서 측정
UNHT³의 HTV 버전은 열 드리프트를 최소화하는 완전 자동 절차를 갖춘 유일한 울트라 나노인덴터로, 전체 온도 범위에서 3 nm/min 미만의 열 드리프트를 달성할 수 있습니다. 이는 0.1 °C의 정밀도로 시료와 인덴터 온도를 동시에 제어하는 고유하고 특허받은 가열 관리를 통해 수행됩니다. 인덴테이션 소프트웨어는 시스템과 실시간으로 상호 작용하는 가열 및 환경 조건을 제어하여 열 드리프트를 최소화하고 원하는 모든 측정을 시작합니다. 다양한 온도 단계를 사용하여 모든 종류의 인덴트 세트(표준 UNHT³에서도 가능)를 계획할 수 있으며, 기기는 사전 설정된 매트릭스에 따라 자동으로 측정을 수행합니다.
기술 사양
| 최대 하중 [mN] | 50 / 100(1) |
| 하중 분해능 [nN] | 3 |
| 하중 노이즈 플로어 [rms] [μN]* | ≤0.05 |
| 하중 재하 속도 [mN/min] | 최대 1,000 |
| 깊이 범위 [μm] | 50 / 100(1) |
| 깊이 분해능 [nm] | 0.003 |
| 깊이 노이즈 플로어 [rms] [nm] | ≤0.03 |
| 데이터 수집 속도 [kHz] | 192 |
| 옵션 | |
| 최대 200 °C의 스테이지 가열 | ✔ |
| 액체 테스트 | ✔ |
(1) 선택 사항
특허
UNHT³에 대한 액티브 톱 표면 레퍼런싱: US 7,685,868 B2
표준
ASTM
Anton Paar 공인 서비스
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- 3년 보증
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CERTIFIED FUSED SILICA SAMPLE WITH STUD CERTIFIED SAMPLE FOR ELASTIC MODULUS
UNHT³ 표준 | HTV
Step 플랫폼용 액세서리:
원자힘 현미경(AFM)
UNHT³ 표준 | HTV
- 다양한 과학 및 산업 응용 분야를 위한 다목적 AFM 솔루션
- 나노 스케일의 표면 정보를 제공하는 이미징 및 분석 기능
- 시료와의 비파괴적인 상호 작용
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