我們由 AXO DRESDEN 開發和製造的一系列基於多層膜的 X 光光學元件，旨在對 X 光進行單色化、聚焦或準直而設計——為 XRD、XRF、SAXS、成像和眾多同步輻射實驗等應用塑造最佳化的光束。
我們提供廣泛的先進 X 光光學元件組合，專為各種應用量身打造。我們的平行光束光學元件（PBO 和 Göbel 反射鏡）提供高度準直的光束，典型尺寸介於 0.5 mm 和 2.5 mm 之間，可提供 X 光繞射 (XRD) 所需的低光束發散度。對於需要集中強度的應用，我們的聚焦 X 光光學元件可將發散或平行光束轉換為細焦線或焦點——典型值為 30 µm 至 500 µm，是 XRF、XRD 和成像等技術的理想選擇。
二維準直光學元件 (ASTIX-c) 將發散輻射轉換為邊長為 0.5 mm 至 2.5 mm 的方形、低發散度平行光束。我們的二維聚焦光學元件 (ASTIX-f) 與此相輔相成，其將高強度光束集中到直徑範圍從幾百微米（取決於樣品尺寸）低至約 30 µm FWHM 的焦點光斑。
我們多功能的 X 光光學系統使用多層膜光學元件——無論是單獨使用還是與其他 X 光光學元件結合 — 以準直、聚焦、壓縮或擴展形式產生一維和二維光束，且均具備單色特性。舉例來說，雙反射鏡排列可在極高的動態範圍內實現精確的 X 光反射測量。其他應用包括 X 光繞射、斷層掃描和同步輻射實驗。
我們的 X 光光學元件 專為廣泛的光子能量而設計，適用於最常用的陽極材料，包括鉻 (Cr)、鈷 (Co)、銅 (Cu)、鎵 (Ga)、鉬 (Mo)、銠 (Rh)、銀 (Ag)、銦 (In) 和鎢 (W)。這支援了跨應用的最佳性能——從用於標準繞射的 Cu Kα，到用於應力分析的 Cr 和 Co，以及用於高密度樣品和高解析度數據的 Mo、Ag 或 In。每個多層膜光學元件都針對其對應的譜線進行了量身打造，以確保最大的通量、光譜純度和光束品質。
多層膜反射鏡可以針對特定的焦距、小光束尺寸或低發散度進行客製化設計。即使設定了外部幾何參數，仍可透過調整多層膜塗層來進一步優化反射鏡的光譜性能。優化通常針對光束通量、光譜解析度或寬頻反射——取決於是否需要光子強度、能量選擇性或寬能量覆蓋範圍（如在同步輻射、電漿或雷射設置中）。
選擇小或大能量頻寬的同步輻射光束線需要單色化光學裝置。多層膜塗層可應用於各種配置，以提供高解析度或高通量光束，範圍涵蓋從 EUV 到高達 ~100 keV 的硬 X 光。平面、梯度多層膜可適應發散光束或用於分析儀設置。其他應用包括寬頻或帶通設計，以及在布儒斯特角 (Brewster’s angle) 附近工作的偏振反射鏡。
| 典型可用光譜範圍（同步輻射） | 50 eV 至 >100 keV |
| 典型陽極材料（X 光管） | Cr、Co、Cu、Ga、Mo、Rh、Ag、In、W（其他可應要求提供） |
| 典型焦距 | 100 mm 至 2,500 mm（取決於設置和所需的光束尺寸） |
| 光學元件尺寸 | 實驗室光學元件通常為 40 mm 至 150 mm 同步輻射光學元件通常高達 500 mm |
| 解析度 | 0.25% < ΔE/E < 3%（週期性多層膜） ΔE/E > 5% 可應要求提供（非週期性多層膜） |
| 厚度均勻性 | Δd/d <0.2% |
