Microscopios de fuerza atómica:
Tosca
- Top-level AFM for entry-level budgets
- Portamuestras más grande en el segmento de precios (50 mm totalmente direccionable)
- Tiempo de medición más rápido del mercado (solo 3 minutos).
- Tamaño de escaneo de 15 µm en Z y 90 µm x 90 µm en dirección X e Y
- Intercambio de cantiléver en menos de 10 segundos.
- Todos los modos en el mismo punto de muestra sin cabezal de intercambio
- Portamuestras más grande en el segmento de precios (200 mm para obleas)
- Automatización en el mayor nivel de hardware y software para su AFM
- Tiempo de medición más rápido del mercado (solo 3 minutos).
- Intercambio de cantiléver en menos de 10 segundos.
- Todos los modos en el mismo punto de muestra sin cabezal de intercambio
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AFM de nivel superior para presupuestos básicos: con las configuraciones de la medición más rápidas y el portamuestras más grande, la serie Tosca marca el ritmo de su análisis AFM de nanosuperficies.
Tosca es la primera elección para investigadores, pioneros, pensadores y constructores en nanotecnología de las ciencias de los materiales.
Cambiar de modo con intercambio de cabezal es el pasado: los microscopios de fuerzas atómicas Tosca permiten medir exactamente el mismo punto utilizando todos los modos disponibles combinados en un solo cabezal.
Beneficios
Características patentadas inteligentes que cubren cada paso durante el procedimiento de medición AFM que crean un flujo de trabajo único y altamente optimizado que habilita resultados 10 veces más rápido que con los sistemas AFM convencionales.
Puede comenzar a medir en 1 hora en vez de pasar días aprendiendo a operar el AFM. Carga de cantiléver rápida y segura en segundos, alineación automática del láser, navegación de muestra más intuitiva y el más seguro procedimiento de enganche en el mercado, que lo lleva a su objetivo: más tiempo para focalizarse en los resultados de la investigación.
- El entrenamiento toma solo 1 hora
- 12 veces más rápido que los AFN convencionales
Desafío
Quiero comenzar inmediatamente. ¿Cuánto me lleva aprender a usar Tosca?
Solución
Tosca es tan fácil de operar que el entrenamiento para su uso con el modo estándar lleva solo una hora.
Sus ganancias y tiempo
Con Tosca puede comenzar su primera medición luego de una hora de entrenamiento, en vez de un día y medio con los microscopios de fuerza atómica comunes.
- Sin preparación previa de la muestra
- Mida muestras grandes de forma directa
- Etapa de muestras: 100 mm de diámetro (hasta 200 mm de diámetro para obleas), 25 mm de altura
Desafío
El corte y rebanado de muestras traer daño y contaminación. ¿Cómo lo evito?
Solución
Olvídese de la preparación de la muestra asociada al riesgo de contaminación o de resultados falsos. Con Tosca usted puede medir muestras grandes de hasta 25 mm en altura y de hasta 100 mm de diámetro de manera directa.
Sus ganancias y tiempo
Con Tosca obtiene resultados precisos y pueden saltar el paso tan tedioso de la preparación. Ahorro de tiempo: hasta 15 minutos, depende de la muestra.
- Posicionamiento de su cantiléver en 10 segundos
- Alineación correcta al 100%
- Cantiléver sin roturas
Desafío
El intercambio de cantiléver y posicionamiento es difícil y requiere mucho tiempo. ¿Hay una mejor manera?
Solución
Utilice el Probemaster patentado para un cantiléver de manos libres con intercambio en 10 segundos.
PATENTE: AT520313 (B1)
Sus ganancias y ahorro de tiempo
Probemsater posiciona rápidamente su cantiléver, previene el daño y habilita el alineamiento apropiado.
- Cargue múltiples muestras y mídalas todas en una sola ejecución.
- Ahorre hasta 20 minutos en reemplazo repetido de muestras
- Asegure el portamuestras con el cierre magnético
Desafío
¿Es posible cargar más de una muestra para agilizar el proceso?
Solución
Cargue múltiples muestras y mídalas en una sola ejecución. El cierre magnético patentado de Tosca asegura el posicionamiento estable de muestras.
PATENTE: AT515951 (B1)
Sus ganancias y ahorro de tiempo
Prepare las muestras en el gran portamuestras en el lugar de su elección y confíe en un posicionamiento estable. Mida múltiples muestras en un sólo paso. Ahorro de tiempo: depende del usuario, hasta 20 minutos por muestra.
- Alineación totalmente automática del láser en 5 segundos
- Con el software, solo toma dos clics del mouse.
Desafío
El alineamiento manual del láser es un procedimiento tedioso que requiere de experiencia también. ¿Hay alguna otra alternativa?
Solución
Tosca proporciona alineación totalmente automática del láser en 5 segundos
PATENT: AT520419 (B1)
Sus ganancias y ahorro de tiempo
La alineación automática del láser de Tosca lo hace a usted un experto en alineación. Solo le toma dos clics del mouse en el software. Ahorro de tiempo: hasta 5 minutos por alineación.
- La cámara patentada de vista lateral le muestra la posición exacta del cantiléver sobre la superficie
- Acercamiento seguro y rápido
- Sin riesgo de rotura de cabezal
Desafío
Conseguir el acercamiento correcto es dificultoso ¿Cómo puedo evitar la rotura del cabezal y lidiar con geometrías complejas, muestras transparentes y muestras integradas en vidrio?
Solución
La cámara de vista lateral patentada de Tosca permite el procedimiento de enganche más fácil y más seguro del mercado.
PATENTE: EP3324194B1
Sus ganancias y ahorro de tiempo
Utilizar la vista horizontal del cantiléver sobre la superficie de la muestra le permite monitorear de manera visual el acercamiento. Ahorro de tiempo: depende de la muestra y del usuario, de 5 a 10 minutos con significativo bajo riesgo de fallos.
- Tres cámaras permiten visualizar la muestra a todos los niveles.
- Solo haga clic y vaya a la vista de la escala en cm, µm o nm.
- Ahorre de 5 a 10 minutos por medición
Desafío
Hallar el área de interés de la muestra requiere tiempo y paciencia. ¿Cómo se puede optimizar este procedimiento?
Solución
El microscopio de fuerza atómica Tosca implementa una navegación intuitiva: solo haga clic en la región de interés para navegación automática inmediata en vez del posicionamiento manual que consume tiempo.
Sus ganancias y ahorro de tiempo
La navegación requiere solamente un simple clic de mouse, sobre una gran escala posible desde cm, µm hasta nm con tres cámaras integradas. Ahorro de tiempo: 5 a 10 minutos por medición con el beneficio adicional de la conveniencia.
- Guarda siempre los datos en bruto y rastrea el impacto de todos los pasos de análisis.
- Plantillas y análisis de lote
- Informe completo en 5 segundos
Desafío
Necesito un software de análisis con un rango de posibilidades de análisis y plantillas. También necesito la opción de rastreo de todos los pasos de análisis.
Solución
Utilice las plantillas de análisis de Tosca AFM para obtener informes completos en segundos. Se graba cada operación de análisis individual por lo que usted puede rastrear el manejo de datos en bruto en todo momento.
Sus ganancias y ahorro de tiempo
Solo necesita cargar los datos en bruto, también los múltiples datos de mediciones de lote y tendrá el informe completo en 5 segundos. Ahorro de tiempo: hasta 20 minutos por informe de análisis.
- Imagen de la amplitud de la resistencia al contacto
- Tamaño de la imagen 10 µm x 10 µm
- Resolución 500 px x 500 px
Detalles
Mezcla de polímero PMMA/SBS Superposición de topografía y propiedades mecánicas. Tamaño de imagen: 100 µm x 100 µm, resolución 500 px x 500 px.
Modo
Imagen de la amplitud de la resistencia al contacto
Tema de investigación
La distribución de ambos polímeros define las propiedades mecánicas de las películas finas. El modo CRAI se usa para topografía como también como fase de análisis
- Modo pulsación
- Tamaño de la imagen 25 µm x 25 µm
- Resolución 1000 px x 1000 px
Detalles
Red de fibras de policaprolactona (PCL) Imagen topográfica de alta resolución para evaluación de dimensiones críticas. Tamaño de imagen: 100 µm x 100 µm, resolución 1000 px x 1000 px.
Modo
Modo pulsación
Tema de investigación
Las nanofibras de PCL son un material promisorio para aplicaciones biomédicas variadas. El análisis topográfico revela el diámetro de las nanofibras entre 80 nm y 400 nm.
- Microscopio de fuerza atómica conductiva
- Tamaño de la imagen 564 nm x 564 nm
- Resolución 400 px x 400 px
Detalles
Los componentes microelectrónicos consisten en partículas de óxido conductivo en una matriz de vidrio aislada. Superposición de topografía y mapa de corriente. Tamaño de imagen: 564µm x 564 µm, resolución 400 px x 400 px.
Modo
Microscopio de fuerza atómica conductiva
Tema de investigación
El C-AFM puede usarse para identificar eléctricamente los puntos débiles en revestimientos dieléctricos o para representar las rutas conductivas en componentes microeléctricos y materiales para electrodos.
- Modo pulsación
- Tamaño de la imagen 1 µm x 1 µm
- Resolución 500 px x 500 px
Detalles
(100) superficie orientada de la oblea de silicona. Imagen topográfica de alta resolución para evaluación de superficies rugosas. Tamaño de la imagen 1 µm x1 µm, resolución 500 px x 500 px, rugosidad superficial RMS 137 pm.
Modo
Modo pulsación
Tema de investigación
La rugosidad de la superficie de las obleas es un parámetro de calidad importante para los procesos posteriores de microestructuración. Los sistemas de AFM deben ser capaces de obtener imágenes de la superficie de materiales muy pulidos con una rugosidad superficial muy baja, del orden de 150 pm, con gran calidad y confiabilidad.
- Modo pulsación
- Tamaño de la imagen 1200 nm x 750 nm
- Resolución 800 px x 800 px
Detalles
Puntos cuánticos (QD) de arseniuro de indio (InAs) autoensamblados en arseniuro de galio (GaAs) cultivados en una superficie orientada (100) de una oblea de arseniuro de galio. Imagen topográfica de alta resolución para evaluación de la dimensión y de la distribución lateral de los QD. Tamaño de imagen: 1200µm x 750 µm, resolución 800 px x 800 px.
Modo
Modo pulsación
Tema de investigación
Los puntos cuánticos (QD) son un campo intensamente investigado debido a su potencial aplicación futura en electrónica y digitalización. Las dimensiones de cada QD y su distribución lateral constituyen una información importante para el proceso de producción. Las terrazas visibles en la imagen son los escalones atómicos del material del sustrato de GaAs, con una altura de escalón individual de aproximadamente 280 pm.
Especificaciones técnicas
| Tosca 400 | Tosca 200 | |
| Escáner | ||
| Rango de escaneado X-Y | 100 µm x 100 µm | 50 µm x 50 µm* |
| Rango de escaneado Z | 15 µm | 10 µm** |
| Ruido del sensor Z | 5:00 pm*** | |
| Velocidad máx. de escaneado | 10 líneas/s | 5 líneas/s |
| Muestra | ||
| Diámetro máx. de la muestra | 100 mm (200 mm****) | 50 mm |
| Altura máx. de la muestra | 25 mm (2 mm****) | |
| Peso máx. de la muestra | ≤600 g | |
| Repetibilidad de la posición (unidireccional) | <1 µm | |
| Microscopio con video | ||
| Cámara | Color, 5 megapíxeles, sensor CMOS | |
| Campo de visión | 1,73 mm x 1,73 mm | |
| Resolución espacial | 5 µm | |
| Foco | Foco monitorizado | |
| Cámara de vista general | ||
| Cámara | Color, 5 megapíxeles, sensor CMOS | |
| Campo de visión | 40 mm x 40 mm | |
| Resolución espacial | 50 µm | |
| Cámara de vista lateral | ||
| Cámara de vista lateral | Blanco y negro, rango de visión 30 mm | |
| Modos | ||
| Modos estándar | Modo de contacto, modo pulsación (incluyendo imagen de fase), microscopio de fuerza lateral, curva fuerza distancia | |
| Modos opcionales | Imagen de la amplitud de la resistencia al contacto, microscopio de fuerza magnética, microscopio de fuerza de sonda Kelvin, microscopio de fuerza electrostática, microscopio de fuerza atómica conductiva, microscopio de fuerza atómica conductiva de control de corriente | |
| Dimensiones y peso | ||
| Tamaño (largo x ancho x alto), unidad de AFM | 490 mm x 410 mm x 505 mm | |
| Dimensiones (largo x ancho x alto), controlador | 340 mm x 305 mm x 280 mm | |
| Peso, unidad de API | 51,1 kg | |
| Peso, controlador | 7,8 kg | |
* actualización opcional a 90 µm x 90 µm
** actualización opcional a 12 µm x 15 µm
*** Valor medio de los cuerpos de los actuadores producidos; valor máximo 80 pm
*** al usar el portamuestras para obleas (opcional)
Tosca es una marca registrada (013412143) de Anton Paar.
Servicio Certificado Anton Paar
- más de 350 expertos técnicos certificados por el fabricante en todo el mundo
- Soporte calificado en su idioma local
- Protección para su inversión durante todo su ciclo de vida
- 3 años de garantía
Documentos
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AFM Surface Characterization of Lithographic Patterns of Aluminum Nanoparticles on Coated Glass Informes sobre la aplicación en
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Characterization of Nanoindentation on Copper using Atomic Force Microscopy Informes sobre la aplicación en
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Characterization of Surface Mechanical Properties of Polymer Coatings using AFM Force Distance Curves Informes sobre la aplicación en
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Effect of Nitrogen Ion Implantation on the Surface Morphology of Implanted Titanium Alloy by means of AFM and SEM Informes sobre la aplicación en
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Effect of Thermal Annealing on the Surface Morphology of Functional Coatings for Displays Studied by means of AFM Informes sobre la aplicación en
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Full Atomic Force Microscopy Investigation of a Polymer Thin Film with Tosca series AFMs Informes sobre la aplicación en
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High Precision Geometry Characterization of Berkovich Diamond Nanoindenter Tips using Atomic Force Microscope Informes sobre la aplicación en
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How to Evaluate Roughness Distribution of Wafers by Means of Atomic Force Microscopy Informes sobre la aplicación en
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Investigation of the Phase Separation in Non-Fullerene Organic Solar Cells by AFM and GIWAXS Informes sobre la aplicación en
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Local Electrical Conductivity Distribution in Micro-Electronic Components using Conductive AFM Techniques Informes sobre la aplicación en
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Surface Characterization of PLGA Particles for Pharmaceuticals by Atomic Force Microscope Informes sobre la aplicación en
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Surface Characterization of Polymer Thin Films using Atomic Force Microscopy Informes sobre la aplicación en
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Surface Morphology of Pharmaceutical Solid Dosage Forms by Utilizing Atomic Force Microscopy Informes sobre la aplicación en
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Thin Film Characterization of Multiphase Acrylic Latex using Atomic Force Microscope Informes sobre la aplicación en
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Understanding Tribofilm Microstructure by Means of Atomic Force Microscopy Informes sobre la aplicación en
Publicaciones Tosca
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Iglesias M C, Hamade F, Aksoy B, Jiang Z, Davis V A, and Peresin M S. Correlations between Rheological Behavior and Intrinsic Properties of Nanofibrillated Cellulose from Wood and Soybean Hulls with Varying Lignin Content. BioResources. 2021; 16(3), 4831-4845. 10.15376/biores.16.3.4831-4845
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Accesorios
Accesorios
Accesorios
Accesorios
Para saber si puede comprar en línea desde su ubicación, verifique la disponibilidad en línea a continuación.
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Accesorio para Tosca AFM:
Aislamiento de vibraciones
Tosca 200 | 400
- Rendimiento de hasta -40 dB, a 10 Hz - aislando el 99,0 % de las vibraciones
- Efecto aislante comienza en 0,6 Hz
- Ajuste de la carga totalmente automático
- No requiere de aire comprimido
Accesorio para Tosca AFM:
recinto acústico
Tosca 200 | 400
- Protege el Tosca AFM del ruido ambiental
- Atenuación acústica de hasta 40 dB
Accesorios para Tosca 400 AFM:
portaobleas
Tosca 200 | 400
- Para obleas de 4, 6 y 8 pulgadas
- Portaobleas totalmente direccionable
- Diseñado para la manipulación de obleas con pinzas de vacío
- Mediciones múltiples automatizadas
Herramienta de intercambio de cantilever para el AFM Tosca:
Probemaster
Tosca 200 | 400
- Intercambio fácil y seguro de cantilever en menos de 10 segundos.
- Alineación automática correcta al 100%
- No se rompen los cantilever por errores de manipulación
