MCR 的溫度控制：
Peltier 系統

配置單一驅動器的平板系統

用於錐板和平行板幾何形狀的 Peltier 溫度設備可提供快速準確的溫度控制。憑藉市場上最寬的溫度範圍 (270 °C)，它們可以承受 -50 °C 到 220 °C 的溫度。對於使用 CoolPeltier™ 技術的風冷版本，此範圍為 -10 °C 至 220 °C。  可以提供可選遮罩，可將溫度梯度降低至 ≤0.1 °C，讓您根據 AASHTO T315 和其他國際瀝青標準進行測量。遮罩的獨特設計附有內置 LED，可照亮測量區域以便清晰查看，並可以 360° 修整您的樣品。更換超過 20 種不同的旋入式板只需不到 5 秒的時間，這使得為您的應用使用正確的表面或材料比以往任何時候都更容易。每個 Peltier 裝置都配備了獲得專利的 Toolmaster™ 技術，該技術可自動識別測量系統並支援在不到一分鐘的時間內進行即插即用式安裝作業。

配置單一驅動器的圓筒系統

圓筒系統的 Peltier 溫度裝置含有創新的傳熱系統，當使用流體循環器逆流式冷卻時，可以在 -30 °C 到 200 °C 之間進行快速準確的溫度控制，或者使用空氣逆流式冷卻裝置在 0 °C 到 180 °C 之間進行溫度控制。此溫度裝置專用於同心圓筒和雙間隙測量系統。此外，Peltier 溫度裝置還可與高壓測量池結合使用，在封閉環境或增壓下進行測量。

配置雙驅動器的圓筒和平板系統

對於使用雙旋轉驅動器的流變儀配置，特殊的 Peltier 溫度裝置能確保在錐板和平行板系統中以 -20  °C 到 180  °C 的溫度範圍，以及同心圓筒和雙間隙測量系統中以 -20  °C 到 150  °C 的溫度範圍，進行精確的溫度控制。設定使您能在單獨的馬達傳感器模式或反向運動模式下執行測量，並具有控溫罩，確保樣品內最低的溫度梯度。此外，下部測量系統在樣品附近裝有溫度感測器，可確保盡可能準確地偵測出實際的樣品溫度。

為高階材料特性分析做好準備

除了標準的 Peltier 溫度裝置，安東帕還提供模組化 Peltier 系統，可與流變顯微鏡、小角度光散射系統、偏振光成像選項、拉曼或介電光譜儀，或自行設計的光學配件結合使用。這能提供關於樣品中最小的微觀結構變化的資訊。同時，也能透過流變測量來測定宏觀的「整體視圖」。溫控裝置適用於涵蓋 -20 °C 至 200 °C 的溫度範圍，也可以與選配的 UV 光源結合使用，以對 UV 反應性樣品進行流變特性分析。

其他配件和解決方案

除標準型號外，該配備還提供拋棄式測量系統和特定應用表面的裝置，以滿足複雜的測量需求（例如防止壁滑或特性分析固化反應）。Peltier 溫度裝置可以與溶劑冷阱結合使用，防止樣品蒸發和乾燥（用於塗層、塗料和食品流變學），或者藉由浸入選項來分析流體環境中的樣品特性。

也提供獲得專利 (AT525.752 B1) 的被動溫度裝置：可透過產生對流來提供精確的溫度控制，從而在不使用主動 Peltier 溫控元件的情況下最大限度地減少 0 °C 至 50 °C 範圍內的溫度梯度。