권장 결과

입자 특성

New horizons in particle analysis

입자를 더 잘 알수록, 물질의 거동을 더 잘 예측할 수 있습니다. 이러한 조사를 위해 측정하려는 파라미터에는 입자 크기, 기공 크기, 입자 형태, 내부 구조, 제타 전위, 표면적, 반응 영역, 밀도, 파우더 흐름 등이 포함됩니다. Anton Paar는 이러한 모든 파라미터와 그 외의 파라미터를 측정할 수 있는 기기를 제공합니다. 이는 전 세계의 단일 제공업체가 제공할 수 있는 가장 광범위한 입자 특성화 포트폴리오입니다.

하나의 접촉 지점에서 이 광범위한 포트폴리오뿐 아니라 10년간 축적된 이 분야의 전문지식을 활용할 수 있습니다.

기술, 파라미터, 장비: 귀사에 가장 적합한 장비를 찾아보십시오!

파라미터를 클릭하여 Anton Paar가 특정한 입자 특성화 분야에서 제공하는 기능을 알아보십시오. 그런 다음 표의 필터를 사용하여 특정 기술로 검색 범위를 좁히고 다양한 측정 범위에 대한 정보를 얻을 수 있습니다.

장비를 클릭하면 자세한 기능과 사양이 표시됩니다.

기공 크기
모든 장치 표시
입자 크기
모든 장치 표시
표면적
모든 장치 표시
시료 전처리
모든 장치 표시
밀도
모든 장치 표시
반응 영역
모든 장치 표시
증기 흡입
모든 장치 표시
셀 기공도
모든 장치 표시
입자 형태
모든 장치 표시
제타 전위
모든 장치 표시
파우더 흐름 특성
파우더 흐름 특성
가스 보관 용량
모든 장치 표시
측정
기술
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측정

기술

분산 유형

측정 범위
표면적 가스 수착 (BET), 동적 흐름 BET 분석 최소 측정 가능 표면적
0.1 m²/g
표면적, 기공 크기 가스 수착 표면적, 기공 크기
2nm~500nm(N 또는 Ar 사용 시)
0.35nm~2nm(C 포함 시료에 CO₂ 사용 시)
최소 측정 가능 표면적
0.1m²/g
표면적, 기공 크기 가스 수착(물리수착, 화학수착) 건식 기공 크기 범위
0.35nm~500nm
최소 측정 가능 표면적
0.0005m²/g(크립톤 사용 시), 0.01m²/g(N² 사용 시)
밀도 겉보기 밀도 건식 용량 범위
1cc
반응 영역 가스 수착(화학 수착) 건식
시료 전처리 진공 및 흐름 탈기 건식
가스 보관 용량 고압, 가스 수착 건식
입자 크기 동적 광 산란 습식 입자 크기 범위
0.3nm~10µm
입자 크기, 제타 전위 동적 광 산란, ELS(전기 영동 광 산란), SLS(정적 광 산란) 습식 입자 크기 범위
0.3nm~10µm
시료 전처리 진공, 흐름 탈기 건식
파우더 흐름 특성 다중 파우더 흐름 측정법 유변학 건식/습식 입자 크기 범위
5nm~5mm
밀도 가스 비중병 용량 범위
0.025cc
시료 전처리 대표 시료 채취 건식 용량 범위
20cc
표면적, 기공 크기 가스 수착 건식 기공 크기 범위
0.35nm~500nm/2nm~500nm(N 또는 Ar 사용 시)
0.35nm~2nm(C 포함 시료에 CO₂ 사용 시)
최소 측정 가능 표면적
0.01m²/g
셀 기공도 가스 비중병 건식 용량 범위
1cc
밀도 가스 비중병 건식 용량 범위
1cc
기공 크기 다공성 측정 장치 건식 용량 범위
0.05cc
기공 크기 범위
1100~0.0064µm
입자 크기 레이저 회절 건식/습식 입자 크기 범위
0.1μm(건식) 0.04μm(습식)~500μm
입자 크기 레이저 회절 건식/습식 입자 크기 범위
0.1μm(건식) 0.04μm(습식)~2500μm
입자 크기 레이저 회절 건식/습식 입자 크기 범위
0.3μm(건식) 0.2μm(습식)~500μm
표면적, 기공 크기 가스 수착 건식 기공 크기 범위
0.35nm~500nm
0.35nm~2nm(C 포함 시료에 CO₂ 사용 시)
최소 측정 가능 표면적
0.01m²/g, 0.0005m²/g
입자 크기, 입자 형태 및 내부 구조 SAXS, WAXS, GISAXS 건식/습식 입자 크기 범위/기공 크기 범위
< 1nm~105 nm(q 범위(Cu Kalpha)): 0.03nm⁻¹~41nm⁻¹)
입자 크기, 입자 형태 및 내부 구조 SAXS, WAXS, GISAXS 건식/습식 입자 크기 범위/기공 크기 범위
< 1nm~160nm(q 범위(Cu Kalpha)): 0.02nm⁻¹~41nm⁻¹)
셀 기공도 가스 비중병 건식 용량 범위
1cc
밀도 가스 비중병 건식 용량 범위
1cc
증기 흡입 증기 수착 건식
시료 전처리 진공 탈기 건식

Anton Paar의 입자 특성화 솔루션

입도 분석기

입자는 복잡할 수 있지만, 입자를 측정하는 일은 절대 복잡하지 않습니다! Litesizer 및 PSA 시리즈는 터치 버튼을 이용하여 입도를 측정하고 그 외의 많은 정보를 제공합니다.

  • Litesizer 시리즈: 더 낮은 나노미터부터 마이크로미터 범위까지의 입도분석을 위한 동적 광 산란은 제타 전위, 분자량, 투과율 및 굴절률 측정을 가능하게 합니다.
  • PSA 시리즈: 밀리미터 범위까지의 습식 및 건식 입자 크기 분석을 위한 레이저 회절
  • 자동 시료 주입이 가능한 전용 액세서리를 통해 유기 용매 속의 소량의 시료도 측정 가능
  • 입자에 집중: Kalliope 소프트웨어는 두 기기에 모두 사용이 가능하며 작업자 개입을 최소화함

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파우더 유변학

기존의 모든 유변학적 방법에 수십 년간의 경험이 더해져 과립형 매질 분야에 도입된 발전되고 실제적인 파우더 유변학:

  • 용도가 다양하며 강력한 파우더 레오미터로 업그레이드되는 유명한 MCR 레오미터의 높은 정밀도
  • 완전 자동화 측정 모드를 통한 높은 재현성
  • 품질 관리 및 과학적 목적을 위한 다양한 측정 모드
  • 교환 가능한 측정 시스템 및 유연한 소프트웨어로 호퍼 설계부터 분리 시험 및 최첨단의 유동층 유변 물성 측정까지 입자 특성화 평가를 제공

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흡착 분석기

흡착 분석에서는 지능적인 기기 설계와 고급 연산 데이터 축소 모델을 모두 결합하는 것이 중요:

  • 증기 흡착, 물리 흡착, 화학 흡착 및 고압 흡착을 위한 다양한 측정 기기
  • 다중 스테이션 분석 및 시료 전처리 옵션을 포함하는 완전 자동화 시스템
  • 기공 크기, 표면적, 촉매의 기체/고체 상호 작용, 제약, 배터리 물질, 흡착제 및 모든 기타 다공성 물질 분석에 적합
  • 기존의 복잡한 신소재에 대하여 세계적으로 유명한 데이터 축소 모델 및 빠른 측정 보고서

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수은 압입 기공률 분석기

다공성 물질의 기공 특성을 측정하는 데 가장 널리 사용되는 방법:

  • 수은으로 작업할 때에도 가장 안전한 작업자 환경을 제공하도록 설계됨
  • 단순화된 액체 수은 주입 및 자동 오일 충진과 같은 기능을 제공하며 가장 사용이 편리한 수은 압입 기공률 분석기인 PoreMaster
  • 스크류 나사를 통한 제어와 자동 속도 압력 생성 루틴을 통한 통찰력으로 완성되는 고압에서의 최고 데이터 분해능
  • 액체 수은 주입을 통한 저압 분석은 물론, 고압 분석 또한 일반적으로 30분 이내에 완료됨

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고체 밀도 분석기

사용 가능한 최고의 정확도로 한 출처에서 필요한 모든 고체 밀도 값 획득:

  • 진밀도, 탭밀도 및 기하학적 부피 밀도 측정이 가능한 기기에 대한 포트폴리오
  • 동급 최고: 가장 광범위한 측정 범위 전체에서 최고의 정확도 제공
  • 안전하고 비용 효율적: 기하학적 부피 밀도를 측정하는 데 필요한 액체 수은 없음
  • 비파괴 가스 피크노메트리: 불활성 및 고순도 가스와 작동

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SAXS 시스템

SAXSpace 및 SAXSpoint 2.0 소각 X-선 산란 시스템이 나노 입자 연구에 대한 탁월한 분해능과 최상의 데이터 품질 제공:

  • 최고 순도의 스펙트럼 및 플럭스를 위한 고광도 X-선 광원 및 광학
  • 높은 Signal-to-Noise·비율 및 뛰어난 데이터 품질을 위한 무산란 빔 조준 및 최첨단 하이브리드 광자 계수(HPC) 검출기
  • 온도 및 대기 조절 하에 입자 특성화를 위한 광범위한 시료 스테이지
  • 높은 가동률, 많은 시료 처리량 및 낮은 유지 관리 비용

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처음부터 전문가 수준의 분석 가능

Anton Paar의 광범위한 입자 특성화 포트폴리오의 많은 장비는 다음과 같은 한 가지 공통점을 갖고 있습니다. 즉, 동종 제품 중 최초로 개발되었으며 지금도 해당 분야의 대표적인 장비로 사용되고 있다는 점입니다. 예를 들어, 1967년에 발명된 PSA는 레이저 회절 기술을 사용하는 최초의 입자 크기 분석기였습니다. 1957년에 Otto Kratky가 개발한 최초의 상용 소각 X선 산란(SAXS) 카메라는 Anton Paar에서 제조되었습니다. Anton Paar SAXS 시스템은 지금도 이 기술 분야의 표준 제품으로 인정받고 있습니다. Anton Paar의 브랜드인 Quantachrome Instruments는 1968년부터 최고의 자리에 오르기 시작했습니다. 그 이후로부터 지금까지 과학자로 구성된 전담 팀이 사용자와 긴밀하게 협력하여 혁신 기술을 개발했으며, 그 결과 다공성 물질 및 파우더 측정을 위한 최상의 솔루션이 탄생했습니다.

입자 연구와 소재 개발을 위한 입자 특성화에 Anton Paar 전문지식을 사용하십시오.

Anton Paar는 다양한 특정 기기와 함께 광범위한 응용 분야 컨설팅과 응용 분야 정보를 제공합니다. 응용 분야 보고서, Anton Paar Wiki, Anton Paar 블로그, 웹세미나는 다음과 같은 입자 특성화 주제에 대한 전문적인 지식을 제공합니다. 

이러한 리소스와 Anton Paar의 오랜 입자 특성화 전문 지식을 사용하여 새로운 응용 분야를 살펴보고 생산, 품질 관리, 제품 개발에서 최적의 결과를 달성할 수 있습니다. 물론 장비 및 응용 분야에 대해 궁금한 사항이 있는 경우 Anton Paar에 직접 문의할 수 있습니다.

문의

Anton Paar 기술 센터에서 직접 체험해 보십시오.

Anton Paar의 장비를 실제로 체험해 보고 싶으십니까? Anton Paar의 기술 센터 중 한 곳에서 원하는 장비를 사용할 수 있는지 또는 해당 지역에서 입자 특성화 세미나가 계획되어 있는지 알아보십시오.

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