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Atomic Force Microscopes:
Tosca

Modell:
  • Spitzen-AFM für Einstiegsbudgets
  • Größter Probenträger im Preissegment (50 mm voll adressierbar)
  • Schnellster Messaufbau auf dem Markt (nur 3 min)
  • Scangröße von 15 µm in Z und 90 µm x 90 µm in X- und Y-Richtung
  • Cantilever-Austausch in weniger als 10 Sekunden
  • Alle Messmodi am selben Probenpunkt ohne Messkopfaustausch
  • Größter Probentisch im Preissegment (bis zu 200 mm für Wafer)
  • Äußerst effektive Hard- und Software-Automatisierung für Ihr AFM
  • Schnellster Messaufbau auf dem Markt (nur 3 min)
  • Cantilever-Austausch in weniger als 10 Sekunden
  • Alle Messmodi am selben Probenpunkt ohne Messkopfaustausch
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Ein Spitzen-Atomic Force Microscope (Rasterkraftmikroskop) für kleine Budgets: Mit dem schnellsten Messaufbau und dem größten Probenträger hält die Tosca-Serie mit dem Tempo Ihrer AFM-Nano-Oberflächenanalyse mühelos Schritt.

Tosca ist die erste Wahl für alle, die mit ihrem Innovationsgeist zur Entwicklung der nanotechnologischen Materialwissenschaft beitragen.

Für einen Messmoduswechsel den Messkopf austauschen? Das war gestern. Tosca-Rasterkraftmikroskope ermöglichen die Messung an genau derselben Stelle mit allen verfügbaren Messmodi kombiniert in einem Messkopf.

Alles über das Tosca-Care-Paket

Vorteile

Patentierte, intelligente Funktionen, die jeden Schritt des Atomic Force Microscope-Messverfahrens abdecken, sorgen für einen einzigartigen, hochgradig optimierten Arbeitsablauf. Sie erhalten 10-mal schnellere Ergebnisse im Vergleich zu herkömmlichen AFM-Systemen.

Anstatt tagelang die Bedienung des Rasterkraftmikroskops zu erlernen, beginnen Sie schon nach einer Stunde mit den ersten Messungen. Dank schnellem und sicherem Laden des Cantilevers innerhalb von Sekunden, einer automatischen Laserausrichtung, einer äußerst intuitiven Probennavigation und dem sichersten Annäherungsverfahren auf dem Markt sparen Sie wertvolle Zeit und können sich voll und ganz auf Ihre Forschungsergebnisse konzentrieren.

Die Bedienung des AFM erlernen
Die Bedienung des AFM erlernen
  • Die Schulung dauert nur 1 Stunde
  • 12 × schneller als bei herkömmlichen AFMs

Herausforderung

Ich möchte sofort loslegen. Wie viel Zeit muss ich einplanen, um den Umgang mit Tosca zu erlernen?

Lösung

Tosca AFM ist so einfach zu bedienen, dass die Schulung für die Standardmodi nur eine Stunde dauert.

Ihre Vorteile, Ihre Zeitersparnis

Mit Tosca können Sie Ihre erste Messung schon nach einer Stunde Schulung beginnen – anstatt nach 1,5 Tagen, wie bei herkömmlichen Rasterkraftmikroskopen.

Vorbereiten von Proben für die Messung
Vorbereiten von Proben für die Messung
  • Keine Probenvorbereitung nötig
  • Direkte und einfache Messung großer Proben
  • Probenträger: 100 mm Durchmesser (bis zu 200 mm Durchmesser für Wafer), 25 mm Höhe 

Herausforderung

Beim Zurechtschneiden von Proben können diese beschädigt oder verunreinigt werden. Was kann ich dagegen tun?

Lösung

Vergessen Sie die Probenvorbereitung und die damit verbundenen Risiken von Verunreinigung oder verfälschten Ergebnissen. Mit Tosca können Sie auch große Proben mit einer Höhe von bis zu 25 mm und einem Durchmesser von bis zu 100 mm unmittelbar messen.

Ihre Vorteile, Ihre Zeitersparnis

Mit Tosca AFM erhalten Sie genaueste Ergebnisse und können umständliche Vorbereitungsschritte überspringen. Zeitersparnis: je nach Probe bis zu 15 Minuten.

Laden des Cantilevers
Laden des Cantilevers
  • Positionieren Sie den Cantilever in nur 10 Sekunden
  • 100 % korrekte Justierung
  • Kein Abbrechen des Cantilevers

Herausforderung

Der Austausch und die Positionierung des Cantilevers ist kompliziert und zeitaufwendig. Gibt es einen besseren Weg?

Lösung

Verwenden Sie den patentierten Probemaster – damit lässt sich der Cantilever in nur 10 Sekunden mühelos austauschen.

PATENT: AT520313 (B1)

Ihre Vorteile & Zeitersparnis

Probemaster positioniert den Cantilever im Handumdrehen an der richtigen Stelle und verhindert Beschädigungen – für eine sichere und korrekte Ausrichtung.

Aufbringen von Proben
Aufbringen von Proben
  • Bringen Sie mehrere Proben auf, und messen Sie diese in einem einzigen Vorgang
  • Sparen Sie bis zu 20 Minuten bei wiederholtem Probenwechsel
  • Sichern Sie den Probenträger mit der magnetischen Verriegelung

Herausforderung

Kann ich mehrere Proben gleichzeitig aufbringen, um den Prozess zu optimieren?

Lösung

Bringen Sie mehrere Proben auf und messen Sie diese in einem einzigen Vorgang. Die patentierte Tosca-Magnetverriegelung gewährleistet eine stabile Positionierung der Proben.

PATENT: AT515951 (B1)

Ihre Vorteile & Zeitersparnis

Befestigen Sie die Proben auf dem großen Probenträger am Ort ihrer Wahl – auf eine stabile Positionierung der Proben ist absolut Verlass. Messen Sie mehrere Proben in einem Schritt. Zeitersparnis: Je nach Benutzerin bzw. Benutzer bis zu 20 Minuten pro Probe.

Laserausrichtung
Laserausrichtung
  • Vollautomatische Laserausrichtung in 5 Sekunden
  • Nur zwei Mausklicks in der Software

Herausforderung

Die manuelle Ausrichtung des Lasers ist ein umständlicher Vorgang, der Einiges an Erfahrung erfordert. Gibt es eine Alternative?

Lösung

Tosca bietet eine vollautomatische Laserausrichtung in 5 Sekunden.

PATENT: AT520419 (B1)

Ihre Vorteile & Zeitersparnis

Mit der automatischen Laserausrichtungsfunktion von Tosca gehören mühselige und zeitraubende Ausrichtungsvorgänge der Vergangenheit an. Nur zwei Klicks in der Software und der Laser ist ausgerichtet. Zeitersparnis: bis zu 5 Minuten pro Ausrichtung.

Annäherung
Annäherung
  • Die patentierte Seitenkamera zeigt Ihnen die genaue Position des Cantilevers über der Oberfläche
  • Sichere und schnelle Annäherung
  • Keine Gefahr einer Kollision mit dem Messkopf

Herausforderung

Die Annäherung ist alles andere als einfach und erfordert größtmögliche Vorsicht. Wie lässt sich eine Kollision des Messkopfes angesichts komplexer Geometrien, transparenter Proben sowie in Glas eingebetteter Proben umgehen?

Lösung

Die patentierte Seitenansichtskamera von Tosca bietet den sichersten und einfachsten Annäherungsvorgang auf dem Markt.

PATENT: EP3324194B1  

Ihre Vorteile & Zeitersparnis

In der horizontalen Ansicht des Cantilevers über der Probenoberfläche können Sie die Annäherung visuell überwachen. Zeitersparnis: Je nach Probe und Benutzerin bzw. Benutzer 5 bis 10 Minuten mit deutlich geringerem Störungsrisiko.

Navigation
Navigation
  • Drei Kameras zeigen die Probe auf allen Ebenen
  • Einfach anklicken und in die cm-, µm- oder nm-Skalenansicht wechseln
  • Sparen Sie 5 bis 10 Minuten pro Messung

Herausforderung

Es braucht oft viel Zeit und Geduld, jenen Bereich der Probe zu finden, der gemessen werden soll. Wie kann ich dieses Verfahren optimieren?

Lösung

Das Tosca-Rasterkraftmikroskop bietet eine intuitive Click-and-Move-Navigation: Klicken Sie einfach auf den gewünschten Bereich, um sofort automatisch zu navigieren, anstatt wertvolle Zeit für die manuelle Positionierung aufzuwenden.

Ihre Vorteile & Zeitersparnis

Die Navigation erfordert nur einen einzigen Mausklick, von großem Maßstab in cm über µm bis hin zu nm – mit drei integrierten Kameras. Eingesparte Zeit: 5 bis 10 Minuten pro Messung bei müheloser Handhabung.

Datenauswertung
Datenauswertung
  • Rohdaten werden stets aufbewahrt und die Auswirkungen aller Analyseschritte werden nachverfolgt
  • Vorlagen und Batch-Analyse
  • Berichte sind in 5 Sekunden fertig

Herausforderung

Ich benötige eine Analysesoftware mit diversen Analysemöglichkeiten und -vorlagen. Zudem muss ich alle Analyseschritte nachvollziehen.

Lösung

Mit den Tosca AFM-Analysevorlagen erhalten Sie vollständige Berichte binnen weniger Sekunden. Jeder einzelne Analysevorgang wird aufgezeichnet, sodass Sie die Verarbeitung der Rohdaten jederzeit rückverfolgen können.

Ihre Vorteile & Zeitersparnis

Sie müssen lediglich die Rohdaten sowie verschiedene Daten aus Batch-Messungen laden, und der Bericht ist innerhalb von 5 Sekunden fertig. Zeitersparnis: Bis zu 20 Minuten pro Analysebericht

Polymer-Probe
  • Kontaktresonanzamplituden-Bildgebung
  • Bildgröße 10 µm x 10 µm
  • Auflösung 500 px x 500 px

Details

PMMA/SBS-Polymermischung Überlagerung von Topographie und mechanischen Eigenschaften Bildgröße 10 µm x 10 µm, Auflösung 500 px x 500 px

Modus

Kontaktresonanzamplituden-Bildgebung

Forschungsthema

Die Verteilung der beiden Polymere bestimmt die mechanischen Eigenschaften dünner Schichten. Der CRAI-Modus wird sowohl für die Topografie als auch für die Phasenanalyse verwendet.

Nanofaserprobe
  • Intermittierender Modus
  • Bildgröße 25 µm x 25 µm
  • Auflösung 1000 px x 1000 px

Details

Fasernetz aus Polycaprolacton (PCL) Hochauflösendes topografisches Bild zur Auswertung kritischer Dimensionen Bildgröße 25 µm x 25 µm, Auflösung 1000 px x 1000 px

Modus

Intermittierender Modus

Forschungsthema

PCL-Nanofasern sind ein vielversprechendes Material für verschiedene biomedizinische Anwendungen. Die Topographieanalyse zeigt den Durchmesser der Nanofasern zwischen 80 nm und 400 nm.

Mikroelektronik-Probe
  • Leitfähigkeits-Rasterkraftmikroskopie
  • Bildgröße 564 nm x 564 nm
  • Auflösung 400 px x 400 px

Details

Mikroelektronische Bauelemente bestehend aus leitfähigen Oxidpartikeln in einer isolierenden Glasmatrix. Überlagerung von Topographie und lokaler Stromverteilung Bildgröße 564 nm x 564 nm, Auflösung 400 px x 400 px.

Modus

Leitfähigkeits-Rasterkraftmikroskopie

Forschungsthema

C-AFM kann zur Identifizierung von elektrischen Schwachstellen in dielektrischen Beschichtungen oder zur Abbildung der Leiterbahn in einem mikroelektronischen Bauteil oder in Materialien für Elektroden verwendet werden.

Polierte Waferprobe
  • Intermittierender Modus
  • Bildgröße 1 µm x 1 µm
  • Auflösung 500 px x 500 px

Details

(100)-orientierte Oberfläche des Siliziumwafers Hochauflösendes topografisches Bild zur Auswertung der Oberflächenrauheit Bildgröße 1 µm x1 µm, Auflösung 500 px x 500 px, RMS-Oberflächenrauheit 137 pm

Modus

Intermittierender Modus

Forschungsthema

Die Oberflächenrauheit von Wafern ist ein wichtiger Qualitätsparameter für die nachfolgenden Prozesse der Mikrostrukturierung. AFM-Systeme müssen in der Lage sein, die Oberfläche von hochpolierten Materialien mit sehr geringer Oberflächenrauheit im Bereich von 150 pm abzubilden – und zwar mit hoher Qualität und Zuverlässigkeit. 

Quantenpunkte-Probe
  • Intermittierender Modus
  • Bildgröße 1200 nm x 750 nm
  • Auflösung 800 px x 800 px

Details

Selbst zusammengestellte Indiumarsenid (InAs)-Quantenpunkte (QD) in Galliumarsenid (GaAs), die auf einer (100)-orientierten Oberfläche eines Galliumarsenid-Wafers gewachsen sind. Hochauflösendes topografisches Bild zur Auswertung der Maße und der Querverteilung der QDs. Bildgröße 1200 nm x 750 nm, Auflösung 800 px x 800 px.

Modus

Intermittierender Modus

Forschungsthema

Quantenpunkte (QD) sind aufgrund ihrer möglichen zukünftigen Anwendung in der Elektronik und Digitalisierung Gegenstand einer intensiven Erforschung. Die Abmessungen der einzelnen QD und die laterale Verteilung sind wichtige Informationen für den Produktionsprozess. Die im Bild sichtbaren Stufen sind die atomaren Stufen des GaAs-Substratmaterials, mit einer individuellen Stufenhöhe von ca. 280 pm.

Technische Daten

Tosca 400 Tosca 200
Scanner
X-Y-Scanbereich 100 µm x 100 µm 50 µm x 50 µm*
Z-Scanbereich 15 µm 10 µm**
Z-Sensor-Rauschen 50 pm***
Max. Rastergeschwindigkeit 10 Linien/Sekunde 5 Linien/Sekunde
Probe
Max. Probendurchmesser 100 mm (200 mm****) 50 mm
Max. Probenhöhe 25 mm (2 mm****)
Max. Probengewicht <600 g
Positionswiederholungsgenauigkeit
(uni-direktional)
<1 µm
Videomikroskop
Kamera Farbe, 5 Megapixel, CMOS-Sensor
Sichtfeld 1,73 mm x 1,73 mm
Räumliche Auflösung 5 µm
Fokus Motorgesteuerter Fokus
Übersichtskamera
Kamera Farbe, 5 Megapixel, CMOS-Sensor
Sichtfeld 40 mm x 40 mm
Räumliche Auflösung 50 µm
Seitenansichtkamera
Seitenansichtkamera Schwarzweiß, Sichtfeld 30 mm
Modi
Standardmodi Kontakt-Modus, intermittierender Modus (inklusive Phasenbild), Lateralkraftmikroskopie, Kraft-Abstand-Kurve
Optionale Modi Kontaktresonanzamplituden-Bildgebung, Magnetkraftmikroskopie, Kelvinsondenkraftmikroskopie, elektrostatische Kraftmikroskopie, Leitfähigkeits-Rasterkraftmikroskopie, Leitfähigkeits-Rasterkraftmikroskopie mit Stromsteuerung
Abmessungen und Gewicht
Größe (L x B x H), AFM-Einheit 490 mm x 410 mm x 505 mm
Größe (L x B x H), Controller 340 mm x 305 mm x 280 mm
Gewicht AFM-Einheit 51,1 kg
Gewicht, Controller 7,8 kg

* optionales Upgrade auf 90 µm x 90 µm

** optionales Upgrade auf 12 µm oder 15 µm

*** Durchschnittswert der produzierten Aktuatoreinheit; Maximalwert 80 pm

**** bei Verwendung des Wafer Stage (optional)

Tosca ist ein eingetragenes Warenzeichen (013412143) von Anton Paar.

Anton Paar Certified Service

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Dokumente

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Zubehör

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AFM-Software:
Tosca Control und Tosca Analysis

Kompatibel mit:
Tosca 200 | 400
Weitere Informationen
Lieferzeit: %1$s – %2$s Arbeitstage %1$s – %2$s Wochen %1$s – %2$s Monate

Cantilever-Wechselwerkzeug für Tosca AFM:
Probemaster

Kompatibel mit:
Tosca 200 | 400
Lieferzeit: %1$s – %2$s Arbeitstage %1$s – %2$s Wochen %1$s – %2$s Monate
Produktdetails
  • Einfacher, sicherer Cantilevererwechsel in 10 Sekunden
  • Automatische, 100 % korrekte Ausrichtung
  • Kein Cantileverbruch durch Handhabungsfehler

Weitere Informationen

Zubehör für Tosca 400 AFM:
Wafer Stage

Kompatibel mit:
Tosca 200 | 400
Lieferzeit: %1$s – %2$s Arbeitstage %1$s – %2$s Wochen %1$s – %2$s Monate
Produktdetails
  • Für 4-, 6- und 8-Zoll-Waffeln
  • Vollständig adressierbarer Wafer-Stage
  • Konzipiert für die Wafer-Handhabung mit einer Vakuum-Pinzette
  • Automatisierte Mehrfachmessungen

Weitere Informationen

Zubehör für Tosca AFM:
Akustikhaube

Kompatibel mit:
Tosca 200 | 400
Lieferzeit: %1$s – %2$s Arbeitstage %1$s – %2$s Wochen %1$s – %2$s Monate
Produktdetails
  • Schützt das Tosca AFM gegen Umgebungslärm
  • Akustische Dämpfung bis zu 40 dB

Weitere Informationen

Zubehör für Tosca AFM:
Schwingungsisolation

Kompatibel mit:
Tosca 200 | 400
Lieferzeit: %1$s – %2$s Arbeitstage %1$s – %2$s Wochen %1$s – %2$s Monate
Produktdetails
  • Leistung bis zu -40 dB, bei 10 Hz - Isolierung von 99,0 % der Schwingungen
  • Isolierende Wirkung beginnt bei 0,6 Hz
  • Automatische Lastanpassung
  • Keine Druckluft erforderlich

Weitere Informationen