Platine de mesure de l'humidité
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Études des nanostructures SAX et WAXS dépendant de la température et de l’humidité
La platine de mesure de l'humidité vous permet d’effectuer des recherches SAXS et WAXS de votre échantillon de poudre ou de film sous l'influence de l’humidité relative (HR) et de la température. Cette platine de mesure est livrée avec un générateur d'humidité qui contrôle exactement l’humidité relative à l’aide d'un capteur HR étalonné à l’intérieur du compartiment de la platine de mesure.
Caractéristiques principales
Analysez l’influence de la température et de l’humidité sur vos échantillons
Comprendre l’effet combiné de l’humidité et de la température sur votre matériau d'échantillon vous aide à définir les conditions de raccordement p. ex. pour le transport, la durée de conservation ou la stabilité La platine de mesure de l'humidité vous permet de contrôler l’influence de l’humidité sur la nanostructure de vos échantillons :
- dans des atmosphères humides définis (5 % à 95 % d’humidité relative) de 10 °C à 60 °C
- sous vide, air et gaz inerte de 10°C à 110°C
Contrôle exact de l’humidité et de la température garanti
La platine de mesure de l'humidité est livrée avec le générateur d'humidité modulaire qui donne une excellente performance de contrôle. Un capteur d’humidité relative (HR) étalonné et le capteur de température Pt100 très précis proche de l'échantillon garantissent des conditions d'humidité uniformes et bien définies ainsi qu'une homogénéité thermale maximale pendant les mesures. C’est essentiel, notamment pendant les études à des températures et une humidité relative élevées.
Spécifications techniques
| Plage d'humidité relative | de 5 % à 95 % d’humidité relative |
| Plage de température : | |
| Atmosphère humide | 10 °C à 60 °C |
| Atmosphère sèche (vide/air/gaz inerte) | 10 °C à 110 °C |
| Précision de température | +/-0,1 °C |
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Documents
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