工业废水回收与处理在半导体行业

半导体行业中废水中溶解氨的去除是通过氨与硫酸反应生成硫酸铵来进行的。结合测量的 pH 值进行在线密度测量，可以实时控制废水处理工艺，并保证维持立法限制。

引言半导体行业中使用的工艺化学品通常会充满诸如 NH ₃ ， H ₂ S 或 NO _x 之类的溶解气体，在释放到市政废水系统之前必须进行处理。

对于氨水（NH₃），废水排放标准必须低于一定限值。 InGaN 芯片的 EPI 工艺在很大程度上污染了氨水。

为了避免罚款，必须从废水中去除溶解的氨。由于 NH ₃的高溶解度，因此不能像 CO ₂或 O ₂那样使用吹扫气 -真空组合进行去除。现代水处理采用“膜接触”技术。

去除 NH 3的膜接触技术通过添加硫酸（H₂SO₄）起作用。H₂SO₄立即与废水中的氨反应生成硫酸铵（NH₄）₂SO₄。氨与硫酸化学反应生成硫酸铵的方程式：

2NH₃ + H₂SO₄ →（NH₄）₂SO₄

NH ₃可以高效地从废水中去除，而添加化学药品不会额外污染废水。

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