高溫熔爐室：
HTK 1500
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- +8
- 25 °C 至 1,500°C 的「真正」環境加熱器
- 為您的實驗提供最高的溫度精確度
- 快速從反射測量轉換為透射測量
- 在不同氣體環境中進行測量
- 完美補足 XRDynamic 500 多功能繞射儀
HTK 1500 高溫熔爐室是高溫 X 射線衍射 (XRD) 環境加熱器的新標竿，可讓您將所有類型的樣品材料（包括結晶粉末和散裝樣品）均勻加熱至 1,500 °C。加熱棒的位置加上高精確度的溫度測量，使 HTK 1500 成為市場上唯一高達 1,500°C 的「真正」環境加熱器。
主要功能
環境加熱的新標竿
HTK 1500 超越了「真正的」環境加熱器，在 25 °C 至 1,500°C 範圍內不影響精確度的情況下保證了最高溫度。憑藉其智慧設計以及堅固的加熱器和絕緣材料，HTK 1500 可為陶瓷或金屬等應用提供足夠高的溫度。HTK 1500 中的溫度感測器位於保護性陶瓷樣品槽中樣品的正下方。相較於其他具有獨立式溫度感測器的佈置，此設定提供了高度可重複且可靠的溫度測量和穩定的溫度控制。
透過樣品旋轉提高數據質量
樣本旋轉是充分樣本統計的關鍵，例如透過克服首選方向，從而提高資料品質。HTK 1500 設計為環境加熱器，提供獨立式樣品架，允許在高溫 X 射線衍射 (XRD) 測量期間旋轉樣品。
適用於每個樣品的解決方案
用於研究空氣敏感及/或有機粉末和液體，使用毛細管，因此必須在透射幾何形狀中運作。從反射模式到透射模式的快速轉換極其重要，尤其是當多使用者實驗室中的應用和樣品類型變化很大時。透過 HTK 1500，使用者可以輕鬆快速在兩種不同的測量幾何形狀之間切換。
惰性材料具有出色的耐用性
HTK 1500 的設計採用了高耐化學性的材料。由氧化鋁製成的化學惰性樣品載體可最大限度降低與樣品反應的風險，即使在非常高的溫度下也是如此。為了確保樣品在加熱過程中免受氧化，可以在不同的惰性氣體環境下進行測量。
與 XRDynamic 500 的完美搭配
HTK 1500 與 XRDDynamic 500 完美搭配，後者在設計時考慮了非常態實驗。HTK 1500 與 XRDynamic 500 的組合保證了高度自動化，例如樣品台識別、樣品台和樣品 (重新) 對準、冷卻水、真空和氣體管線的輕鬆連接以及批次實驗的簡單設定。順利整合到 XRDynamic 500 控制軟體中，為您的高溫 XRD 分析提供了一種便利的運作方式。
終極易用性
用於快速且可再現安裝和拆卸樣品架的滑塊可確保輕鬆操作和快速更換樣品。提供的氧化鋁樣品載體可容納各種樣品形式，如粉末樣品、散裝樣品和薄膜。
規格
| 溫度範圍 | 25 °C 至 +1,500 °C |
| 溫度測量 | Pt 10Rh-Pt 熱電偶 (S 類型) |
| 壓力範圍 | 10-1mbar 至 0.5 bar 相對值 |
| 空氣 | 空氣、真空、惰性氣體 |
| 樣品類型 | 粉末、散裝樣品 |
| 樣品載體材料 | 氧化鋁 |
| 樣品直徑 | 最大 16 mm |
| X- Ray 幾何形狀 | 反射和透射 |
| 測量角度 | 0 - 145 ° 2θ |
文件
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