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Cámara de horno de alta temperatura HTK 1200N
- Soporta estudios de XRD in-situ hasta 1,200 °C en diversas atmósferas
- Medición de temperatura precisa y fiable con excelente uniformidad
- Opción de muestreo por rotación para mejorar la calidad de los datos y portadores de muestras flexibles
- Diseño duradero y compacto compatible con la mayoría de los goniómetros
Cámara de horno de alta temperatura HTK 1200N
HTK 1200N: cámara de alta temperatura con un diseño robustopara estudios de difracción de rayos X in situ en diferentes atmósferas de hasta 1200 °C Su calentador ambiental garantiza una excelente uniformidad de la temperatura de la muestra. Utilice HTK 1200N para diferentes tipos de investigaciones de rayos X in-situ, incluso estudios de transformaciones de fase, determinación de la estructura y estudios de reacciones químicas.
Especificaciones
| Temperatura de funcionamiento | 25 °C a 1200 °C |
|---|---|
| Medición de temperatura | Pt 10% RhPt termopar |
| Atmósferas | Vacío (10-4 mbar), aire, gases inertes |
| Máx. presión de funcionamiento | 1 bar sobre la presión atmosférica |
| Ángulo de incidencia | 0 a 164° 2Θ |
| Material del portamuestras | Óxido de aluminio |
| Diámetro de la muestra | Máx. 16 mm |
| Geometrías de medición | Reflexión + transmisión |
Servicio Certificado Anton Paar
La calidad de Anton Paar en servicio y soporte:
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- Protección para su inversión durante todo su ciclo de vida
- 3 años de garantía
Documentos
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