MCR용 온도 제어:
Peltier 시스템

드라이브 1개 구성을 위한 플레이트 시스템

원뿔판 및 평행판 형상을 위한 펠티에 온도 장치는 빠르고 정확한 온도 제어를 제공합니다. 시중에서 가장 넓은 온도 범위(270°C)를 통해 -50°C ~ 220°C 사이의 온도에 사용할 수 있습니다. CoolPeltierTM 기술을 사용하는 공냉식 버전의 경우 이 범위는 -10°C ~ 220°C입니다.  옵션 후드를 사용하면 온도 변화도를 0.1°C 이하로 줄여 AASHTO T315 및 기타 국제 역청 표준에 따라 측정할 수 있습니다. LED가 내장된 후드의 독특한 디자인은 측정 영역을 조명하여 명확하게 볼 수 있도록 하며 시료를 360° 트리밍할 수 있습니다. 20개 이상의 서로 다른 나사식 플레이트를 각각 교체하는 데 5초도 채 걸리지 않으므로 응용 분야에 적합한 표면이나 재료를 그 어느 때보다 쉽게 사용할 수 있습니다. 각 Peltier 장치에는 측정 시스템을 자동으로 인식하고 1분 이내에 플러그 앤 플레이 설치를 지원하는 특허 받은 Toolmaster™ 기술이 함께 제공됩니다.

드라이브가 1개인 구성을 위한 실린더 시스템

실린더용 Peltier 온도 장치는 유체 순환기 역냉각을 사용하는 경우 -30°C ~ 200°C에서, 에어 카운터를 사용하는 경우 0°C ~ 180°C에서 빠르고 정확한 온도 제어를 위한 혁신적인 열 전달 시스템으로 구성됩니다. -냉각 장치. 온도 장치는 동심 실린더 및 이중 간격 측정 시스템과 함께 사용하기 위한 전용 장치입니다. 또한 압력 셀과 결합하여 폐쇄된 환경이나 증가된 압력 하에서 측정할 수 있는 Peltier 온도 장치를 사용할 수 있습니다.

드라이브 2개 구성을 위한 실린더 및 플레이트 시스템

2개의 회전 드라이브를 사용하는 레오미터 구성의 경우 특수 Peltier 온도 장치는 콘 플레이트 및 평행 플레이트 시스템의 경우 -20 °C ~ 180 °C, -20 °C의 온도 범위에서 정밀한 온도 제어를 보장합니다. 동심 원통형 및 이중 간격 측정 시스템의 경우 C ~ 150 °C. 이 설정을 사용하면 별도의 모터 변환기 모드 또는 역이동 모드에서 측정을 수행할 수 있으며 샘플 내에서 가장 낮은 온도 변화를 보장하는 열 결합 후드가 특징입니다. 또한 하부 측정 시스템에는 샘플 근처에 온도 센서가 포함되어 있어 실제 샘플 온도를 최대한 정확하게 감지할 수 있습니다.

고급 재료 특성화 준비

표준 Peltier 온도 장치 외에도 Anton Paar는 유변학 현미경, 소각 광산란 시스템, 편광 이미징 옵션, 라만 또는 유전체 분광계 또는 자체 설계한 광학 액세서리와 결합할 수 있는 모듈식 Peltier 시스템을 제공합니다. 이는 샘플의 가장 작은 미세구조 변화에 대한 정보를 제공합니다. 동시에 유변학적 측정을 통해 거시적인 '큰 그림'이 결정됩니다. -20 °C ~ +200 °C는 UV 광선 옵션과 결합하여 UV 반응성 시료의 유변학적 특성 분석을 수행할 수도 있습니다.

추가 액세서리 및 솔루션

표준 모델 외에도 일회용 측정 시스템과 용도별 표면을 갖춘 장치를 사용하여 정교한 측정 요구 사항(예: 벽 미끄러짐 방지 또는 경화 반응 특성화)도 충족할 수 있습니다. Peltier 온도 장치는 용매 트랩과 결합하여 샘플(코팅, 페인트 및 식품 유변학의 경우)의 증발 및 건조를 방지하거나 침지 옵션과 결합하여 유체 환경에서 샘플을 특성화할 수 있습니다.

특허 받은(AT525.752 B1) 수동 온도 장치도 사용할 수 있습니다. 이는 능동 펠티에 소자를 사용하지 않고도 0°C ~ 50°C 범위에서 온도 변화를 최소화하는 대류를 생성하여 정밀한 온도 제어를 가능하게 합니다.