GISAXS Stage 2.0
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- Indagine delle superfici nanostrutturate e dei campioni a film sottile
- Ideale per film sottili mesoporosi, nanoparticelle depositate su superficie, depositi metallici su superfici di ossido, sistemi di materia soffice e materiali biologici che sono attaccati alle superfici
- I campioni possono essere inclinati e ruotati
Con le misurazioni GISAXS sarà possibile ottenere informazioni rappresentative sulla superficie nanostrutturale per una vasta area di campionamento. GISAXS quasi non richiede preparazione del campione in anticipo e la misurazione può essere eseguita sotto vuoto e in atmosfera controllata (aria, gas inerte). Il GISAXS Stage 2.0 di Anton Paar è un supporto motorizzato ad alta precisione. I campioni possono essere inclinati e ruotati, nonché studiati in un intervallo di temperature compreso tra -150 °C e 500 °C.
Principali caratteristiche
Studi di incidenza radente rapidi e precisi con il GISAXS Stage 2.0 motorizzato
I sistemi SAXS, SAXSpoint 5.0 e SAXSpace di Anton Paar, possono essere facilmente dotati del supporto GISAXS Stage 2.0 ad alta risoluzione per studi GISAXS/GIWAXS/GIXD (SAXS/WAXS/diffrazione a incidenza radente). Può essere esattamente posizionato nelle direzioni X, Y e Z. I campioni possono essere inclinati e ruotati con il rotatore integrato sull'asse con una ripetibilità di rotazione di 0,001°.
Il supporto GISAXS stage 2.0 di Anton Paar è l'ambiente perfetto per caratterizzare, ad esempio film sottili mesoporosi, nanoparticelle depositate su superficie, depositi metallici su superfici di ossido e sistemi di materia soffice come film sottili in copolimero a blocchi/polimero e materiali biologici che sono attaccati alle superfici.
Ampliamento delle possibilità di misurazione con il modulo di riscaldamento GISAXS 2.0
Il supporto GISAXS 2.0 può essere impiegato per temperature fino a 500 °C se dotato del modulo di riscaldamento GISAXS 2.0. Il modulo costruisce un alloggiamento sopra al campione rendendo così possibile la misurazione del campione rispettivamente in condizioni ambientali e non ambientali, come con gas inerte o aria nonché in condizioni di sottovuoto.
Esperimenti a bassa temperatura con GISAXS, giù fino a -150 °C
Il modulo crio/riscaldato per GISAXS 2.0 consente le misurazioni nell'intervallo da -150 °C a 350 °C. Il modulo è facilmente installabile sul GISAXS Stage 2.0 e garantisce un'eccellente uniformità della temperatura sulla superficie del campione in modo da consentire l'esecuzione ottimale di studi GISAXS/GIWAXS. Il dispositivo SAXS riconosce automaticamente la fase del campione non appena viene inserito.
Specifiche
| Range di temperatura | da -150 a 500 °C |
| Accuratezza temperatura | +/-0,1 °C |
| Dimensione del campione | fino a 100 mm x 100 mm |
| Inclinazione del campione | da -4° a +5,6° |
| Rotazione del campione (asse ) | da 0° a 345° |
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Documenti
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SAXS Sample stages and holders Brochure
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GISAXS as a Valuable Tool for Analyzing Nanostructured Semiconductors Report applicativi
